微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的特點(diǎn)：其插板閥主滑閥采用球機(jī)構(gòu)方式，并且在量產(chǎn)工藝設(shè)備上經(jīng)過了性能驗(yàn)證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷與金屬接觸驅(qū)動時不會產(chǎn)生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時也完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅(qū)動會產(chǎn)生大量顆粒不同，微泰半導(dǎo)體閘閥采用鋼陶瓷球，在與金屬摩擦?xí)r不會損壞，且金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生 Particle。半永久板簧（SUS 鋼板）的應(yīng)用確保了閥門驅(qū)動的同步性，同時還采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾伞Ｎ⑻┌雽?dǎo)體閘閥廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外，該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁＞_控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。氣動閘閥UMC

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，控制系統(tǒng)閘閥，控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用。控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。晶圓閘閥楔式閘閥真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，氣動多位置閘閥，氣動多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position 其特點(diǎn)是1，全開和關(guān)閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動電磁閥進(jìn)行控制；2，所有位置控制都由控制器進(jìn)行操作。1)控制類型-全開：高速閘門全開操作-全閉：高速閘門全閉操作-位置（POS.）控制：將閘門移動到設(shè)定的位置值；2)操作時間-完全打開?完全關(guān)閉：<2秒（取決于速度控制器設(shè)置)-位置（POS。）控制： 0%?100%工作，<MAX18秒（偏差： < ±0.5%）。微泰氣動多位置閘閥，氣動多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position，有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，一、控制系統(tǒng)閘閥。控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài)，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉，以調(diào)節(jié)壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥啟閉時較省力。是與截止閥相比而言，因?yàn)闊o論是開或閉，閘板運(yùn)動方向均與介質(zhì)流動方向相垂直。

微泰，傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工，半導(dǎo)體加工，可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用：半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離，傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下：閘門密封類型：傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動方式：氣動、法蘭尺寸（內(nèi)徑） 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式：焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、工作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差：≤ 30 mbar、開啟時壓差： ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼：< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁：< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù)： ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽Ｕ婵臻l閥廣泛應(yīng)用于各個行業(yè)，包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。全真空閘閥UMC

金屬材料高壓閘閥主要有：碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。氣動閘閥UMC

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1，采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，抗沖擊和震動，保證使用25萬次，檢修方便，較低維護(hù)成本。2，無Particle（顆粒）產(chǎn)生，采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn)。3，屏蔽保護(hù)：屏蔽式保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm，可防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。4，保護(hù)環(huán)：Protecrion Ring通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽鈩娱l閥UMC