微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點(diǎn)是*使用加熱套或內(nèi)部加熱器加熱*加熱控制器*應(yīng)用:去除粉末/氣體設(shè)備。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥體內(nèi)設(shè)一個(gè)與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板，靠這一閘板的升降來開啟或關(guān)閉介質(zhì)的通路。轉(zhuǎn)移閘閥閘板閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護(hù)套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥，加熱器插入閘閥：產(chǎn)品范圍：2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：20萬次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；客戶指定法蘭，加熱溫度：450℃；蝶形閥；蝶閥：產(chǎn)品范圍：DN40、DN50隔離?泄漏率：1.0E-9mbar·l/秒；有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰倦妱?dòng)閘閥TRANSFER VALVE真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時(shí)的高真空完整性，防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力。

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn)：首先，它已向中國臺(tái)灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時(shí)完成了對(duì)半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。其次，該閘閥采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，具有良好的抗沖擊和震動(dòng)性能，保證可使用 25 萬次，且檢修方便，維護(hù)成本較低。它無 Particle 產(chǎn)生，采用陶瓷球不會(huì)有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外，它還具有屏蔽保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。其保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì)也很獨(dú)特，Protecrion Ring 通過流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?/p>

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)，首先介紹一下起三重保護(hù)的保護(hù)環(huán)機(jī)能，采用鋁質(zhì)材料減少重量，并提高保護(hù)環(huán)的內(nèi)部粗糙度，防止工程副產(chǎn)物堆積黏附。提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì)，保護(hù)環(huán)逐步收窄，提升流速，防止粉塵黏附。采用三元系O型圈，保證保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定（保證30萬次驅(qū)動(dòng)）。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽＝饘匍y體襯里高壓閥門主要有襯膠閥門、襯氟閥門、襯鉛閥門、襯塑閥門、襯搪瓷閥門。

微泰，定制大型轉(zhuǎn)移閥，定制大型輸送閥，?應(yīng)用：大型涂層系統(tǒng)。定制大型轉(zhuǎn)移閥，定制大型輸送閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸：（內(nèi)徑）80×500、（內(nèi)徑）100×400、（內(nèi)徑）200×1800、（內(nèi)徑）650×1050等法蘭類型：定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門上的壓差≤1000 mbar、泄漏率：泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：材料：不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6 ~ 8 bar。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽７墙饘俨牧细邏洪l閥有陶瓷閥門、玻璃閥門、塑料閥門。屏蔽閘閥蝶閥

真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)，包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。轉(zhuǎn)移閘閥閘板閥

微泰，蝶閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。微泰蝶閥其特點(diǎn)是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護(hù)? 應(yīng)用：半導(dǎo)體和工業(yè)過程的壓力控制。蝶閥規(guī)格如下：法蘭尺寸(內(nèi)徑)：DN40、DN50、饋通：旋轉(zhuǎn)饋通、閥門密封：FKM（VITON）、執(zhí)行器：步進(jìn)電機(jī)、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1200 mbar 、開啟壓差：≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：250,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料：閥體STS304/機(jī)制STS304、安裝位置：任意、接口：RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。轉(zhuǎn)移閘閥閘板閥