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Filmetrics F60膜厚儀合理價(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-07

樣品視頻包括硬件和照相機(jī)的F20系統(tǒng)視頻。視頻實(shí)時(shí)顯示精確測(cè)量點(diǎn)。 不包括SS-3平臺(tái)。SampleCam-sXsX探頭攝像機(jī)包含改裝的sX探頭光學(xué)配件,但不包含平臺(tái)。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺(tái),具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺(tái)。能夠升級(jí)成電動(dòng)測(cè)繪與自動(dòng)對(duì)焦。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動(dòng)樣品平臺(tái)。可以進(jìn)行100mm高精度XY平移,包括自動(dòng)焦距調(diào)節(jié)。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡(15倍反射式物鏡)及X-Y平臺(tái)。 包含UV光源與照明光纖。SS-Microscope- EXR-1顯微鏡包含X- Y平臺(tái)及照明光纖. 需另選購(gòu)物鏡. 通常使用顯微鏡內(nèi)建照明。SS-Trans-Curved用于平坦或彎曲表面的透射平臺(tái),包括光纖,和 F10-AR 一起使用。 波長(zhǎng)范圍 250nm -2500nm。T-1SS-3 平臺(tái)的透射測(cè)量可選件。包括光纖、平臺(tái)轉(zhuǎn)接器和平臺(tái)支架。 用于平坦的樣品。WS-300用于小于 300mm 樣品的平移旋轉(zhuǎn)平臺(tái)。采用Michaelson干涉方法,紅外波段的激光能更好的穿透被測(cè)物體,準(zhǔn)確得到測(cè)試結(jié)果。Filmetrics F60膜厚儀合理價(jià)格

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電介質(zhì)成千上萬(wàn)的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。常見(jiàn)的電介質(zhì)有:二氧化硅 – ZUI簡(jiǎn)單的材料之一, 主要是因?yàn)樗诖蟛糠止庾V上的無(wú)吸收性 (k=0), 而且非常接近化學(xué)計(jì)量 (就是說(shuō),硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長(zhǎng)的二氧化硅對(duì)光譜反應(yīng)規(guī)范,通常被用來(lái)做厚度和折射率標(biāo)準(zhǔn)。 Filmetrics能測(cè)量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對(duì)此薄膜的測(cè)量比很多電介質(zhì)困難,因?yàn)楣瑁旱嚷释ǔ2皇?:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時(shí)測(cè)量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測(cè)量難度。 但是幸運(yùn)的是,我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測(cè)量氮化硅薄膜完整特征!多層膜膜厚儀國(guó)內(nèi)代理膜厚儀是一種用于測(cè)量薄膜或涂層的厚度的儀器。

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非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,在兩級(jí)之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對(duì)不同沉積條件是獨(dú)特的,必須有精確的厚度測(cè)量。測(cè)量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。Filmetrics設(shè)備提供的復(fù)雜的測(cè)量程序同時(shí)測(cè)量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù),并且“一鍵”出結(jié)果。測(cè)量范例多晶硅被廣范用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準(zhǔn)確地測(cè)量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對(duì)比,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測(cè)得。F20可以很容易地測(cè)量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來(lái)測(cè)量多晶硅薄膜光學(xué)特性。

更可加裝至三個(gè)探頭,同時(shí)測(cè)量三個(gè)樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)可供選擇。F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來(lái)測(cè)量微小樣品。F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái),由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過(guò)快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。F70:瑾通過(guò)在F20基本平臺(tái)上增加鏡頭,使用Filmetrics*新的顏色編碼厚度測(cè)量法(CTM),把設(shè)備的測(cè)量范圍極大的拓展至。F10-RT:在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測(cè)量,特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測(cè)量。PARTS:在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測(cè)量。**膜厚測(cè)量?jī)x系統(tǒng)F20使用F20**分光計(jì)系統(tǒng)可以簡(jiǎn)便快速的測(cè)量厚度和光學(xué)參數(shù)(n和k)。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過(guò)薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個(gè)桌面系統(tǒng)組裝起來(lái)。F20包括所有測(cè)量需要的部件:分光計(jì)、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭集和和Windows下運(yùn)行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。膜層實(shí)例幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測(cè)。包括:sio2(二氧化硅)sinx(氮化硅)dlc(類金剛石碳)photoresist。測(cè)量方式: 紅外干涉(非接觸式)。

