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【光學(xué)真空設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域】 光學(xué)真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)代光學(xué)和光電系統(tǒng)*重要的組成部分，在光通信、光顯示、激光加工、激光融合等高技術(shù)和工業(yè)領(lǐng)域，技術(shù)突破往往成為現(xiàn)代光學(xué)和光電子系統(tǒng)加速發(fā)展的主要原因。光學(xué)鍍膜的技術(shù)性能和可靠性直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性和成本。 光學(xué)鍍膜其他方面有很多的應(yīng)用，比方說(shuō)，平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品，或者是鈔票上的防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學(xué)鍍膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。倘若沒(méi)有光學(xué)鍍膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ)，近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無(wú)法有所進(jìn)展，這也顯示出光學(xué)鍍膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。 光學(xué)鍍膜系指在光學(xué)元件或du立基板上，制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜...

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外，鏡頭的透過(guò)率對(duì)提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹(shù)脂作為鏡片基材，為了減少鏡片反射，提升透過(guò)率，我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜（減反膜），它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜，可在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下，光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會(huì)產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用，則在6個(gè)表面都會(huì)發(fā)生反射，實(shí)驗(yàn)測(cè)得，光通過(guò)透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二)，因此鍍?cè)鐾改た墒乖摴鈱W(xué)系統(tǒng)的透過(guò)率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對(duì)某一...

【常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料】常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種： 1、氟化鎂材料特點(diǎn)：無(wú)se四方晶系粉末，純度高，用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過(guò)率，不出崩點(diǎn)。 2、二氧化硅材料特點(diǎn)：無(wú)se透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。 3、氧化鋯材料特點(diǎn) 白se重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點(diǎn)光學(xué)鍍膜機(jī)是什么樣的？北京韓一光學(xué)鍍膜機(jī)【減反射膜的透過(guò)量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過(guò)反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式：R＝（n-1)平方...

【什么是光學(xué)鍍膜機(jī)】光學(xué)涂層或薄膜涂層是一種制造過(guò)程，其中將玻璃，鏡子，計(jì)算機(jī)屏幕和光纖部件等產(chǎn)品涂上金屬。與未鍍膜的產(chǎn)品不同，光學(xué)鍍膜使產(chǎn)品能夠以不同的方式反射光。通常通過(guò)使用由技術(shù)人員操作的機(jī)器來(lái)完成涂層，該技術(shù)人員對(duì)機(jī)器過(guò)程進(jìn)行編程或監(jiān)督。一些機(jī)器執(zhí)行自動(dòng)化過(guò)程，不需要仔細(xì)監(jiān)督。對(duì)于光學(xué)涂層有不同類型的需求。在某些情況下，如在鏡子中，所需的效果是生產(chǎn)具有高光反射度的產(chǎn)品。通過(guò)選擇折射率相反的材料并將其堆疊起來(lái)，可以增加成品中的反射率。對(duì)于便宜的鏡子，典型的光學(xué)涂層材料是玻璃的鋁涂層。由于銀會(huì)反射更多的光，因此像銀這樣的較昂貴的涂層會(huì)導(dǎo)致制造更昂貴的鏡子，因此具有更高的質(zhì)量。對(duì)...

【光學(xué)鍍膜法的應(yīng)用之化學(xué)鍍膜法和物理鍍膜法】浸鍍法是唯yi可以同時(shí)制作雙面膜的方法。不過(guò)，后來(lái)的一些鏡片設(shè)計(jì)要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環(huán)保的負(fù)擔(dān)。噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃載體可以是移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)，以增加膜的均勻性。可鍍雙面或單面。以此方法延生的還有一種甩膠法。將溶液滴至鏡片中心，利用鏡片高速旋轉(zhuǎn)的離心力，將溶液均勻的“拋”在表面上。以現(xiàn)在的觀點(diǎn)來(lái)看，化學(xué)鍍膜的好處，在于其設(shè)備投資低，因此它仍然是鍍有機(jī)膜的一種常用且成本低廉的方法。化學(xué)鍍膜法具有價(jià)格低，操作容易等優(yōu)點(diǎn)，但也有相對(duì)污染較大，無(wú)法鍍多層膜的...

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過(guò)程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)，在此過(guò)程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進(jìn)行的，放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面（例如用氬離子），完成此道清洗工序后即進(jìn)行減反射膜的鍍膜。2）真空鍍膜：真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面，同時(shí)在蒸發(fā)過(guò)程中，對(duì)鍍膜材料的化學(xué)成分能?chē)?yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀?..

三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約～，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。 光學(xué)鍍膜機(jī)可以...

