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芯片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

來源: 發(fā)布時間:2024-12-06

輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,典型結(jié)果包括:表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺階高度,錐角等)幾何特征(關(guān)鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和集體,特征圖形的位置和數(shù)量等)白光干涉系統(tǒng)基于無限遠(yuǎn)顯微鏡系統(tǒng),通過干涉物鏡產(chǎn)生干涉條紋,使基本的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x。因此物鏡是輪廓儀蕞河心的部件,物鏡的選擇根據(jù)功能和檢測的精度提出需求,為了滿足各種精度的需求,需要提供各種物鏡,例如標(biāo)配的10×,還有2.5×,5×,20×,50×,100×,可選。不同的鏡頭價格有很大的差別,因此需要量力根據(jù)需求選配對應(yīng)的鏡頭哦。共焦顯微鏡通過壓電驅(qū)動器和物鏡的精確垂直位移來實現(xiàn)。芯片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

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2)共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多真孔盤、帶有壓電驅(qū)動器的物鏡和CCD相機。LED光源通過多真孔盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的真孔減小到聚焦的部分落在CCD相機上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但是在共焦圖像中,通過多真孔盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高分辨率。每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅(qū)動器和物鏡的精確垂直位移來實現(xiàn)。200到400個共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。襯底輪廓儀廠家每個共焦圖像是通過樣品形貌的水平切片,在不同的焦點高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊。

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我們應(yīng)該如何正確使用輪廓儀?一、準(zhǔn)備工作1.測量前準(zhǔn)備。2.開啟電腦、打開機器電源開關(guān)、檢查機器啟動是否正常。3.擦凈工件被測表面。二、測量1.將測針正確、平穩(wěn)、可靠地移動在工件被測表面上。2.工件固定確認(rèn)工件不會出現(xiàn)松動或者其它因素導(dǎo)致測針與工件相撞的情況出現(xiàn)3.在儀器上設(shè)置所需的測量條件。4.開始測量。測量過程中不可觸摸工件更不可人為震動桌子的情況產(chǎn)生。5.測量完畢,根據(jù)圖紙對結(jié)果進行分析,標(biāo)出結(jié)果,并保存、打印。

關(guān)于三坐標(biāo)測量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測量機是不能測量粗糙度的,至于測量零件的表面輪廓,要視三坐標(biāo)的測量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標(biāo)測量機精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標(biāo)來代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um以內(nèi),還有就是三坐標(biāo)可以測量大尺寸零件的輪廓,因為它有龍門式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo),而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的,加上粗糙度模塊也可以測量粗糙度。隔振系統(tǒng):集成氣浮隔振 + 大理石基石。

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輪廓儀的技術(shù)原理被測表面(光)與參考面(光)之間的光程差(高度差)形成干涉移相法(PSI)高度和干涉相位f=(2p/l)2h形貌高度:<120nm精度:<1nmRMS重復(fù)性:0.01nm垂直掃描法(VSI+CSI)精度:?/1000干涉信號~光程差位置形貌高度:nm-mm,精度:>2nm干涉測量技術(shù):快速靈活、超納米精度、測量精度不受物鏡倍率影響以下來自網(wǎng)絡(luò):輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進行測試與檢驗的儀器,作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。光學(xué)系統(tǒng):同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)。碳化硅輪廓儀可以免稅嗎

我們的表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富,通??煞譃榻佑|時和非接觸時兩種,以非接觸式測量方法為主。芯片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

輪廓儀產(chǎn)品概述:NanoX-2000/3000系列3D光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級測量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。想要了解更多的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器。芯片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用