NanoX-80003D輪廓測量主要技術參數(shù)3D測量主要技術指標(1):測量模式:PSI+VSI+CSIZ軸測量范圍:大行程PZT掃描(300um標配/500um選配)10mm精密電機拓展掃描CCD相機:1920x1200高速相機(標配)干涉物鏡:2.5X,5X,10X(標配),20X,50X,100X(NIKON)物鏡切換:5孔電動鼻切換FOV:1100x700um(10X物鏡),220x140um(50X物鏡)Z軸聚焦:高精密直線平臺自動聚焦照明系統(tǒng):高效長壽白光LED+濾色鏡片電動切換(綠色/藍色)傾斜調節(jié):±5°電動調節(jié)橫向分辨率:≥0.35μm(與所配物鏡有關)3D測量主要技術指標(2):垂直掃描速度:PSI:<10s,VSI/CSI:<38um/s高度測量范圍:0.1nm–10mm表面反射率:>0.5%測量精度:PSI:垂直分辨率<0.1nm準確度<1nmRMS重復性<0.01nm(1σ)臺階高重復性:0.15nm(1σ)VSI/CSI:垂直分辨率<0.5nm準確度<1%重復性<0.1%(1σ,10um臺階高)具備異常報警,急停等功能,報警信息可儲存。北京輪廓儀技術原理
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術在成本,復雜度,和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強度,使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(絕大多數(shù)薄膜都是旋轉對稱)。因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。晶圓片輪廓儀可以免稅嗎擯棄傳統(tǒng)檢測方法耗時耗力,精確度低的缺點,大達提高加工效率。
NanoX-2000/3000系列3D光學干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術的基礎上,以其納米級測量準確度和重復性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。使用范圍廣:兼容多種測量和觀察需求保護性:非接觸式光學輪廓儀耐用性更強,使用無損可操作性:一鍵式操作,操作更簡單,更方便
輪廓儀的自動拼接功能:條件:被測區(qū)域明顯大于視場的區(qū)域,使用自動圖片拼接。需要點擊自動拼接,輪廓儀會把移動路徑上的拍圖自動拼接起來。軟件會自適應計算路徑上移動的偏差,自動消除移動中偏差,減小誤差。但是誤差是一定存在的。白光輪廓儀的典型應用:對各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。儀器運用高性能內(nèi)部抗震設計,不受外部環(huán)境影響測量的準確性。
蕞大視場Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野,其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應用時切換多個物鏡的需要,更進一步減少總體成本。手動式物鏡轉盤能一次搭載四組物鏡,能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測量應用。索取技術資料索取報價性能規(guī)格厚度范圍,WSI50nm-10mm厚度范圍,PSI0-3μm樣品反射率範圍-100 %電腦要求機械規(guī)格Z范圍100mmPiezo(壓電)范圍500μmXY平臺類型手動或自動XY平臺范圍100mmx100mm相機2592x1944(5百萬像素)系統(tǒng)尺寸,寬x深x高300mmx300mmx550mm系統(tǒng)重量15kg物鏡1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X視場xmmxmmxmmxmmxmm采樣空間2μmμmμmμmμm1分別出售2樣本上之像素大小常見的選購配件:urionNano30主動式防震臺4微米,2微米,和100納米多臺階高度標準。輪廓儀可用于藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)。安徽中科院輪廓儀
晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程。北京輪廓儀技術原理
NanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設置,一鍵式操作,自動數(shù)據(jù)存儲?一鍵式系統(tǒng)校準?支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導入SPC?具備異常報警,急停等功能,報警信息可儲存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點(移動+聚焦+測量)(掃描范圍50um)?具備Globalalignment&Unitalignment?自動聚焦范圍:±0.3mm?XY運動速度蕞快表面三維微觀形貌測量的意義在生產(chǎn)中,表面三維微觀形貌對工程零件的許多技術性能的評家具有蕞直接的影響,而且表面三維評定參數(shù)由于能更權面,更真實的反應零件表面的特征及衡量表面的質量而越來越受到重視,因此表面三維微觀形貌的測量就越顯重要。通過兌三維形貌的測量可以比較權面的評定表面質量的優(yōu)劣,進而確認加工方法的好壞以及設計要求的合理性,這樣就可以反過來通過知道加工,優(yōu)化加工工藝以及加工出高質量的表面,確保零件使用功能的實現(xiàn)。表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富,通??煞譃榻佑|時和非接觸時兩種,其中以非接觸式測量方法為主。北京輪廓儀技術原理
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