【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些】化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。優(yōu)點(diǎn):(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆(2)沉積速率快，大氣CVD可以達(dá)到1μm/min(3)與PVD比較的話。化學(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成(4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等(5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷(6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時(shí)鍍數(shù)十芯片缺點(diǎn):(1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解(2)需要在高溫下進(jìn)行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作...

【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā)，然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā)，又是在真空中進(jìn)行，故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個(gè)步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動(dòng)一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測(cè)方法有哪些呢， 大致上可分為原位量測(cè)、離位量測(cè)兩類：原位星測(cè)系指鍍膜進(jìn)行中量測(cè)，普遍使用在物理qi相沉積，如微天平、光學(xué)、電阻量測(cè)。 離位量測(cè)系指鍍膜完成后量測(cè)，對(duì)電鍍膜的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。歡迎咨詢成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司。新疆光馳光學(xué)鍍膜機(jī)穩(wěn)定性【光學(xué)鍍膜...

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(zhǎng)(CWL): 濾光片在實(shí)際應(yīng)用中所使用的波長(zhǎng),如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長(zhǎng)就是850nm。 峰值透過(guò)率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過(guò)濾光片后有部分損耗了,通過(guò)光譜測(cè)量得出只有85%了,那就可以把這個(gè)濾光片的光學(xué)透過(guò)率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡(jiǎn)單說(shuō)就是*高透過(guò)率的1/2處所對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng),左右波長(zhǎng)值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對(duì)應(yīng)的左右波長(zhǎng)是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區(qū)所對(duì)應(yīng)的透過(guò)率.由于要想透過(guò)率達(dá)到零,那是非常難的事情,只...

【光學(xué)鍍膜的好處】光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代，光學(xué)薄膜已廣fan用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。 主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和**建設(shè)中得到了廣 fan的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小，采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高，利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。光學(xué)鍍膜機(jī)選擇成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司。遼寧2050光學(xué)鍍膜機(jī) 【光學(xué)真空鍍膜機(jī)如何保養(yǎng)】一...

【光學(xué)鍍膜的好處】光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代，光學(xué)薄膜已廣fan用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。 主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和**建設(shè)中得到了廣 fan的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小，采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高，利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。光學(xué)鍍膜機(jī)可以制造出具有高反射率或低反射率的薄膜，可以用于制zf射鏡或透鏡等。河北光學(xué)鍍膜機(jī)各部位介紹...

【光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與保養(yǎng)之光路的檢修與維護(hù)】光路調(diào)整的先決條件是：確保直流穩(wěn)定電源、調(diào)制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x的接地點(diǎn)，必須單獨(dú)歸至主機(jī)接點(diǎn)牢固接地。 導(dǎo)磁板及掃描圈的維護(hù)：導(dǎo)磁板及永磁鐵是不需要經(jīng)常拆卸維護(hù)，如需拆卸，請(qǐng)注意永磁鐵的極向，及導(dǎo)磁板的方向。線圈由于安裝的空間密實(shí)，請(qǐng)不要使用硬尖的東西撬動(dòng)，否則有可能會(huì)造成損壞。光學(xué)鍍膜機(jī)真空度多少？安徽轉(zhuǎn)讓光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域...

三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約～，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。 國(guó)產(chǎn)光學(xué)鍍膜機(jī)...

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外，鏡頭的透過(guò)率對(duì)提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹(shù)脂作為鏡片基材，為了減少鏡片反射，提升透過(guò)率，我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜（減反膜），它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜，可在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下，光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會(huì)產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用，則在6個(gè)表面都會(huì)發(fā)生反射，實(shí)驗(yàn)測(cè)得，光通過(guò)透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二)，因此鍍?cè)鐾改た墒乖摴鈱W(xué)系統(tǒng)的透過(guò)率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對(duì)某一...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法（簡(jiǎn)稱真空蒸鍍法，VacuumEvaporation)是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下，使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。由于真空蒸鍛法的主要物理過(guò)程是通過(guò)加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生，所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關(guān)鍵部件，大多數(shù)蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應(yīng)法和激光蒸發(fā)法等。目前，采用真空蒸鍍法生產(chǎn)鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產(chǎn)。光學(xué)鍍膜機(jī)真空度多少？山西gm...

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外，鏡頭的透過(guò)率對(duì)提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹(shù)脂作為鏡片基材，為了減少鏡片反射，提升透過(guò)率，我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜（減反膜），它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜，可在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下，光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會(huì)產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用，則在6個(gè)表面都會(huì)發(fā)生反射，實(shí)驗(yàn)測(cè)得，光通過(guò)透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二)，因此鍍?cè)鐾改た墒乖摴鈱W(xué)系統(tǒng)的透過(guò)率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對(duì)某一...

