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晶圓片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-02

如何正確使用輪廓儀

準(zhǔn)備工作

1.測量前準(zhǔn)備。

2.開啟電腦、打開機(jī)器電源開關(guān)、檢查機(jī)器啟動(dòng)是否正常。

3.擦凈工件被測表面。

測量

1.將測針正確、平穩(wěn)、可靠地移動(dòng)在工件被測表面上。

2.工件固定確認(rèn)工件不會(huì)出現(xiàn)松動(dòng)或者其它因素導(dǎo)致測針與工件相撞的情況出現(xiàn)

3.在儀器上設(shè)置所需的測量條件。

4.開始測量。測量過程中不可觸摸工件更不可人為震動(dòng)桌子的情況產(chǎn)生。

5.測量完畢,根據(jù)圖紙對(duì)結(jié)果進(jìn)行分析,標(biāo)出結(jié)果,并保存、打印。


輪廓的角度處理:  

角度處理:兩直線夾角、直線與Y軸夾角、直線與X軸夾角點(diǎn)線處理:兩直線交點(diǎn)、交點(diǎn)到直線距離、交點(diǎn)到交點(diǎn)距離、交點(diǎn)到圓心距離、交點(diǎn)到點(diǎn)距離圓處理:圓心距離、圓心到直線的距離、交點(diǎn)到圓心的距離、直線到切點(diǎn)的距離線處理:直線度、凸度、LG凸度、對(duì)數(shù)曲線


輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應(yīng)用。晶圓片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

晶圓片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用,輪廓儀

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本,復(fù)雜度,和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度,使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(yīng)(絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱)。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優(yōu)先,而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術(shù)都可用。而且具有快速,簡便,成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。半導(dǎo)體輪廓儀免稅價(jià)格反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。

晶圓片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用,輪廓儀

NanoX-系列輪廓儀**性客戶

? 集成電路相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 集成電路先進(jìn)封裝和材料:華天科技,通富微電子,江蘇納佩斯

半導(dǎo)體,華潤安盛等

? MEMS相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 中科院蘇州納米所,中科電子46所,華東光電集成器件等

? 高 效太陽能電池相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 常州億晶光電,中國臺(tái)灣速位科技、山東衡力新能源等

? 微電子、FPD、PCB等產(chǎn)業(yè)

– 三星電機(jī)、京東方、深圳夏瑞科技等  



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輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測試儀是對(duì)物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測試與檢驗(yàn)的儀器,作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分***。(來自網(wǎng)絡(luò))



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所有的關(guān)鍵硬件采用美國、德國、日本等 

PI ,納米移動(dòng)平臺(tái)及控制

Nikon,干涉物鏡

NI,信號(hào)控制板和Labview64

控制軟件

TMC 隔震平臺(tái)

世界先進(jìn)水平的計(jì)算機(jī)軟硬件技術(shù)平臺(tái)


VS2012/64位,.NET/C#/WPF

Intel Xeon 計(jì)算機(jī)


NanoX-8000主設(shè)備尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。重慶襯底輪廓儀

NanoX-2000/3000 系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光。晶圓片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性:

通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測,得出物件的誤差和超差參數(shù),**提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”,造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離,**終導(dǎo)致整個(gè)生產(chǎn)鏈更大的損失。

二、提高效率:

智能化檢測,全自動(dòng)測量,檢測時(shí)只需將物件放置在載物臺(tái),然后在檢定軟件上選擇相關(guān)參數(shù),即可一鍵分析批量測量。擯棄傳統(tǒng)檢測方法耗時(shí)耗力,精確度低的缺點(diǎn),**提高加工效率。 晶圓片輪廓儀輪廓測量應(yīng)用