納米壓印設(shè)備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設(shè)備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。

EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。襯底納米壓印特點

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

臺積電納米壓印EVG ? 610也可以設(shè)計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。

       通過中心提供的試驗生產(chǎn)線基礎(chǔ)設(shè)施，WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現(xiàn)的價格提供高性能，商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)方面的專業(yè)知識，到2019年，AR終端用戶產(chǎn)品將以不到600美元的價格進入市場，這是當今行業(yè)中的*低價位。

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應對*復雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?！?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：

新應用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源：EVG EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。半導體設(shè)備納米壓印代理商

EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。襯底納米壓印特點

IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章

襯底納米壓印特點