在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。真空鍍膜設(shè)備參數(shù)怎么調(diào)?重慶真空鍍膜設(shè)備招工【磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法】設(shè)備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉(zhuǎn)鼓,真空鍍膜室為立式圓筒形結(jié)構(gòu),立式旋轉(zhuǎn)鼓位于真空鍍膜室內(nèi),繞垂直軸線旋轉(zhuǎn),立...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之灰點(diǎn)臟】: 現(xiàn)象:鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些電子(不是膜料點(diǎn)),有些可擦除,有些不能擦除。并且會(huì)有點(diǎn)狀脫膜產(chǎn)生。 原因: 1. 真空室臟 2. 鏡圈或碟片臟 3. 鏡片上傘時(shí)就有灰塵點(diǎn),上傘時(shí)沒(méi)有檢查挑選。 4. 鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點(diǎn)的主要成因,特別是當(dāng)鏡片熱的時(shí)候,更容易吸附灰塵,而且難以擦除。 改善思路:杜絕灰塵源 1. 工作環(huán)境改造成潔凈車間,嚴(yán)格按潔凈車間規(guī)范實(shí)施。 2. 盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺(tái)。 3. 真空室周期打掃,保持清潔。 真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護(hù)?河南真空鍍膜設(shè)備廠家公司【真空鍍膜機(jī)概述】: 真空鍍膜機(jī)主要指一...
【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】: 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結(jié)構(gòu),表面硬度不高,容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括: 1. 在膜系設(shè)計(jì)允許的條件下,膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層,二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂(但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂)。鍍膜后離子轟擊幾分鐘,牢固度效果會(huì)更好。(但表面會(huì)變粗) 2. 鏡片取出真空室后,放置在較為干燥潔凈的地方,防止鏡片快速吸潮,表面硬度降低。成都國(guó)泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣?中國(guó)臺(tái)灣真空鍍膜設(shè)備維修技術(shù)【為什么要在真空中鍍膜】:1.鍍的過(guò)程中不會(huì)受空氣分子碰撞,有較大的動(dòng)量到達(dá)待鍍件表面2.防止氣體“污染”.如:鍍...
【真空鍍膜磁控濺射法】: 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡(jiǎn)單的直流二極濺射,它的優(yōu)點(diǎn)是裝置簡(jiǎn)單,但是直流二極濺射沉積速率低;為了保持自持放電,不能在低氣壓(<0.1 Pa)下進(jìn)行;不能濺射絕緣材料等缺點(diǎn)限制了其應(yīng)用。 磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái),在靶材表面建立與電場(chǎng)正交磁場(chǎng),解決了二極濺射沉積速率低,等離子體離化率低等問(wèn)題,成為目前鍍膜工業(yè)主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術(shù)相比具有如下特點(diǎn):可制備成靶的材料廣,幾乎所有金屬,合金和陶瓷材料都可以制成靶材;在適當(dāng)條件下多元靶材共濺射方式,可沉積配比精確恒定的合金;在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體,可沉積形成靶材物質(zhì)與氣體分子的化合物...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對(duì)策: 1. 對(duì)減反膜,設(shè)計(jì)條件許可時(shí),外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率(在一定范圍內(nèi)),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場(chǎng)合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. ...
【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】: 低溫泵:低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機(jī)低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下,抽氣面就能大量冷凝沸點(diǎn)溫度比該抽氣面溫度高的氣體,產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達(dá)到抽氣目的的泵叫做低溫泵,或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空,guang泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路的研究和生產(chǎn),以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機(jī)和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜設(shè)備廠家排名。陜西真空鍍膜設(shè)備自動(dòng)控制系統(tǒng)【...
【光學(xué)鍍膜的目的】: &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用:中性分光、變色分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長(zhǎng)波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &色光顯示、色光反射、偽chao及有價(jià)證券之防止 &光波的引導(dǎo)、光開(kāi)關(guān)及集體光路 a. 在膜層中,波的干涉結(jié)果,如R%, T%都是與膜質(zhì)本身和兩邊界邊的折射率率有關(guān)系,相位變化也是如此。 b. 由于干涉作用造成的反射率有時(shí)升高,有時(shí)反而降低,都要視磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,則反射率會(huì)提高(Ns為基底),若Nf真空鍍膜設(shè)備的工作原理和構(gòu)成。上海龍崗led真空鍍膜設(shè)備【真...
【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】: 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;被鍍基體作為陰極,利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升大、繞射性好、附著性好,膜結(jié)構(gòu)及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板;可用于鍍耐腐蝕潤(rùn)滑機(jī)械制品。 【離子鍍膜法之多陰極型】: 多陰極型:利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠熱電子、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,有時(shí)需要對(duì)基板加熱;可用于鍍精密機(jī)械制品、電子器件裝飾品。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。山西真空鍍膜設(shè)備維修多弧離子鍍?cè)?..
