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大型閘閥AKT

來源: 發(fā)布時間:2024-08-29

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position)、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,Butterfly Valve,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),鋁閘閥(AL Gate Valve),三重防護閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動,安裝時有方向性。它的結(jié)構(gòu)長度大于閘閥,同時流體阻力**型閘閥AKT

閘閥

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。I型輸送閥,-閘門動作時無震動或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染,確保高耐用性-采用LM導軌和單鏈路(LM-guide&Single Link)結(jié)構(gòu)/小齒輪驅(qū)動方式,使其具有簡單的運動、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式(Jaw type)和夾式(Clamp type)。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。定制閘閥HV GATE VALVE真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時的高真空完整性,防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力。

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微泰,三重防護閘閥、三防閘閥,應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器(1CH ~ 4CH)? 應(yīng)用:半導體生產(chǎn)線中粉末和氣體等副產(chǎn)品的處理,防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規(guī)格如下:操作:氣動、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO,KF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型環(huán)/Kalrez O型環(huán)、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時間:≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍: 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差; 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽?/p>

微泰,屏蔽閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? 濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)? Coating(涂層)? Etch? Diffusion?CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是*閥體和阻斷器之間的間隙小于1mm*防止流入的氣體(粉末)進入閥體內(nèi)部*使用維修配件工具包易于維護*應(yīng)用:隔離泵,氣流中的高水平工藝。屏蔽閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:2.5英寸~ 10英寸、法蘭類型:ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:2.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績非金屬材料高壓閘閥有陶瓷閥門、玻璃閥門、塑料閥門。

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微泰,傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工,半導體加工,可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計? 使用維修配件工具包易于維護? 應(yīng)用:半導體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下:閘門密封類型:傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式:焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、工作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差:≤ 30 mbar、開啟時壓差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼:< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁:< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護前可用次數(shù): ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。真空閘閥由一個滑動門或板組成,可以移動以阻止或允許通過真空閥體,從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。濺射閘閥蝶閥

用真空閘閥時,應(yīng)考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護要求等因素。大型閘閥AKT

微泰半導體閘閥的特點:已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認可,已完成對半導體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證。1,采用陶瓷球機構(gòu),抗沖擊和震動,保證使用25萬次,檢修方便,較低維護成本。2,無Particle(顆粒)產(chǎn)生,采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn)。3,屏蔽保護:屏蔽式保護功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,可防止粉末侵入閥內(nèi),壽命為半永久性。4,保護環(huán):Protecrion Ring通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽4笮烷l閥AKT