NanoX-80003D輪廓測量主要技術參數(shù)3D測量主要技術指標（1）：測量模式：PSI+VSI+CSIZ軸測量范圍：大行程PZT掃描（300um標配/500um選配）10mm精密電機拓展掃描CCD相機：1920x1200高速相機（標配）干涉物鏡：（標配）,20X,50X,100X(NIKON)物鏡切換：5孔電動鼻切換FOV：1100x700um(10X物鏡),220x140um(50X物鏡)Z軸聚焦：高精密直線平臺自動聚焦照明系統(tǒng)：高效長壽白光LED+濾色鏡片電動切換（綠色/藍色）傾斜調節(jié)：±5°電動調節(jié)橫向分辨率：≥μm（與所配物鏡有關）3D測量主要技術指標（2）：垂直掃描速度：PSI:<10s，VSI/CSI：<38um/s高度測量范圍：–10mm表面反射率：>(1σ)臺階高重復性：(1σ)VSI/CSI：垂直分辨率<(1σ，10um臺階高)。光學系統(tǒng)：同軸照明無限遠干涉成像系統(tǒng)。NanoX-8000輪廓儀聯(lián)系電話

NanoX-系列產品PCB測量應用測試案例測量種類?基板ASoldMask3D形貌、尺寸?基板ASoldMask粗糙度?基板A綠油區(qū)域3D形貌?基板A綠油區(qū)域Pad粗糙度?基板A綠油區(qū)域粗糙度?基板A綠油區(qū)域pad寬度?基板ATrace3D形貌和尺寸?基板B背面PadNanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設置，一鍵式操作，自動數(shù)據(jù)存儲?一鍵式系統(tǒng)校準?支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導入SPC?具備異常報警，急停等功能，報警信息可儲存?MTBF≥1500hrs?產能:45s/點（移動+聚焦+測量）（掃描范圍50um）?具備Globalalignment&Unitalignment?自動聚焦范圍：±0.3mm?XY運動速度蕞快晶圓片輪廓儀有誰在用菜單式系統(tǒng)設置，一鍵式操作，自動數(shù)據(jù)存儲。

輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關鍵參數(shù)和尺寸，典型結果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺階高度，錐角等）幾何特征（關鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集體，特征圖形的位置和數(shù)量等）白光干涉系統(tǒng)基于無限遠顯微鏡系統(tǒng)，通過干涉物鏡產生干涉條紋，使基本的光學顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x。因此物鏡是輪廓儀蕞河心的部件，物鏡的選擇根據(jù)功能和檢測的精度提出需求，為了滿足各種精度的需求，需要提供各種物鏡，例如標配的10×，還有2.5×，5×，20×，50×，100×，可選。不同的鏡頭價格會有很大的差別，因此需要量力根據(jù)需求選配對應的鏡頭哦。

系統(tǒng)培訓的注意事項如何使用電子書閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊；數(shù)據(jù)采集功能的講解：通訊端口、連接計算器、等待時間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設置；實際演示一一講解；如何做好備份和恢復備份資料；當場演示各種報表的操作并進行操作解說；數(shù)據(jù)庫文件應定時作備份，大變動時更應做好備份以防止系統(tǒng)重新安裝時造成資料數(shù)據(jù)庫的流失；在系統(tǒng)培訓過程中如要輸入一些臨時數(shù)據(jù)應在培訓結束后及時刪除這些資料。備注：系統(tǒng)培訓完成后應請顧客詳細閱讀軟件操作手冊，并留下公司“客戶服務中心”的電話與個人名片，以方便顧客電話聯(lián)系咨詢。共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內獲得高 分辨率。

關于三坐標測量輪廓度及粗糙度三坐標測量機是不能測量粗糙度的，至于測量零件的表面輪廓，要視三坐標的測量精度及零件表面輪廓度的要求了，如果你的三坐標測量機精度比較高，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標來代替的。一般三坐標精度都在2-3um左右，而輪廓儀都在2um以內，還有就是三坐標可以測量大尺寸零件的輪廓，因為它有龍門式三坐標和關節(jié)臂三坐標，而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的，加上粗糙度模塊也可以進行測量粗糙度。表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富，通?？煞譃榻佑|時和非接觸時兩種，其中以非接觸式測量方法為主。美國輪廓儀摩擦學應用

輪廓儀可用于：微結構均勻性 缺 陷，表面粗糙度。NanoX-8000輪廓儀聯(lián)系電話

比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術在成本，復雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強度，使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉對稱）。因為不涉及任何移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選，而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。NanoX-8000輪廓儀聯(lián)系電話

岱美儀器技術服務（上海）有限公司在半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀一直在同行業(yè)中處于較強地位，無論是產品還是服務，其高水平的能力始終貫穿于其中。岱美中國是我國儀器儀表技術的研究和標準制定的重要參與者和貢獻者。公司承擔并建設完成儀器儀表多項重點項目，取得了明顯的社會和經(jīng)濟效益。多年來，已經(jīng)為我國儀器儀表行業(yè)生產、經(jīng)濟等的發(fā)展做出了重要貢獻。