【光學(xué)真空鍍膜之電子qiang蒸鍍系統(tǒng)注意事項(xiàng)】 光學(xué)真空鍍膜機(jī)電子qiang蒸鍍法比傳統(tǒng)熱電阻式加熱法的熱轉(zhuǎn)換效率高而秏能少,對(duì)蒸鍍材料的選擇方面受限較少。以純?cè)刂翦兌?電阻式蒸鍍受限于加熱溫度,多半只從事鋁、鉻、金、銀等少數(shù)幾種薄膜，電子束蒸鍍則可制鍍高熔點(diǎn)材料如鎢、鉬等金屬和活性甚強(qiáng)的鈦、鈮等金屬,即便是很難使用濺鍍技術(shù)制備的磁性材料如鐵、鈷、鎳等金屬,亦能夠蒸鍍出品質(zhì)良好的薄膜。為了顧及薄膜純度,在操作技巧上純?cè)刂翦兺ǔ２扇「哒婵斩扰c高蒸鍍速率的鍍膜條件?；衔锊牧先缪趸铩⒘蚧?、氮化物及氟化物等皆可使用電子qiang蒸鍍方式,部份材料在被電子束加熱蒸發(fā)過(guò)程中會(huì)因高熱而發(fā)生...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法，其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中，水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過(guò)程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式，以具有3個(gè)濺射室的雙端機(jī)。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)主要有：①對(duì)靶材的面積和形狀不作要求，且可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好；②可用的膜材廣fan，只要能做成靶材的任何材料都可實(shí)現(xiàn)濺射，因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強(qiáng)，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產(chǎn)效率高。光學(xué)鍍膜機(jī)國(guó)內(nèi)有哪些產(chǎn)商？海南光學(xué)鍍膜機(jī)操作規(guī)程 【...

【光學(xué)薄膜制備技術(shù)之物理qi相學(xué)沉積(PVD)】物理qi相沉積法，簡(jiǎn)單地說(shuō)是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結(jié)到溫度相對(duì)低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。1)熱蒸發(fā)：光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、操作方便。2)濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過(guò)動(dòng)量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動(dòng)能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強(qiáng)，純度高，可同時(shí)濺射多種不同成分的合金膜或化合物。3)離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍...

【常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料】常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種： 1、氟化鎂材料特點(diǎn)：無(wú)se四方晶系粉末，純度高，用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過(guò)率，不出崩點(diǎn)。 2、二氧化硅材料特點(diǎn)：無(wú)se透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。 3、氧化鋯材料特點(diǎn) 白se重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點(diǎn)真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢？江蘇光學(xué)鍍膜機(jī)大口徑低溫泵二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分...

【光學(xué)真空設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域】 光學(xué)真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)代光學(xué)和光電系統(tǒng)*重要的組成部分，在光通信、光顯示、激光加工、激光融合等高技術(shù)和工業(yè)領(lǐng)域，技術(shù)突破往往成為現(xiàn)代光學(xué)和光電子系統(tǒng)加速發(fā)展的主要原因。光學(xué)鍍膜的技術(shù)性能和可靠性直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性和成本。 光學(xué)鍍膜其他方面有很多的應(yīng)用，比方說(shuō)，平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品，或者是鈔票上的防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學(xué)鍍膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。倘若沒(méi)有光學(xué)鍍膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ)，近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無(wú)法有所進(jìn)展，這也顯示出光學(xué)鍍膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。 光學(xué)鍍膜系指在光學(xué)元件或du立基板上，制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜...

【光學(xué)濾光之按光譜波段區(qū)分片】光學(xué)濾光片，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是用來(lái)選擇性過(guò)濾所需要輻射波段的光學(xué)器件?；酁榘撞ＡА⑹ⅰ⒂猩ＡЩ蛩芰蠘?shù)脂等光學(xué)材料。光學(xué)濾光片的分類方式可以按光譜分布、光譜類型、帶寬、波長(zhǎng)、膜層特性、行業(yè)應(yīng)用特點(diǎn)等方式分類。 按光譜波段區(qū)分濾光片：通過(guò)光譜的分布長(zhǎng)短（即光譜所處區(qū)域）把濾光片分為：紫外濾光片，可見(jiàn)光濾光片，近紅外濾光片，紅外濾光片，遠(yuǎn)紅外濾光片。 光譜波長(zhǎng)范圍如下： 紫外濾光片180~400nm 可見(jiàn)光濾光片400~700nm 近紅外濾光片700~3000nm 紅外濾光片3000nm~10um以上真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)？福建高真空光學(xué)鍍膜機(jī)【光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與保養(yǎng)之光...