【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】: 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來(lái)改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會(huì)發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過(guò)薄膜后在光譜上會(huì)起變化,因此這些變化會(huì)使得光學(xué)薄膜至少具有下列功能: &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙色、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調(diào)整 &光電資訊的儲(chǔ)存及輸入真空鍍膜設(shè)備抽真空步驟。安徽派瑞林真空鍍膜設(shè)備質(zhì)量推薦【真空鍍膜機(jī)概述】: 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜強(qiáng)度】:膜強(qiáng)度時(shí)鏡片鍍膜的一項(xiàng)重要指標(biāo),也是鍍膜工序Zui常見(jiàn)的不良項(xiàng)。膜強(qiáng)度的不良(膜弱)主要表現(xiàn)為:1.擦拭專yong膠帶拉撕,產(chǎn)生成片脫落2.擦拭專yong膠帶拉撕,產(chǎn)生點(diǎn)狀脫落3.水煮15分鐘后用專yong膠帶拉撕產(chǎn)生點(diǎn)狀或片狀脫落4.用專yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次,有道子產(chǎn)生5.膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細(xì)道子改善思路:基片與膜層的結(jié)合是首要考慮的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜應(yīng)力。真空鍍膜設(shè)備參數(shù)怎么調(diào)?貴州塑膠注塑成型真空鍍膜設(shè)備【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部...
【真空鍍膜之真空的概念】:“真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài),也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài),就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)(STP:即0℃,101325Pa,也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,760Torr)下,氣體的分子密度為2.68E24/m3,而在真空度為1.33E&4Pa(1E&6Torr)時(shí),氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒(méi)有氣體的空間狀態(tài)為Jue對(duì)真空。Jue對(duì)真空實(shí)際上是不存在的。真空鍍膜設(shè)備操作培訓(xùn)。上海手機(jī)真空鍍膜設(shè)備【真空鍍膜磁控濺射法】: 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡(jiǎn)單的直流二極濺射,它的優(yōu)點(diǎn)是裝置簡(jiǎn)...
【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】: 低溫泵:低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機(jī)低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下,抽氣面就能大量冷凝沸點(diǎn)溫度比該抽氣面溫度高的氣體,產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達(dá)到抽氣目的的泵叫做低溫泵,或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空,guang泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路的研究和生產(chǎn),以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機(jī)和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢?湖北工具硬膜真空鍍膜設(shè)備...
【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】: 真空蒸發(fā)法的原理是:在真空條件下,用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料,使之蒸發(fā)或升華進(jìn)入氣相,氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜;由于環(huán)境是真空,因此,無(wú)論是金屬還是非金屬,在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù),其特點(diǎn)是:設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單,沉積速率快,膜層純度高,制膜材料及被鍍件材料范圍很廣,鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,應(yīng)用相當(dāng)guang泛。按蒸發(fā)源的不同,主要分為:電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。真空鍍膜設(shè)備抽真空步驟。浙江真空鍍膜設(shè)備 原材料【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之破邊、炸裂】:一般的鍍膜會(huì)對(duì)基片加熱,由于...
【真空鍍膜濺射種類】: 1、反應(yīng)濺射:氧化物,氮化物作為沉積物質(zhì) 現(xiàn)象:①:靶材分子分裂,其于工藝氣體離子發(fā)生反應(yīng),形成化合物 ②:膜層性能改變 ③:靶材有可能中毒 2、二極濺射:二極濺射是一種經(jīng)典的標(biāo)準(zhǔn)濺射技術(shù),其中等離子體和電子均只沿著電場(chǎng)方向運(yùn)動(dòng)。 特征:①:無(wú)磁場(chǎng) ②:濺射率低 ③:放電電壓高(>500V) ④:鍍膜底物受熱溫度極易升高(>500°C) 用途:主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射:暗區(qū)無(wú)等離子體產(chǎn)生,在磁控濺射下,電子呈螺旋形運(yùn)動(dòng),不會(huì)直接沖向陽(yáng)極。而是在電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的綜合作用在腔室內(nèi)做螺旋運(yùn)動(dòng)。同時(shí)獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進(jìn)...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對(duì)策: 1. 對(duì)減反膜,設(shè)計(jì)條件許可時(shí),外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率(在一定范圍內(nèi)),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場(chǎng)合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. ...
