【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之灰點(diǎn)臟】： 現(xiàn)象：鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些電子（不是膜料點(diǎn)），有些可擦除，有些不能擦除。并且會有點(diǎn)狀脫膜產(chǎn)生。 原因： 1. 真空室臟 2. 鏡圈或碟片臟 3. 鏡片上傘時就有灰塵點(diǎn)，上傘時沒有檢查挑選。 4. 鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點(diǎn)的主要成因，特別是當(dāng)鏡片熱的時候，更容易吸附灰塵，而且難以擦除。 改善思路：杜絕灰塵源 1. 工作環(huán)境改造成潔凈車間，嚴(yán)格按潔凈車間規(guī)范實(shí)施。 2. 盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺。 3. 真空室周期打掃，保持清潔。 真空鍍膜設(shè)備品牌有很多，你如何選擇？貴州真空鍍膜設(shè)備哪家好

【真空鍍膜二極濺射與磁控濺射對比】： 靶材利用率（TU）：是指發(fā)生濺射的靶材質(zhì)量占原靶材質(zhì)量的比率。 公式表示：靶材利用率={原靶材質(zhì)量（Kg）—濺射后靶材質(zhì)量}/原靶材質(zhì)量 注：①：磁控濺射靶材利用率稍低，電壓要求低，電流會高，濺射率提高，增加生產(chǎn)效率，降低成本。 ②：靶材使用壽命結(jié)素之前必須及時更換新靶材，防止靶材周圍物質(zhì)發(fā)生濺射（金屬箔片、連接片、陰極） 兩種濺射技術(shù)的區(qū)別： ①：靶材利用率不同 ②：濺射腔室和陰極設(shè)計(jì)要求不同 ③：放電電流和放電電壓不同 ④：濺射率不同：磁控濺射有更短的沉積時間，更高的沉積量和更短沉積周期。云南小型真空鍍膜設(shè)備廣東真空鍍膜設(shè)備廠家。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】： 現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕。 可能成因有： 1. 膜結(jié)構(gòu)問題，外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙 2. 蒸發(fā)角過大，膜結(jié)構(gòu)粗糙 3. 溫差：鏡片出罩時內(nèi)外溫差過大 4. 潮氣：鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣 5. 真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時水汽過重 6. 蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻。 7. 膜與膜之間的應(yīng)力 改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對象。 改善對策： 1. 改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。 2. 降低出罩時的鏡片溫度 3. 改善充氧（加大），改善膜結(jié)構(gòu) 4. 適當(dāng)降低蒸發(fā)速率，改善柱狀結(jié)構(gòu) 5. 離子輔助鍍膜，改善膜結(jié)構(gòu) 6. 加上Polycold解凍時的小充氣閥 7. 從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時的真空度。

【真空鍍膜機(jī)常見故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈） 2. 坩堝被打穿（更換坩堝） 3. 高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈） 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 7. 機(jī)械泵停機(jī)可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常） 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈） 9. 擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃） 二、長期工作的鍍膜機(jī)抽真空的時間很長且達(dá)不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空： 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵（應(yīng)清洗） 2. 擴(kuò)散泵很久未換油（應(yīng)清洗換油） 3. 前級泵反壓強(qiáng)大太機(jī)械泵真空度太低（應(yīng)清洗換油） 4. 各動密封膠圈損壞（更換膠圈） 5. 由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化（更換膠圈） 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞（更換膠圈） 7. 各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象（重新壓緊） 8. 高低預(yù)閥是否密封可靠（注油） 真空鍍膜設(shè)備故障解決方法？

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】： 電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過，對蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價便宜、使用可靠，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是：加熱所能達(dá)到的Zui高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。 真空鍍膜設(shè)備主要用途？河北真空鍍膜設(shè)備市場需求

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【真空鍍膜之真空的概念】： “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4 Pa（1E&6Torr）時，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對真空。Jue對真空實(shí)際上是不存在的。貴州真空鍍膜設(shè)備哪家好