1.5.系統(tǒng)培訓的注意事項如何使用電子書閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊；數(shù)據(jù)采集功能的講解：通訊端口、連接計算器、等待時間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設(shè)置；實際演示一一講解；如何做好備份和恢復備份資料；當場演示各種報表的操作并進行操作解說；數(shù)據(jù)庫文件應定時作備份，大變動時更應做好備份以防止系統(tǒng)重新安裝時造成資料數(shù)據(jù)庫的流失；在系統(tǒng)培訓過程中如要輸入一些臨時數(shù)據(jù)應在培訓結(jié)束后及時刪除這些資料。備注：系統(tǒng)培訓完成后應請顧客詳細閱讀軟件操作手冊，并留下公司“客戶服務中心”的電話與個人名片，以方便顧客電話聯(lián)系咨詢。擯棄傳統(tǒng)檢測方法耗時耗力，精確度低的缺點，**提高加工效率。湖北輪廓儀出廠價

NanoX-80003D輪廓測量主要技術(shù)參數(shù)3D測量主要技術(shù)指標（1）：測量模式：PSI+VSI+CSIZ軸測量范圍：大行程PZT掃描（300um標配/500um選配）10mm精密電機拓展掃描CCD相機：1920x1200高速相機（標配）干涉物鏡：2.5X,5X,10X（標配）,20X,50X,100X(NIKON)物鏡切換：5孔電動鼻切換FOV：1100x700um(10X物鏡),220x140um(50X物鏡)Z軸聚焦：高精密直線平臺自動聚焦照明系統(tǒng)：高效長壽白光LED+濾色鏡片電動切換（綠色/藍色）傾斜調(diào)節(jié)：±5°電動調(diào)節(jié)橫向分辨率：≥0.35μm（與所配物鏡有關(guān)）3D測量主要技術(shù)指標（2）：垂直掃描速度：PSI:<10s，VSI/CSI：<38um/s高度測量范圍：0.1nm–10mm表面反射率：>0.5%測量精度:PSI:垂直分辨率<0.1nm準確度<1nmRMS重復性<0.01nm(1σ)臺階高重復性：0.15nm(1σ)VSI/CSI：垂直分辨率<0.5nm準確度<1%重復性<0.1%(1σ，10um臺階高)臺積電輪廓儀代理商NanoX-8000的VSI/CSI：垂直分辨率 < 0.5nm ；準確度<1% ；重復性<0.1% (1σ，10um臺階高)。

輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸，典型結(jié)果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺階高度，錐角等）幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集體，特征圖形的位置和數(shù)量等）白光干涉系統(tǒng)基于無限遠顯微鏡系統(tǒng)，通過干涉物鏡產(chǎn)生干涉條紋，使基本的光學顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x。因此物鏡是輪廓儀蕞河心的部件，物鏡的選擇根據(jù)功能和檢測的精度提出需求，為了滿足各種精度的需求，需要提供各種物鏡，例如標配的10×，還有2.5×，5×，20×，50×，100×，可選。不同的鏡頭價格有很大的差別，因此需要量力根據(jù)需求選配對應的鏡頭哦。

強大的輪廓儀光電一體軟件美國硅谷研發(fā)、中英文自由切換光機電一體化軟硬件集成三維分析處理迅速，結(jié)果實時更新縮放、定位、平移、旋轉(zhuǎn)等三維圖像處理自主設(shè)定測量閾值，三維處理自動標注測量模式可根據(jù)需求自由切換三維圖像支持高清打印菜單式參數(shù)設(shè)置，一鍵式操作，人機界面?zhèn)€性直觀個性化軟件應用支持可進行軟件在線升級和遠程支持服務10年硅谷世界500強研發(fā)經(jīng)驗（BDMedicalInstrument）光學測量、軟件系統(tǒng)岱美儀器將為您提供全程的服務。傳統(tǒng)光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節(jié).

   比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強度，使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因為不涉及任何移動設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺階高度，錐角等）。廣東輪廓儀干涉測量應用

NanoX-8000隔振系統(tǒng)：集成氣浮隔振 + 大理石基石。湖北輪廓儀出廠價

NanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置，一鍵式操作，自動數(shù)據(jù)存儲?一鍵式系統(tǒng)校準?支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導入SPC?具備異常報警，急停等功能，報警信息可儲存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點（移動+聚焦+測量）（掃描范圍50um）?具備Globalalignment&Unitalignment?自動聚焦范圍：±0.3mm?XY運動速度蕞快如果需要了解更多詳細參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務有限公司。我們主要經(jīng)營鍵合機、光刻機、輪廓儀，隔振臺等設(shè)備。湖北輪廓儀出廠價

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā)，發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大。目前我公司在職員工以90后為主，是一個有活力有能力有創(chuàng)新精神的團隊。公司業(yè)務范圍主要包括：半導體工藝設(shè)備，半導體測量設(shè)備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀等。公司奉行顧客至上、質(zhì)量為本的經(jīng)營宗旨，深受客戶好評。公司力求給客戶提供全數(shù)良好服務，我們相信誠實正直、開拓進取地為公司發(fā)展做正確的事情，將為公司和個人帶來共同的利益和進步。經(jīng)過幾年的發(fā)展，已成為半導體工藝設(shè)備，半導體測量設(shè)備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀行業(yè)出名企業(yè)。