【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】: 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;被鍍基體作為陰極,利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升大、繞射性好、附著性好,膜結(jié)構(gòu)及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板;可用于鍍耐腐蝕潤(rùn)滑機(jī)械制品。 【離子鍍膜法之多陰極型】: 多陰極型:利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠熱電子、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,有時(shí)需要對(duì)基板加熱;可用于鍍精密機(jī)械制品、電子器件裝飾品。真空鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。福建手機(jī)真空鍍膜設(shè)備【光學(xué)薄膜理論基...
【真空蒸鍍的歷史】:1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴(kuò)散式真空泵實(shí)用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時(shí),其他的光學(xué)機(jī)器對(duì)材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展?!菊婵照翦兊脑怼浚涸谡婵諣顟B(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標(biāo)物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹(shù)脂與玻璃也可以使用、近年來(lái)連紙...
在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。真空鍍膜設(shè)備品牌排行。安徽超高真空鍍膜設(shè)備【真空鍍膜濺射種類】: 1、反應(yīng)濺射:氧化物,氮化物作為沉積物質(zhì) 現(xiàn)象:①:靶材分子分裂,其于工藝氣體離子發(fā)生反應(yīng),形成化合物 ②:膜層性能改變 ③:靶材有可...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之破邊、炸裂】: 一般的鍍膜會(huì)對(duì)基片加熱,由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi),由于鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數(shù)不一致,冷卻過(guò)程中會(huì)造成鏡片的破便或炸裂。 有些大鏡片,由于出罩時(shí)的溫度較高,與室溫的溫差較大,鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 改善對(duì)策: 1. 夾具(鏡圈、碟片)的設(shè)計(jì),在尺寸配合上要合理,充分考慮制造誤差帶來(lái)的影響。 2. 注意鏡圈、碟片的變形,已經(jīng)變形的夾具不能使用。 3. 選用合適的夾具才來(lái)哦(非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性),不銹鋼較為理想(熱變形系數(shù)小),就是加工難度大,價(jià)格貴。 4. ...
真空鍍膜設(shè)備具有下列優(yōu)點(diǎn):沉積效率高、電離率高、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)能力大,且鍍膜具有耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好和不易褪色等特點(diǎn)。行業(yè):五金行業(yè)、衛(wèi)浴行業(yè)、裝飾行業(yè)、家用電器行業(yè)等。適用產(chǎn)品:水龍頭、樓梯扶手、家用電器、LOGO標(biāo)牌、不銹鋼展架、不銹鋼材及板材等。涂層效果:鈦、玫瑰金、香檳金、日本金、銀、七彩、藍(lán)寶石、玫瑰紅、黑色等。本系列設(shè)備安全、生態(tài)環(huán)境保護(hù)、工藝穩(wěn)定、漆膜色澤豐富、色澤均勻、耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好、不易褪色。光學(xué)真空鍍膜設(shè)備制造商。重慶耐爾亮真空鍍膜設(shè)備【真空鍍膜機(jī)概述】: 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻...
【真空鍍膜設(shè)備的分類】: 這個(gè)問(wèn)題如果在十年之前,其實(shí)是很容易回答的,就是兩個(gè)大類,物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備。現(xiàn)在這樣回答也是沒(méi)錯(cuò)的,但現(xiàn)在再這樣回答就沒(méi)辦法把事情說(shuō)清楚了,所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類: 傳統(tǒng)光學(xué)器件(鏡片,濾光片)所用的鍍膜設(shè)備:?jiǎn)吻惑w或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設(shè)備,濺射式鍍膜設(shè)備。 新材料領(lǐng)域的柔性設(shè)備:卷對(duì)卷柔性鍍膜設(shè)備。 光通訊行業(yè):離子束濺射鍍膜設(shè)備。 半導(dǎo)體及相似工藝:化學(xué)氣相沉積設(shè)備。 功能膜:多弧離子鍍?cè)O(shè)備,濺射設(shè)備,蒸發(fā)設(shè)備 玻璃工藝:濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設(shè)備”這個(gè)范圍里面了,例如車燈鍍膜設(shè)備,太陽(yáng)能的共蒸發(fā)設(shè)備,光纖鍍膜設(shè)備,太陽(yáng)能管設(shè)...
