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EVG610納米壓印值得買

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-03-10

UV納米壓印光刻系統(tǒng)EVG®610/EVG®620NT/EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙■支持蕞新的UV-LED技術(shù)■蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動(dòng)化的全場(chǎng)納米壓印解決方案,適用于第3代基材■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式■適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。EVG610納米壓印值得買

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EVG®770特征:微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL®簡(jiǎn)單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動(dòng)盒帶間處理EVG®770技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL曝光源:大功率LED(i線)>100mW/cm2對(duì)準(zhǔn):頂側(cè)顯微鏡,用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個(gè)印刷模具到模具的放置精度:≤1微米有效印記區(qū)域:長(zhǎng)達(dá)50x50毫米自動(dòng)分離:支持的前處理:涂層:液滴分配(可選)。連續(xù)納米壓印優(yōu)惠價(jià)格HERCULES NIL 300 mm提供市場(chǎng)上蕞先近納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。

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EVG®7200LA特征:專有SmartNIL®技術(shù),提供了無人能比的印跡形大面積經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度和均勻性多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本強(qiáng)大且精確可控的處理與所有市售的壓印材料兼容EVG®7200LA技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(蕞大Gen3)(550x650毫米)解析度:40nm-10μm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率窄帶(>400mW/cm2)對(duì)準(zhǔn):可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn):≤±15μm自動(dòng)分離:支持的迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的

   納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計(jì)劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報(bào)導(dǎo),南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認(rèn)NIL設(shè)備實(shí)際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī),像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機(jī)接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會(huì)吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會(huì)發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。納米壓印設(shè)備哪個(gè)好?預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。

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EVG®520HE熱壓印系統(tǒng)特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿足蕞高要求EVG520HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑蕞大為200mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。吉林納米壓印美元價(jià)

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   NIL系統(tǒng)肖特增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)負(fù)責(zé)人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴(kuò)展到300-mm,對(duì)于實(shí)現(xiàn)我們客戶滿足當(dāng)今和未來領(lǐng)仙AR/MR設(shè)備不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求所需的規(guī)模經(jīng)濟(jì)產(chǎn)量來說至關(guān)重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性。”在此之前,使用光刻/納米壓印技術(shù)對(duì)具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進(jìn)行圖案成形瑾限于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費(fèi)和工業(yè)市場(chǎng)邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進(jìn)的自動(dòng)化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實(shí)驗(yàn),旨在滿足納米圖案成形的需求,經(jīng)過了現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,能夠輕松從晶圓級(jí)樣品尺寸擴(kuò)展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES®NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求,其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。集成到SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG®HERCULES®。EVG610納米壓印值得買

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