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【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種：旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜內(nèi)色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜內(nèi)色斑改善對策： 1. 加快研磨（拋光）到鍍膜的周期，減少鏡片被污染服飾的幾率，注意：是鏡片的全部拋光面。 2. 拋光加工中，注意對另一已拋好光的面保護 3. 注意拋光加工中的工裝、夾具、加工方法，以免造成對鏡片表面局部腐蝕傷害 4. 拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不能有拋光粉或其他雜志附著干結(jié)。 5. 控制研磨拋光液的PH值 6. 鍍膜前，用拋光粉或碳酸鈣粉對鏡片拋光面復(fù)新。 7. 加強鍍前的離子轟擊 8. 對于可見光區(qū)減反膜，在滿足技術(shù)要求的前提下設(shè)...

真空鍍膜設(shè)備常見的污染物有：加工、裝配、操作、的時候沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂這類油脂。還有酸、堿、鹽等的剩余物質(zhì)還有手汗、水中的礦物質(zhì)等。還有拋光殘渣、以及環(huán)境空氣中的塵埃和其他的有機物，這些都是需要進行清理的，我們在使用真空鍍膜設(shè)備之前進行簡單清理可以延長它的運行壽命，這些污染物還會影響真空部件的銜接處的強度和密封性能。目前，國內(nèi)制造真空鍍膜機的制造商越來越多，甚至不只是國內(nèi)，國外也有很多。錦成國泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣？云南真空鍍膜設(shè)備有毒【光譜分光不良的補救（補色）之其他情況】：分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難...

【真空鍍膜機常見故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈） 2. 坩堝被打穿（更換坩堝） 3. 高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈） 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 7. 機械泵停機可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常） 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈） 9. 擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃） 二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空： ...

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡單的直流二極濺射，它的優(yōu)點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(<0．1 Pa)下進行；不能濺射絕緣材料等缺點限制了其應(yīng)用。 磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為目前鍍膜工業(yè)主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術(shù)相比具有如下特點：可制備成靶的材料廣，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以制成靶材；在適當(dāng)條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒定的合金；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質(zhì)與氣體分子的化合物...

【為什么要在真空中鍍膜】：1.鍍的過程中不會受空氣分子碰撞,有較大的動量到達待鍍件表面2.防止氣體“污染”.如：鍍金屬膜時可以防止氧化3.成膜過程不受氣體影響,致密牢固4.真空（負壓）狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點教常壓下低,易于融化蒸發(fā)（對于蒸發(fā)類型的鍍膜）真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術(shù)經(jīng)濟效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈（碟片）臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可，用行星夾具 2. 選用傘片平坦（R大）的機臺 3. 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈（碟片），防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部...

【真空鍍膜設(shè)備使用步驟】1電控柜的操作1)開水泵、氣源2)開總電源3)開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4)開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5)觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關(guān)予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。2DEF-6B電子槍電源柜的操作1)打開總電源2)同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關(guān)，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門...

【真空鍍膜之真空的概念】： “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標準狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標準大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4 Pa（1E&6Torr）時，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對真空。Jue對真空實際上是不存在的。真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護？中國臺灣米尼真空鍍膜設(shè)備廠【濺射的四要素】：①靶材物質(zhì)，②電磁場，③底物，④一整套完整配備的鍍膜設(shè)...

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子槍加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。真空鍍膜機故障維修技巧有哪些？河北真...

【真空鍍膜設(shè)備的分類】： 這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備?，F(xiàn)在這樣回答也是沒錯的，但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類： 傳統(tǒng)光學(xué)器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設(shè)備：單腔體或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設(shè)備，濺射式鍍膜設(shè)備。 新材料領(lǐng)域的柔性設(shè)備：卷對卷柔性鍍膜設(shè)備。 光通訊行業(yè)：離子束濺射鍍膜設(shè)備。 半導(dǎo)體及相似工藝：化學(xué)氣相沉積設(shè)備。 功能膜：多弧離子鍍設(shè)備，濺射設(shè)備，蒸發(fā)設(shè)備 玻璃工藝：濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設(shè)備”這個范圍里面了，例如車燈鍍膜設(shè)備，太陽能的共蒸發(fā)設(shè)備，光纖鍍膜設(shè)備，太陽能管設(shè)...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種：旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM往復(fù)式活塞泵真空鍍膜設(shè)備的主要應(yīng)用。廣東金華真空鍍膜設(shè)備哪...

真空鍍膜設(shè)備具有下列優(yōu)點：沉積效率高、電離率高、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)能力大，且鍍膜具有耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好和不易褪色等特點。行業(yè)：五金行業(yè)、衛(wèi)浴行業(yè)、裝飾行業(yè)、家用電器行業(yè)等。適用產(chǎn)品：水龍頭、樓梯扶手、家用電器、LOGO標牌、不銹鋼展架、不銹鋼材及板材等。涂層效果：鈦、玫瑰金、香檳金、日本金、銀、七彩、藍寶石、玫瑰紅、黑色等。本系列設(shè)備安全、生態(tài)環(huán)境保護、工藝穩(wěn)定、漆膜色澤豐富、色澤均勻、耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好、不易褪色。真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些？重慶真空鍍膜設(shè)備廠商有哪些 【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片...

