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安徽光刻機供應商家

來源: 發(fā)布時間:2024-08-12

EVG6200NT附加功能:鍵對準紅外對準納米壓印光刻(NIL)EVG6200NT技術數據:曝光源汞光源/紫外線LED光源先進的對準功能手動對準/原位對準驗證自動對準動態(tài)對準/自動邊緣對準對準偏移校正算法EVG6200NT產能:全自動:弟一批生產量:每小時180片全自動:吞吐量對準:每小時140片晶圓晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米對準方式:上側對準:≤±0.5μm底側對準:≤±1,0μm紅外校準:≤±2,0μm/具體取決于基板材料鍵對準:≤±2,0μmNIL對準:≤±3.0μm曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償:全自動軟件控制曝光選項:間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理納米壓印光刻技術:SmartNIL在全球范圍內,我們?yōu)樵S多用戶提供了量產型的光刻機系統(tǒng),并得到了他們的無數好評。安徽光刻機供應商家

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EVG®610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補償全自動軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達100/150/200毫米;曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項:間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進的對準功能:手動對準/原位對準驗證手動交叉校正大間隙對準;EVG®610光刻機系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術是“無紫外線”。重慶光刻機有哪些品牌EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內提供服務。

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EVG®120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)EVG

®120是用于當潔凈室空間有限,需要生產一種緊湊的,節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設計,并帶有新開發(fā)的化學柜,可用于外部存儲化學品,同時提供更高的通量能力,針對大批量客戶需求進行了優(yōu)化,并準備在大批量生產(HVM)中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處,這是其他任何工具所無法比擬的,并保證了ZUI高的質量各個應用領域的標準,擁有成本卻非常低。

掩模對準系統(tǒng):EVG的發(fā)明,例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統(tǒng),開創(chuàng)了頂面和雙面光刻,對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,并設定了行業(yè)標準。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器產品來增強這些核欣光刻技術,從而在這些領域做出了貢獻。EVG的掩模對準系統(tǒng)可容納尺寸蕞大,尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板,旨在為高級應用提供先進的自動化程度和研發(fā)靈活性的復雜解決方案。EVG的掩模對準器和工藝能力已經過現(xiàn)場驗證,并已安裝在全球的生產設施中,以支持眾多應用,包括高級封裝,化合物半導體,功率器件,LED,傳感器和MEMS制造。我們可以根據您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。

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這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復的處理。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經驗,并將這些知識技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。光刻膠處理設備有:EVG101光刻膠處理,EVG105光刻膠烘焙機,EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng);EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng)。如果您需要了解每個型號的特點和參數,請聯(lián)系我們,我們會給您提供蕞新的資料?;蛘咴L問我們的官網獲取相關信息??梢栽贓VG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。西藏掩模對準光刻機

EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經過客戶現(xiàn)場驗證,安裝并集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中。安徽光刻機供應商家

EVG也提供量產型掩模對準系統(tǒng)。對于在微米范圍內的光刻圖形,掩模對準器是ZUI具成本效益的技術,與其他解決方案相比,每層可節(jié)省30%以上的成本,這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以ZUI佳的成本效率與ZUI高的技術標準相結合,并由卓YUE的全球服務基礎設施提供支持。ZUI重要的是,大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產中的厚抗蝕劑,表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內,我們?yōu)樵S多客戶提供了量產型的光刻機系統(tǒng),得到了他們的無數好評。安徽光刻機供應商家