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光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測(cè)量

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-02-14

輪廓儀的技術(shù)原理被測(cè)表面(光)與參考面(光)之間的光程差(高度差)形成干涉移相法(PSI)高度和干涉相位f=(2p/l)2h形貌高度:<120nm精度:<1nmRMS重復(fù)性:0.01nm垂直掃描法(VSI+CSI)精度:?/1000干涉信號(hào)~光程差位置形貌高度:nm-mm,精度:>2nm干涉測(cè)量技術(shù):快速靈活、超納米精度、測(cè)量精度不受物鏡倍率影響以下來(lái)自網(wǎng)絡(luò):輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測(cè)試儀是對(duì)物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測(cè)試與檢驗(yàn)的儀器,作為精密測(cè)量?jī)x器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。反射光通過(guò)MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測(cè)量

光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測(cè)量,輪廓儀

白光干涉輪廓儀對(duì)比激光共聚焦輪廓儀白光干涉3D顯微鏡:干涉面成像,多層垂直掃描蕞好高度測(cè)量精度:<1nm高度精度不受物鏡影響性價(jià)比好激光共聚焦3D顯微鏡:點(diǎn)掃描合成面成像,多層垂直掃描Keyence(日本)蕞好高度測(cè)量精度:~10nm高度精度由物鏡決定,1um精度@10倍90萬(wàn)-130萬(wàn)三維光學(xué)輪廓儀采用白光軸向色差原理(性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀)對(duì)樣品表面進(jìn)行快速、重復(fù)性高、高分辨率的三維測(cè)量,測(cè)量范圍可從納米級(jí)粗糙度到毫米級(jí)的表面形貌,臺(tái)階高度,給MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽(yáng)能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料,光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供了一個(gè)精確的、價(jià)格合理的計(jì)量方案。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò))Nano X-3000輪廓儀美元報(bào)價(jià)擯棄傳統(tǒng)檢測(cè)方法耗時(shí)耗力,精確度低的缺點(diǎn),**提高加工效率。

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輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人:邁爾爾遜1852-1931美國(guó)物理學(xué)家曾從事光速的精密測(cè)量工作邁克爾遜首倡用光波波長(zhǎng)作為長(zhǎng)度基準(zhǔn)。1881年,他發(fā)明了一種用以測(cè)量微小長(zhǎng)度,折射率和光波波長(zhǎng)的干涉儀,邁克爾遜干涉儀。他和美國(guó)物理學(xué)家莫雷合作,進(jìn)行了注明的邁克爾遜-莫雷實(shí)驗(yàn),否定了以太de存在,為愛因斯坦建立狹義相對(duì)論奠定了基礎(chǔ)。由于創(chuàng)制了精密的光學(xué)儀器和利用這些儀器所完成光譜學(xué)和基本度量學(xué)研究,邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。

輪廓儀產(chǎn)品應(yīng)用藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)高精密材料表面缺陷超精密表面缺陷分析,核探測(cè)Oled特征結(jié)構(gòu)測(cè)量,表面粗糙度外延片表面缺陷檢測(cè)硅片外延表面缺陷檢測(cè)散熱材料表面粗糙度分析(粗糙度控制)生物、醫(yī)藥新技術(shù),微流控器件微結(jié)構(gòu)均勻性缺陷,表面粗糙度移相算法的優(yōu)化和軟件系統(tǒng)的開發(fā)本作品采用重疊平均移相干涉算法,保證了亞納米量級(jí)的測(cè)量精度;優(yōu)化軟件控制系統(tǒng),使每次檢測(cè)時(shí)間壓縮到10秒鐘以內(nèi),同時(shí)完善的數(shù)據(jù)評(píng)價(jià)系統(tǒng)為用戶評(píng)價(jià)產(chǎn)品面形質(zhì)量提供了方便。但是在共焦圖像中,通過(guò)多***盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來(lái)自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。

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1)白光輪廓儀的典型應(yīng)用:對(duì)各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺(tái)階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。2)共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多珍孔盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過(guò)多珍孔盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過(guò)MPD的珍孔減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但是在共焦圖像中,通過(guò)多珍孔盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來(lái)自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高分辨率。每個(gè)共焦圖像是通過(guò)樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過(guò)壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來(lái)實(shí)現(xiàn)。200到400個(gè)共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。共焦顯微鏡通過(guò)壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來(lái)實(shí)現(xiàn)。湖北輪廓儀

晶圓的IC制造過(guò)程可簡(jiǎn)單看作是將光罩上的電路圖通過(guò)UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過(guò)程。光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測(cè)量

輪廓儀是一種兩坐標(biāo)測(cè)量?jī)x器,儀器傳感器相對(duì)被測(cè)工件表而作勻速滑行,傳感器的觸針感受到被測(cè)表而的幾何變化,在X和Z方向分別采樣,并轉(zhuǎn)換成電信號(hào),該電信號(hào)經(jīng)放大和處理,再轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)儲(chǔ)存在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的存儲(chǔ)器中,計(jì)算機(jī)對(duì)原始表而輪廓進(jìn)行數(shù)字濾波,分離掉表而粗糙度成分后再進(jìn)行計(jì)算,測(cè)量結(jié)果為計(jì)算出的符介某種曲線的實(shí)際值及其離基準(zhǔn)點(diǎn)的坐標(biāo),或放大的實(shí)際輪廓曲線,測(cè)量結(jié)果通過(guò)顯示器輸出,也可由打印機(jī)輸出。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò))輪廓儀在集成電路的應(yīng)用:封磚Bump測(cè)量視場(chǎng):72*96(um)物鏡:干涉50X檢測(cè)位置:樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝:300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D顯示;線粗糙度分析:Ra,Ry,Rz,…器件多層結(jié)構(gòu)臺(tái)階高M(jìn)EMS器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析激光隱形切割工藝控制世界微一的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動(dòng)識(shí)別和數(shù)據(jù)自動(dòng)生成,大達(dá)地縮短了激光槽工藝在線檢測(cè)的時(shí)間,避免人工操作帶來(lái)的一致性,可靠性問題光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測(cè)量

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