F30包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點測量平臺FILMeasure8反射率測量軟件Si參考材料FILMeasure度力軟件(用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫,隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一-周五）網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃型號厚度范圍*波長范圍F3-s980:10μm-1mm960-1000nmF3-s1310:15μm-2mm1280-1340nmF3-s1550:25μm-3mm1520-1580nm*取決于薄膜種類。幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動測繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。防反射涂層膜厚儀高性價比選擇

F10-ARc:走在前端以較低的價格現(xiàn)在可以很容易地測量曲面樣品，包括眼鏡和其他光學(xué)鏡片的防反射涂層,瑾需其他設(shè)備一小部分的的價格就能在幾秒內(nèi)得到精確的色彩讀值和反射率測量.您也可選擇升級薄膜厚度測量軟件,操作上并不需要嚴(yán)格的訓(xùn)練,您甚至可以直覺的藉由設(shè)定任何波長范圍之蕞大,蕞小和平均值.去定義顏色和反射率的合格標(biāo)準(zhǔn).容易設(shè)定.易於維護(hù).只需將F10-ARc插上到您計算機(jī)的USB端口,感謝Filmetrics的創(chuàng)新,F10-ARc幾乎不存在停機(jī)時間,加上40,000小時壽命的光源和自動板上波長校準(zhǔn)，你不需擔(dān)心維護(hù)問題。Filmetrics F32sX膜厚儀醫(yī)療設(shè)備可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。

備用光源：LAMP-TH1-5PAK：F10、F20、F30、F40、F50、和F60系統(tǒng)的非紫外光源。5個/盒。1200小時平均無故障。LAMP-TH：F42F42系統(tǒng)的光源。1000小時平均無故障。LAMP-THF60：F60系統(tǒng)的光源。1000小時平均無故障。LAMP-THF80：F80系統(tǒng)的光源。1000小時平均無故障。LAMP-D2-L10290：L10290氘光源。2007年到2014年F20-UV的使用者。LAMP-TH-L10290：L10290鎢鹵素光源。2007年到2014年F20-UV的使用者。LAMP-D2-LS和DT2：LS和DT2光源需更換氘燈,而鹵素?zé)艄庠葱韪鼡Q使用LAMP-TH1-5PAK.

厚度標(biāo)準(zhǔn)：所有Filmetrics厚度標(biāo)準(zhǔn)都是得到驗證可追溯的NIST標(biāo)準(zhǔn)。S-Custom-NIST：在客戶提供的樣品上定制可追溯的NIST厚度校準(zhǔn)。TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si：厚度標(biāo)準(zhǔn)，外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn)，厚度大約3100A，4"晶圓。TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si：厚度標(biāo)準(zhǔn)，外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn)，厚度大約10000A，4"晶圓。TS-Hardcoat-4μm：丙烯酸塑料硬涂層厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約4um，直徑2"。TS-Hardcoat-Trans：背面透明的硬涂層，可用于透射測量。TS-Parylene-4um：丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約4um，直徑2"。TS-Parylene-8um：硅基上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約8um，23mmx23mm。TS-SiO2-4-7200：硅基上的二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約7200A，4"晶圓。TS-SiO2-4-7200-NIST：可追溯的NISTSiO2-4-7200厚度標(biāo)準(zhǔn)。TS-SiO2-6-Multi：多厚度硅基上的二氧化硅標(biāo)準(zhǔn):125埃米，250埃米，500埃米，1000埃米，5000埃米，和10000埃米(+/-10%誤差)，6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000：專為SS-3樣品平臺設(shè)計之二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn)片,厚度大約為8000A。一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。

F54自動化薄膜測繪FilmetricsF54系列的產(chǎn)品能以一個電動R-Theta平臺自動移動到選定的測量點以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度,樣品直徑達(dá)450毫米可選擇數(shù)十種內(nèi)建之同心圓,矩形,或線性圖案模式,或自行建立無數(shù)量限制之測量點.瑾需具備基本電腦技能的任何人可在數(shù)分鐘內(nèi)自行建立配方F54自動化薄膜測繪只需聯(lián)結(jié)設(shè)備到您運行Windows?系統(tǒng)計算機(jī)的USB端口,可在幾分鐘輕松設(shè)置不同的型號主要是由厚度和波長范圍作為區(qū)別。通常較薄的膜需要較短波長作測量(如F54-UV)用來測量較薄的膜,而較長的波長可以用來測量更厚，更粗糙，或更不透明的薄膜可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。干涉膜厚儀合理價格

只需按下一個按鈕，您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。防反射涂層膜厚儀高性價比選擇

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的，必須有精確的厚度測量。測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。Filmetrics設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù)，并且“一鍵”出結(jié)果。測量范例多晶硅被廣范用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變，這些特性隨之改變，所以準(zhǔn)確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間，加入二氧化硅層，以增加光學(xué)對比，其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。防反射涂層膜厚儀高性價比選擇

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是以提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測量儀為主的其他有限責(zé)任公司，公司始建于2002-02-07，在全國各個地區(qū)建立了良好的商貿(mào)渠道和技術(shù)協(xié)作關(guān)系。公司承擔(dān)并建設(shè)完成儀器儀表多項重點項目，取得了明顯的社會和經(jīng)濟(jì)效益。多年來，已經(jīng)為我國儀器儀表行業(yè)生產(chǎn)、經(jīng)濟(jì)等的發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn)。