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隔離閘閥氣動閥

來源: 發(fā)布時間:2024-05-17

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,插板閥,氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥-按產品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸,ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現有手動閘閥的鎖定功能(Exist Manual GV of Locking Function)。微泰氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績??刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥使用氣動控制操作。隔離閘閥氣動閥

閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position)、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,Butterfly Valve,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),鋁閘閥(AL Gate Valve),三重防護閘閥,應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。鋁閘閥I型轉移閥閘板有剛性閘板和彈性閘板,根據閘板的不同,閘閥分為剛性閘閥和彈性閘閥。

隔離閘閥氣動閥,閘閥

微泰主要產品有1、-手動鎖定閥:操作鎖定按鈕關閉正在抽吸中的切斷閥門切斷現象的源頭:2、特殊閥門:全金屬配件構成,由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成;3、三位閥:半開功能的壓力控制閥。氣動閘閥:?產品范圍:1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次?響應時間:0.2秒~3秒;手動(鎖定)閘閥?產品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次;專門用閘閥:產品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次,響應時間:0.2秒客戶指定的法蘭,可安裝角閥;三位閘閥:產品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:20萬次?響應時間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。

微泰,加熱閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是*使用加熱套或內部加熱器加熱*加熱控制器*應用:去除粉末/氣體設備。加熱閘閥規(guī)格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:ISO、JIS、ASA、CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。閘閥的結構長度(系殼體兩連接端面之間的距離)較小。

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微泰,超高壓閘閥應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設備上。期特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。微泰,高壓閘閥應用于? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。鋁閘閥I型轉移閥

真空閘閥對于隔離不同的真空室、控制工藝過程中的氣流以及在不影響真空環(huán)境的情況下促進維護或維修很重要。隔離閘閥氣動閥

微泰半導體閘閥的特點:閥門驅動部分的所有滾子和軸承都進行了防護處理,形成屏蔽和保護環(huán)(Shield Blocker 和 Protection Ring)用三重預防方式切斷粉末(Powder),延長閥門驅動和使用壽命。三重預防驅動方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內部,有三重保護驅動保護環(huán),長久延長GV壽命的Shield方法-供應給海外半導體T公司、M公司和I公司Utility設備。擋板與閥體的距離小于1mm,阻擋內部粉末和氣體的流入,屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料,考慮了復原力,并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護保護環(huán)的主要功能說明-AL材料的重量減輕和保護環(huán)內部照明的改善-保護環(huán)內部流速的增加-三元環(huán)應用確保驅動性能。隔離閘閥氣動閥