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進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-11-27

藥用滑石粉中石棉的測(cè)定引言滑石粉主要成分是滑石(含水的硅酸鎂)?;塾糜卺t(yī)藥、食品行業(yè)的添加劑。在滑石成礦過程中,常伴生有其他礦石,如角閃石和蛇紋石等石棉成分。石棉為物質(zhì)。而根據(jù)中國藥典,藥用滑石粉中,石棉應(yīng)“不得檢出”。在2θ=10.5±0.1°處的XRD特征峰為角閃石特征峰,在2θ=12.1±0.1°和2θ=24.3±0.1°處的XRD特征峰為蛇紋石特征峰。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。D8D和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進(jìn)行薄膜分析:掠入射衍射、X射線反射率測(cè)量。進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢

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EIGER2R具有多模式功能(0D-1D-2D、快照和掃描模式),覆蓋了從粉末研究到材料研究的多種測(cè)量方法。EIGER2并非傳統(tǒng)意義上的萬金油,而是所有分析應(yīng)用領(lǐng)域的專業(yè)用戶。其可實(shí)現(xiàn)無吸收測(cè)量的動(dòng)態(tài)范圍、用于超快粉末測(cè)量和快速倒易空間掃描的1D大尺寸以及超過500k像素的2D大覆蓋范圍,都為多模式探測(cè)器樹立了新標(biāo)準(zhǔn)。EIGER2采用了DECTRIS公司研發(fā)的光束探測(cè)器技術(shù),整合了布魯克的軟件和硬件,可為您帶來無縫易用的解決方案。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。可在數(shù)秒內(nèi),輕松從先焦點(diǎn)切換到點(diǎn)焦點(diǎn),從而擴(kuò)大應(yīng)用范圍,同事縮短重新匹配的時(shí)間。

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當(dāng)石墨(002)衍射峰峰形對(duì)稱性很差時(shí),如圖2,樣品中可能含有多種不同石墨化度的組分存在(當(dāng)然,也可能是由于非晶碳或無定形碳的存在。需要對(duì)衍射峰進(jìn)行分峰處理,得到各個(gè)子峰的峰位和積分強(qiáng)度值,如圖2所示。分別計(jì)算各子峰的石墨化度,再利用各子峰的積分強(qiáng)度為權(quán)重,歸一化樣品的石墨化度。圖2石墨實(shí)驗(yàn)(藍(lán)色數(shù)據(jù)點(diǎn))及分峰擬合圖譜(紅色:擬合圖譜,兩綠色為單峰擬合結(jié)果)石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。UMC樣品臺(tái)通常用于分析大塊樣品、掃描測(cè)量應(yīng)用和涂層分析,也能測(cè)量多個(gè)小樣品或用于執(zhí)行非環(huán)境實(shí)驗(yàn)。湖南全新XRD衍射儀哪里好

在DIFFRAC.LEPTOS中,對(duì)多層樣品的薄膜厚度、界面粗糙度和密度進(jìn)行XRR分析。進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢

D8DISCOVER是旗艦款多功能X射線衍射儀,帶有諸多前沿技術(shù)組件。它專為在環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下,對(duì)從粉末、非晶和多晶材料到外延多層薄膜等各種材料進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征而設(shè)計(jì)。應(yīng)用范圍:1.定性相分析和定量相分析、結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修、微應(yīng)變和微晶尺寸分析2.X射線反射法、掠入射衍射(GID)、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析3.殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖、微區(qū)X射線衍射、廣角X射線散射(WAXS)4.總散射分析:Bragg衍射、對(duì)分布函數(shù)(PDF)、小角X射線散射(SAXS)進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢

標(biāo)簽: XRD衍射儀 顯微CT