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1、激光測(cè)厚儀是利用激光的反射原理,根據(jù)光切法測(cè)量和觀察機(jī)械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來(lái)測(cè)量產(chǎn)品的厚度,是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)測(cè)量?jī)x器。它可直接輸出數(shù)字信號(hào)與工業(yè)計(jì)算機(jī)相連接,并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。2、X射線測(cè)厚儀利用X射線穿透被測(cè)材料時(shí),X射線的強(qiáng)度的變化與材料的厚度相關(guān)的特性,滄州歐譜從而測(cè)定材料的厚度,是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)計(jì)量?jī)x器。它以PLC和工業(yè)計(jì)算機(jī)為和新,采集計(jì)算數(shù)據(jù)并輸出目標(biāo)偏差值給軋機(jī)厚度控制系統(tǒng),達(dá)到要求的軋制厚度。主要應(yīng)用行業(yè):有色金屬的板帶箔加工、冶金行業(yè)的板帶加工。3、紙張測(cè)厚儀:適用于4mm以下的各種薄膜、紙張、紙板以及其他片狀材料厚度的測(cè)量。4、薄膜測(cè)厚儀:用于測(cè)定薄膜、薄片等材料的厚度,測(cè)量范圍寬、測(cè)量精度高,具有數(shù)據(jù)輸出、任意位置置零、公英制轉(zhuǎn)換、自動(dòng)斷電等特點(diǎn)。5、涂層測(cè)厚儀:用于測(cè)量鐵及非鐵金屬基體上涂層的厚度.6、超聲波測(cè)厚儀:超聲波測(cè)厚儀是根據(jù)超聲波脈沖反射原理來(lái)進(jìn)行厚度測(cè)量的,當(dāng)探頭發(fā)射的超聲波脈沖通過(guò)被測(cè)物體到達(dá)材料分界面時(shí),脈沖被反射回探頭,通過(guò)精確測(cè)量超聲波在材料中傳播的時(shí)間來(lái)確定被測(cè)材料的厚度。基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測(cè)量。多層膜膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

可測(cè)量的層數(shù): 通常能夠測(cè)量薄膜堆內(nèi)的三層獨(dú)力薄膜。 在某些情況下,能夠測(cè)量到十幾層。Filmetrics F60膜厚儀合理價(jià)格

F20系列是世界上蕞**的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),只需按下一個(gè)按鈕,不到一秒鐘即可同時(shí)測(cè)量厚度和折射率。設(shè)置也非常簡(jiǎn)單,只需把設(shè)備連接到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)USB端口,并連接樣品平臺(tái)就可以了。F20系列不同型號(hào)的選擇,主要取決于您需要測(cè)量的薄膜厚度(確定所需的波長(zhǎng)范圍)。型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm1440-1690nm*取決于薄膜種類Filmetrics膜厚測(cè)試儀通過(guò)分析薄膜的反射光譜來(lái)測(cè)量薄膜的厚度,通過(guò)非可見(jiàn)光的測(cè)量,可以測(cè)量薄至1nm或厚至13mm的薄膜。測(cè)量結(jié)果可在幾秒鐘顯示:薄膜厚度、顏色、折射率甚至是表面粗糙度。1.有五種不同波長(zhǎng)選擇(波長(zhǎng)范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)2.蕞大樣品薄膜厚度的測(cè)量范圍是:3nm~25um3.精度高于、氧化物、氮化物;、Polyimides;3.光電鍍膜應(yīng)用:硬化膜、抗反射膜、濾波片。1.光源有壽命,不用時(shí)請(qǐng)關(guān)閉2.光纖易損,不要彎折,不要頻繁插拔3.精密儀器。Filmetrics F60膜厚儀合理價(jià)格