對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現(xiàn)高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能:
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產品線。襯底納米壓印自動化測量
SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,可用于顯示器,生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新。例如,SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印,以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化,以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備的生產。此外,SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能,**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現(xiàn)衍射光學元件(DOE)至關重要。
特征:
體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術
經過生產驗證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對準能力
室溫過程
開放式材料平臺 掩模對準納米壓印EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。
其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個國家和地區(qū)設有生產基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名,2017/2018財年的銷售額為??偛课挥诘聡酪虼牡哪腹維CHOTTAG由卡爾蔡司基金會(CarlZeissFoundation)全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史**悠久的私立基金會之一,同時也是德國規(guī)模比較大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司,肖特對其員工,社會和環(huán)境負有特殊責任。關于EV集團(EVG)EV集團(EVG)是為半導體、微機電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導體、功率器件和納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。其主要產品包括:晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓?。∟IL)與計量設備,以及涂膠機、清洗機和檢測系統(tǒng)。EV集團成立于1980年,可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網絡提供各類服務與支持。SmartNIL,NILPhotonics及EVGroup標識是EVGroup的注冊商標,SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊商標。(來自網絡。
納米壓印應用二:面板尺寸的大面積納米壓印
EVG專有的且經過大量證明的SmartNIL技術的***進展,已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上實現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術和光子元件等應用,至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法,因為它不受光學系統(tǒng)的限制,并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。
分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。
客戶示范
■工藝開發(fā)
■材料測試
■與合作伙伴共同研發(fā)
■資助項目
■小批量試生產
■IP管理
■過程技術許可證
■流程培訓
→世界前列的潔凈室基礎設施
→**的設備
→技術**
→**計量
→工藝知識
→應用知識
→與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業(yè)知識
新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。
岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。襯底納米壓印自動化測量
EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。襯底納米壓印自動化測量
UV納米壓印光刻系統(tǒng)
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)
■高精度對準臺
■自動楔形誤差補償機制
■電動和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術
■**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材
■體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術
■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作
■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺
襯底納米壓印自動化測量