【真空鍍膜設(shè)備之渦輪分子泵】: 渦輪分子泵:渦輪分子泵是利用高速旋轉(zhuǎn)的動(dòng)葉輪將動(dòng)量傳給氣體分子,使氣體產(chǎn)生定向流動(dòng)而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,極限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可從50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速轉(zhuǎn)動(dòng)的渦輪轉(zhuǎn)子攜帶氣體分子而獲得高真空、超高真空的一種機(jī)械真空泵。泵的轉(zhuǎn)速為10000轉(zhuǎn)/分到50000轉(zhuǎn)/分,這種泵的抽速范圍很寬,但不能直接對(duì)大氣排氣,需要配置前級(jí)泵。分子泵抽速與被抽氣體的種類有關(guān),如對(duì)氫的抽速比對(duì)空氣的抽速大20%。 真空鍍膜設(shè)備國(guó)內(nèi)有哪些產(chǎn)商?河北工具硬膜真空鍍膜設(shè)備【光譜分光不良的補(bǔ)救...
【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之其他情況】:分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。中斷的原因形式之其他情況:對(duì)于用錯(cuò)程序,錯(cuò)誤操作(預(yù)熔未關(guān)閉擋板等)人為中斷需要補(bǔ)救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補(bǔ)救的情況處理方案:模擬:將實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過(guò)計(jì)算機(jī)模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認(rèn)),找到與實(shí)現(xiàn)測(cè)試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。關(guān)于真空...
【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】: 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結(jié)構(gòu),表面硬度不高,容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括: 1. 在膜系設(shè)計(jì)允許的條件下,膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層,二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂(但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂)。鍍膜后離子轟擊幾分鐘,牢固度效果會(huì)更好。(但表面會(huì)變粗) 2. 鏡片取出真空室后,放置在較為干燥潔凈的地方,防止鏡片快速吸潮,表面硬度降低。真空鍍膜設(shè)備故障維修技巧有哪些?山東真空鍍膜設(shè)備價(jià)格【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜強(qiáng)度】:膜強(qiáng)度時(shí)鏡片鍍膜的一項(xiàng)重要指標(biāo),也是鍍膜工序Zui常見(jiàn)的不良項(xiàng)。膜強(qiáng)度...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜色差異】:膜色差異有兩種(不含色斑),一種時(shí)整罩上、中、下膜色不一致,即分光測(cè)試曲線有差異;二是單片膜色不一致。改善對(duì)策:1.調(diào)整修正版,盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容,如果有兩個(gè)蒸發(fā)源,可能的條件下,獨(dú)li使用各自的修正板,避免干擾。2.條件許可,采用行星夾具。3.傘片整形。4.加強(qiáng)傘片管理。5.改善膜料狀況6.能夠自動(dòng)預(yù)熔的膜料,盡量自動(dòng)預(yù)熔注:修正板對(duì)物理膜厚的修正有效,但對(duì)折射率的修正是力不從心的,所以完全靠修正板解決分光均勻性,是很困難的。如果一個(gè)修正板對(duì)應(yīng)二把電子搶(蒸發(fā)源)、以及多種膜料,就會(huì)有較大困難。PVD真空鍍膜機(jī)的公司。上海出售真...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對(duì)策: 1. 對(duì)減反膜,設(shè)計(jì)條件許可時(shí),外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率(在一定范圍內(nèi)),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場(chǎng)合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. ...
【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】: 電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點(diǎn)金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓電流通過(guò),對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡(jiǎn)單、造價(jià)便宜、使用可靠,可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,尤其適用于對(duì)膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是:加熱所能達(dá)到的Zui高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來(lái),為了提高加熱器的壽命,國(guó)內(nèi)外已采用壽命較長(zhǎng)的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。真空鍍膜設(shè)備的主要應(yīng)用。河北北侖真空鍍膜...
【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】: 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來(lái)改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會(huì)發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過(guò)薄膜后在光譜上會(huì)起變化,因此這些變化會(huì)使得光學(xué)薄膜至少具有下列功能: &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙色、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調(diào)整 &光電資訊的儲(chǔ)存及輸入真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。河南進(jìn)口真空鍍膜設(shè)備 【真空鍍膜改善薄膜應(yīng)力】: 1. 鍍后烘烤,Zui后一層膜鍍完后,烘烤...
【離子鍍的歷史】:真空離子鍍膜技術(shù)是近幾十年才發(fā)展起來(lái)的一種新的鍍膜技術(shù)。在離子鍍技術(shù)興起的40多年來(lái)取得了巨大的進(jìn)步,我國(guó)也有將近30多年的離子鍍研究進(jìn)程?!倦x子鍍的原理】:蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽(yáng)極,工件接陰極,當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣,在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進(jìn)入輝光放...
【真空鍍膜真空濺射法】:真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展,濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展,在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為:稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下,對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊,把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái),被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能,沿一定的方法射向基體表面,在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為:鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng);鍍膜層致密、均勻;設(shè)備簡(jiǎn)單,操作方便,容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。真空鍍膜設(shè)備哪個(gè)牌子的好?北京真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)生產(chǎn)廠家【濺射...