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(zhǎng)(CWL): 濾光片在實(shí)際應(yīng)用中所使用的波長(zhǎng),如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長(zhǎng)就是850nm。 峰值透過(guò)率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過(guò)濾光片后有部分損耗了,通過(guò)光譜測(cè)量得出只有85%了,那就可以把這個(gè)濾光片的光學(xué)透過(guò)率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡(jiǎn)單說(shuō)就是*高透過(guò)率的1/2處所對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng),左右波長(zhǎng)值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對(duì)應(yīng)的左右波長(zhǎng)是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區(qū)所對(duì)應(yīng)的透過(guò)率.由于要想透過(guò)率達(dá)到零,那是非常難的事情,只...

【光學(xué)鍍膜機(jī)電子qiang打火問(wèn)題】電子qiang在蒸鍍時(shí)，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會(huì)使該處電場(chǎng)集中了容易打火。故電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的高壓電源都附有高壓自動(dòng)滅弧復(fù)位裝置，在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會(huì)自動(dòng)切斷高壓，然后又自動(dòng)恢復(fù)，切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短，愈不會(huì)影響蒸鍍工藝。高壓引線應(yīng)盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來(lái)彎去。qiang頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光，然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。所有...

【什么是光學(xué)鍍膜機(jī)】光學(xué)涂層或薄膜涂層是一種制造過(guò)程，其中將玻璃，鏡子，計(jì)算機(jī)屏幕和光纖部件等產(chǎn)品涂上金屬。與未鍍膜的產(chǎn)品不同，光學(xué)鍍膜使產(chǎn)品能夠以不同的方式反射光。通常通過(guò)使用由技術(shù)人員操作的機(jī)器來(lái)完成涂層，該技術(shù)人員對(duì)機(jī)器過(guò)程進(jìn)行編程或監(jiān)督。一些機(jī)器執(zhí)行自動(dòng)化過(guò)程，不需要仔細(xì)監(jiān)督。對(duì)于光學(xué)涂層有不同類型的需求。在某些情況下，如在鏡子中，所需的效果是生產(chǎn)具有高光反射度的產(chǎn)品。通過(guò)選擇折射率相反的材料并將其堆疊起來(lái)，可以增加成品中的反射率。對(duì)于便宜的鏡子，典型的光學(xué)涂層材料是玻璃的鋁涂層。由于銀會(huì)反射更多的光，因此像銀這樣的較昂貴的涂層會(huì)導(dǎo)致制造更昂貴的鏡子，因此具有更高的質(zhì)量。對(duì)...

【光學(xué)薄膜制備技術(shù)之物理qi相學(xué)沉積(PVD)】物理qi相沉積法，簡(jiǎn)單地說(shuō)是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結(jié)到溫度相對(duì)低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。1)熱蒸發(fā)：光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、操作方便。2)濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過(guò)動(dòng)量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動(dòng)能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強(qiáng)，純度高，可同時(shí)濺射多種不同成分的合金膜或化合物。3)離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍...

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過(guò)程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)，在此過(guò)程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進(jìn)行的，放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面（例如用氬離子），完成此道清洗工序后即進(jìn)行減反射膜的鍍膜。2）真空鍍膜：真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面，同時(shí)在蒸發(fā)過(guò)程中，對(duì)鍍膜材料的化學(xué)成分能?chē)?yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀?..

【光學(xué)鍍膜機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)之電子qiang安裝與維護(hù)】電子qiang蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅(qū)動(dòng)電源、蒸發(fā)源等組成一個(gè)電子qiang控制電柜。電子qiang控制電柜內(nèi)含有高壓，在工作前必須保證柜門(mén)各個(gè)聯(lián)鎖裝置正常工作，非專業(yè)人員不得打開(kāi)電柜門(mén)，電子qiang在工作時(shí)不得打開(kāi)電柜門(mén)，整個(gè)電柜必須有良好的接地并與機(jī)臺(tái)接地連接。電子qiang蒸發(fā)源安裝在真空室底板上，必須與底板有良好的接地效果，安裝蒸發(fā)源必須使用不銹鋼螺絲來(lái)固定，周邊200mm以內(nèi)不得有導(dǎo)磁的物體，否則會(huì)影響到電子qiang的光斑成表，造成電子性能的不良。電子qiang檔板應(yīng)盡量裝...

【光學(xué)薄膜的特點(diǎn)】表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí)，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面；由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。不同物質(zhì)對(duì)光有不同的反射、吸收、透射性能，光學(xué)薄膜就是利用材料對(duì)光的這種性能，并根據(jù)實(shí)際需要制造的。光學(xué)鍍膜機(jī)品牌有很多，你如何選擇？安徽光學(xué)鍍膜機(jī)氧化鈦 【光...