耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學(xué)電鍍？A5:在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進行PVD鍍膜前，都需要先對它們進行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較***的五金制品上，對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。Q6:請問采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么特點？A6:采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。Q7:請問PVD能在鍍在什么基材上？A7:PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。Q8:請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類有那些？A8:PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜。無錫卷繞鍍膜機廠家哪家比較專業(yè)？天津卷繞鍍膜機案例

操作規(guī)程1．在真空鍍膜機運轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機時。必須先開水管，工作中應(yīng)隨時注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。3．在用電子鍍膜時，應(yīng)在鐘罩上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應(yīng)加蓋。8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。優(yōu)點TiN中文名：氮化鈦；顏色：金色；硬度：2300HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：580℃；優(yōu)點：增加表面硬度、減少摩擦力；可低溫涂層，適合低溫零件；避免刀口之積屑現(xiàn)象；應(yīng)用於鋼料成型加工。TiCN中文名：氮碳化鈦；顏色：銀灰色；硬度：3300HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：450℃；優(yōu)點：高表面硬度表面光滑；避免刀口之積屑現(xiàn)象；適合重切削；適合沖壓加工不銹鋼。ALTiN中文名：鋁氮化鈦；顏色：紫黑色；硬度：3500HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：800℃；優(yōu)點：高熱穩(wěn)定性；適合高速、干式切削。天津卷繞鍍膜機供應(yīng)商卷繞鍍膜機可以實現(xiàn)自動化生產(chǎn)。

是在真空蒸發(fā)和真空濺射基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術(shù)。離子鍍的英文全稱IonPlating，簡稱IP。它是在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，同時將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍在基片上。1972年，Banshah提出了在真空放電蒸鍍時，導(dǎo)入反應(yīng)氣體生成化合物的方法，即（活性反應(yīng)蒸鍍法）（簡稱ARE法）。與此同時，在離子鍍時代替氬氣導(dǎo)入一部分反應(yīng)氣體生成化合物薄膜，形成了反應(yīng)性離子鍍法（簡稱RIP法）等等。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式，可構(gòu)成不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有：電阻加熱，電子束加熱，等離子電子束加熱，高頻感應(yīng)加熱，陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和***方式有：輝光放電型，電子束型，熱電子型，等離子電子束型，多弧形及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。目前比較常用的組合方式有：1）直流二極型（DCIP）。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將沖入的氣體Ar（也可充少量反應(yīng)氣體）離化。這種方法的特點是：基板溫升大，繞射性好。

通帶以外的光截止，其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長（CWL），半帶寬（FWHM)，分為窄帶和寬帶，比如窄帶濾光片短波通型(又叫低波通)：短于選定波長的光通過，長于該波長的光截止，比如紅外截止濾光片長波通型(又叫高波通)：長于選定波長的光通過，短于該波長的光截止，比如紅外透過濾光片四、IR-CUT雙濾光片的使用可以有效解決雙峰濾光片產(chǎn)生問題，IR-CUT雙濾光片由一個紅外截止濾光片和一個全光譜光學(xué)玻璃構(gòu)成，當(dāng)白天的光線充分時紅外截止濾光片工作，CCD還原出真實彩色，當(dāng)夜間光線不足時，紅外截止濾光片自動移開，全光譜光學(xué)玻璃開始工作，使CCD充分利用到所有光線，從而**提高了低照性能，IRCUT雙濾光片專為CCD攝影機修正偏色、失焦的問題，促使擷取影像畫面不失焦、不偏色，紅外夜視更通透，解決紅外一體機，日夜圖像偏色影響，能夠過濾強光讓畫面色彩純美更柔和、達到人眼視覺色彩一致。普通日夜型攝象機使用能透過一定比例紅外光線的雙峰濾片，其優(yōu)點是成本低廉，但由于自然光線中含有較多的紅外成份，當(dāng)其進入CCD后會干擾色彩還原，比如綠色植物變得灰白，紅色衣服變成灰綠色等等（有陽光室外環(huán)境尤其明顯）。在夜間由于雙峰濾光片的過濾作用。卷繞鍍膜機使用時要注意零件的保養(yǎng)！

真空鍍膜機主要分類主要分類有兩個大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：1?；牧吓c靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率，速率4.真空度5.鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1。晶格匹配度2?；瑴囟?。蒸發(fā)速率濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。卷繞鍍膜機可以實現(xiàn)薄膜的自動化生產(chǎn)和包裝。四川卷繞鍍膜機銷售電話

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離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度**提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。光學(xué)鍍膜材料（純度：）高純氧化物一氧化硅、SiO，二氧化鉿、HfO2，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯、ZrO2，二氧化鈦、TiO2，一氧化鈦、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二鈦、Ti2O3，五氧化三鈦、Ti3O5，五氧化二鉭、Ta2O5，五氧化二鈮、Nb2O5，三氧化二鋁、Al2O3，三氧化二鈧、Sc2O3，三氧化二銦、In2O3，二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2，二氧化鈰、CeO2，氧化鎂、MgO，三氧化鎢、WO3，氧化釤、Sm2O3，氧化釹、Nd2O3。天津卷繞鍍膜機案例

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