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納米壓印有誰(shuí)在用

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-09-27

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果:

新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個(gè)像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來(lái)源:EVG與SwissLitho

AG合作(歐盟項(xiàng)目SNM)

2.通過(guò)熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來(lái)源:EVG

3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列

由加拿大國(guó)家研究委 員會(huì)提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層,厚度約為10 nm

資料來(lái)源:EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來(lái)源:EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來(lái)源:EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級(jí)封裝

資料來(lái)源:EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來(lái)源:EVG(歐盟Saphely項(xiàng)目)

10.在強(qiáng)光照射下對(duì)HRISmartNIL®烙印進(jìn)行完整的晶圓照相

資料來(lái)源:EVG 岱美儀器代理的SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。納米壓印有誰(shuí)在用

納米壓印有誰(shuí)在用,納米壓印

    NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開(kāi)放式的創(chuàng)新孵化器,從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開(kāi)發(fā)周期和上市時(shí)間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價(jià)值,不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開(kāi)發(fā),還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場(chǎng)中的采用。我們正在攜手肖特開(kāi)展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)?!盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá),支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用,視野更廣,高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎(jiǎng)(SIDDisplayIndustryAward2019)。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的**國(guó)際技術(shù)集團(tuán)。公司積累了超過(guò)130年的經(jīng)驗(yàn),是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。海南納米壓印免稅價(jià)格 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法。

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EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹:

EV Group是納米壓印光刻(NIL)的市場(chǎng)**設(shè)備供應(yīng)商。EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過(guò)多年的研究,開(kāi)發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。


    ”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說(shuō),“通過(guò)與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,例如DELO,我們能夠進(jìn)一步提高效率,作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級(jí)光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場(chǎng)**企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗(yàn),”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說(shuō)道?!巴ㄟ^(guò)合作,我們將提供自己獨(dú)特的技術(shù),將晶圓級(jí)工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中,EVG也成為我們***產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級(jí)光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級(jí)光學(xué)器件解決方案為移動(dòng)式消費(fèi)電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備。主要的例子是:3D感應(yīng),飛行時(shí)間,結(jié)構(gòu)光,生物特征身份認(rèn)證,面部識(shí)別,虹膜掃描,光學(xué)指紋,頻譜檢測(cè),環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明,光地毯,平視顯示器,車內(nèi)感應(yīng),激光雷達(dá),內(nèi)窺鏡照相機(jī)醫(yī)學(xué)成像,眼科設(shè)備與手術(shù)機(jī)器人。EVG的晶圓級(jí)光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機(jī)上找到。EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

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EVG610特征:

頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版


EVG610附加功能:

鍵對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸)

標(biāo)準(zhǔn)光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動(dòng)分離:不支持

工作印章制作:外部


EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)。EVG520 HE納米壓印值得買

EVG系統(tǒng)是客戶進(jìn)行大批量晶圓級(jí)鏡頭復(fù)制(制造)的***選擇。納米壓印有誰(shuí)在用

納米壓印光刻(NIL)技術(shù)

EVG是納米壓印光刻(NIL)設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。


其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細(xì)的參數(shù),請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。


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