IonpureIP-LXM30Z EDI模塊技術(shù)的市場(chǎng)占有率目前正迅速地?cái)U(kuò)大，它如同RO的早期市場(chǎng)開發(fā)一樣，其***的銷售策略已經(jīng)贏得了大量的供應(yīng)商，并獲得了一批可為用戶提供服務(wù)的地方**。接下來就由小編一一為大家解析吧！一、IonpureIP-LXM30Z EDI模塊市場(chǎng)

  目前世界上有許多水處理公司可以銷售RO－EDI系統(tǒng)，任何一個(gè)有名的化學(xué)水處理設(shè)備供應(yīng)商（或作為水處理系統(tǒng)的咨詢顧問），都會(huì)一致地將EDI視為那些要求降低酸堿使用的客戶的一個(gè)解決方案。

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  美國(guó)ionpure IP-LXM30Zedi模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。美國(guó)ionpure IP-LXM30Z edi模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

美國(guó)ionpure IP-LXM30Zedi模塊產(chǎn)品的特色：

· 采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封，確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏；

· 產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水，無(wú)需使用化學(xué)藥劑；

· 連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無(wú)波動(dòng)，不似批處理設(shè)備呈周期變化；

· 不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐；

· 具有優(yōu)良的電絕緣性能；

· 在7bar（100psi）、45℃（113oF）條件下，可以連續(xù)運(yùn)行；

· 采用專利注冊(cè)的“全填充”技術(shù)，不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)；

· 運(yùn)行成本***降低。 廣東原裝美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家好美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保原裝進(jìn)口。

4、西門子（IONPURE）EDI模塊，降低運(yùn)行成本。EDI設(shè)備運(yùn)行只需要消耗電力，而混床技術(shù)還需要酸堿。所以DEI超純水設(shè)備節(jié)約酸堿降低了運(yùn)行的成本。

  5、西門子（IONPURE）EDI模塊，操作更加的簡(jiǎn)單，只需要調(diào)節(jié)電源的電壓、電流、實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)的控制。

  6、西門子（IONPURE）EDI模塊，出水水質(zhì)好，并且延長(zhǎng)了設(shè)備的使用壽命。

  7、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備占地小，廠房高度要求低，3米足夠。

  8、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備安裝維修簡(jiǎn)單便捷，任一膜塊的維修、更換都不影響其他膜塊的運(yùn)行。

  9、西門子（IONPURE）EDI模塊，總投資少，EDI雖然本身價(jià)位高，但是節(jié)省了廠房用地成本，節(jié)省了運(yùn)行成本。總體降低了總投資費(fèi)用。

無(wú)需投加化學(xué)藥品，可連續(xù)生產(chǎn)高純度水 應(yīng)用IONPURE LX 技術(shù)在生產(chǎn)高純水過程中，無(wú)需投加有害的再生化學(xué)物，不存在廢水中和問題，因此可連續(xù)生產(chǎn)，同時(shí)降低了成本。其通常用來進(jìn)一步去除反滲透產(chǎn)品水中殘留的二氧化碳、鹽、硅、硼和有機(jī)碳化物（TOC）。 IONPURE LX 模塊使用離子滲透膜、離子交換樹脂以及電流來連續(xù)地生產(chǎn)高純度水，無(wú)需為裝置的再生而停機(jī)。當(dāng)注入的反滲透產(chǎn)水當(dāng)量電導(dǎo)率小于40μs/cm 時(shí)，LX系統(tǒng)的除鹽率可達(dá)到99％以上，根據(jù)不同的應(yīng)用，可生產(chǎn)電阻率在10-18MΩ?cm之間的更高質(zhì)量的水。 主要供貨型號(hào)：(配套電源供應(yīng)) IP-LXM45Z ,IP-LXM30Z, IP-LXM24Z ,IP-LXM18Z ,IP-LXM10Z ,IP-LXM04Z 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎來電。

如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會(huì)更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動(dòng),直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會(huì)發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會(huì)向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動(dòng),表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實(shí)現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動(dòng)來解釋。

     濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對(duì)于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對(duì)去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會(huì)飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保量大從優(yōu)。北京批發(fā)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家好

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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