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面板廠為補(bǔ)償較低的開(kāi)口率,多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程,可確保適當(dāng)?shù)拈_(kāi)口率,降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經(jīng)過(guò)數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長(zhǎng),經(jīng)過(guò)多次曝光后,在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙,無(wú)法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程,偏光膜企業(yè)的營(yíng)收可能減少。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。廣西納米壓印競(jìng)爭(zhēng)力怎么樣
EVG®770的特征:微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL®簡(jiǎn)單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配,壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動(dòng)盒帶間處理EVG®770技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL曝光源:大功率LED(i線)>100mW/cm2對(duì)準(zhǔn):頂側(cè)顯微鏡,用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個(gè)印刷模具到模具的放置精度:≤1微米有效印記區(qū)域:長(zhǎng)達(dá)50x50毫米自動(dòng)分離:支持的前處理:涂層:液滴分配(可選)。EVG510 HE納米壓印供應(yīng)商家EVG?610和EVG?620NT / EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。
該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶的專門(mén)需求,公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整,使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路 德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商,總部位于德國(guó)慕尼黑附近的Windach。在美國(guó)、中國(guó)、新加坡及日本均設(shè)有子公司。2019財(cái)政年,公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車、消費(fèi)類電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過(guò)一半的汽車上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門(mén)子以及索尼等。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為生產(chǎn)半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)(NIL)與計(jì)量設(shè)備,,以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)與檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)創(chuàng)辦于1980年,可為遍及全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務(wù)與支持。
EVG®510HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)。EVGroup的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù),對(duì)于尺寸低至50nm的特征,其復(fù)制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對(duì)準(zhǔn)的組合可將熱壓紋與預(yù)處理的基板結(jié)構(gòu)對(duì)準(zhǔn)。這個(gè)系列包含的型號(hào)有:EVG®510HE,EVG®520HE。SmartNIL可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人能比的吞吐量。
EVG®610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),從碎片到ZUI大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間瑾為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。EVG510 HE納米壓印供應(yīng)商家
EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因?yàn)樗赞┬〉恼嘉幻娣e提供了蕞新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。廣西納米壓印競(jìng)爭(zhēng)力怎么樣
EVG®770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。將鉆石車削或直接寫(xiě)入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,完整的過(guò)程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。廣西納米壓印競(jìng)爭(zhēng)力怎么樣