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官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印國內(nèi)用戶

來源: 發(fā)布時間:2022-03-13

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最大直徑150mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EVGroup專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力,以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。EVG610特征:頂部和底部對準(zhǔn)能力高精度對準(zhǔn)臺自動楔形誤差補償機(jī)制電動和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版附加功能:鍵對準(zhǔn)紅外對準(zhǔn)納米壓印光刻μ接觸印刷EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù),具有非常高的復(fù)制精度,可用于蕞小50 nm的特征尺寸。官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印國內(nèi)用戶

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IQAligner®:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用■用于全場納米壓印應(yīng)用■三個獨力控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償■粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能紫外線壓印_紫外線固化印章防紫外線基材附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。μ-接觸印刷軟印章基板上的材料領(lǐng)取物料,物料轉(zhuǎn)移,刪除印章重慶納米壓印競爭力怎么樣EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

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EVG®510HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)。

EVGroup的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù),對于尺寸低至50nm的特征,其復(fù)制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準(zhǔn)的組合可將熱壓紋與預(yù)處理的基板結(jié)構(gòu)對準(zhǔn)。這個系列包含的型號有:EVG®510HE,EVG®520HE。

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法,因為它不受光學(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供蕞佳圖案保真度nm)結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實現(xiàn)無人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。

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EVG®770特征:微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL®簡單實施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配,壓印和脫模過程中的實時圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補償可選的自動盒帶間處理EVG®770技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL曝光源:大功率LED(i線)>100mW/cm2對準(zhǔn):頂側(cè)顯微鏡,用于實時重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個印刷模具到模具的放置精度:≤1微米有效印記區(qū)域:長達(dá)50x50毫米自動分離:支持的前處理:涂層:液滴分配(可選)。分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。貴州納米壓印中芯在用嗎

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印國內(nèi)用戶

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)無人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印國內(nèi)用戶

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊不斷壯大。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,以不斷增強企業(yè)重點競爭力,加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,實現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營。公司以誠信為本,業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測量儀,我們本著對客戶負(fù)責(zé),對員工負(fù)責(zé),更是對公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度,爭取做到讓每位客戶滿意。一直以來公司堅持以客戶為中心、半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測量儀市場為導(dǎo)向,重信譽,保質(zhì)量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。