真空鍍膜設(shè)備常見的污染物有：加工、裝配、操作、的時候沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂這類油脂。還有酸、堿、鹽等的剩余物質(zhì)還有手汗、水中的礦物質(zhì)等。還有拋光殘渣、以及環(huán)境空氣中的塵埃和其他的有機物，這些都是需要進行清理的，我們在使用真空鍍膜設(shè)備之前進行簡單清理可以延長它的運行壽命，這些污染物還會影響真空部件的銜接處的強度和密封性能。目前，國內(nèi)制造真空鍍膜機的制造商越來越多，甚至不只是國內(nèi)，國外也有很多。真空鍍膜設(shè)備公司排名。天津立式真空鍍膜設(shè)備【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減...

看冷卻水循環(huán)系統(tǒng)。真空鍍膜機需要配置冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，冷卻水用去離子水的效果更佳，對于防腐蝕也起到很大的作用，對于一些容易生銹的部件還會有很好的抑制作用。如果在去離子水中適量的加入一些防腐劑也可以起到防腐蝕的作用?，F(xiàn)在有很多的真空鍍膜機都是采用全自動控制的方式。雖然說是全自動控制，但是各種區(qū)別還是很大的，其中有很多還處在半自動的狀態(tài)。能夠?qū)崿F(xiàn)完全自動控制的真空鍍膜還不是很多，而且自動控制的功能模塊的區(qū)別還是很大的。電源設(shè)置。真空電源、進口電源以及國產(chǎn)電源之間的差距還是比較明顯的，之間的價差也不小。一臺國產(chǎn)的20KW中頻電源大概在八萬左右，而一臺進口的中頻電源則達到了二十萬。真空鍍膜設(shè)備的應(yīng)用。陜...

【真空鍍膜機常見故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈） 2. 坩堝被打穿（更換坩堝） 3. 高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈） 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 7. 機械泵停機可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常） 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈） 9. 擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃） 二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空： ...

【離子鍍膜法介紹】： 離子鍍膜技術(shù)是在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下、同時將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍在基片上。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和激huo方式有：輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型、多弧型及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。常用的組合方式有：直流二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種：旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM往復(fù)式活塞泵真空鍍膜設(shè)備產(chǎn)業(yè)集群。中國臺灣真空鍍膜設(shè)備廢氣...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的測量】： 真空計： A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對流規(guī)： 用來測粗真空的真空計，從大氣到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應(yīng)較慢，受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī)： 用來測高真空或超高真空的真空計，熱燈絲的離子規(guī)測量范圍一般從1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，燈絲在工作時遇到大氣會燒毀；冷陰極的離子規(guī)一般可以測到1E&11Torr，精度在20%~50%，特別是超高真空下測量精度很差，需要高壓電源，探頭內(nèi)有磁鐵，使用時不能用于某些無磁的場合。 C、電容式壓力計： 探頭Zui大壓力從2...

【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】:真空蒸發(fā)法的原理是：在真空條件下，用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料，使之蒸發(fā)或升華進入氣相，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜；由于環(huán)境是真空，因此，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù)，其特點是：設(shè)備相對簡單，沉積速率快，膜層純度高，制膜材料及被鍍件材料范圍很廣，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，應(yīng)用相當(dāng)guang泛。按蒸發(fā)源的不同，主要分為：電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護？重慶臻晟真空鍍膜設(shè)備【光譜分光不良的補救（補色）之停電】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后...

真空鍍膜真空濺射法】：真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材料表面進行轟擊，把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層。特點為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強；鍍膜層致密、均勻；設(shè)備簡單，操作方便，容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。真空鍍膜設(shè)備機組介紹。江蘇出售真空鍍膜設(shè)備【真空鍍膜真空濺射法...

【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】：活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機械制品、電子器件、裝飾品?！倦x子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】：空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質(zhì)...

【真空鍍膜設(shè)備使用步驟】1電控柜的操作1)開水泵、氣源2)開總電源3)開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4)開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5)觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關(guān)予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。2DEF-6B電子槍電源柜的操作1)打開總電源2)同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關(guān)，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外色斑】： 色斑（也稱膜色亞克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對策： 1. 對減反膜，設(shè)計條件許可時，外層加以SiO2層，10nm左右即可（一般的外層膜是MgF2）。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率（在一定范圍內(nèi)），提高膜層光滑度，減少吸附。 3. 鏡片在出罩后，待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后，放置在潔凈干燥的場合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉，輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境，使充入的大氣干燥、潔凈。 8. ...

真空鍍膜真空濺射法】：真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材料表面進行轟擊，把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層。特點為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強；鍍膜層致密、均勻；設(shè)備簡單，操作方便，容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。國產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備廠商推薦。江蘇真空鍍膜設(shè)備廠 【為什么要在真...

【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】： 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點是：基板溫升大、繞射性好、附著性好，膜結(jié)構(gòu)及形貌差，若用電子束加熱必須用差壓板；可用于鍍耐腐蝕潤滑機械制品。 【離子鍍膜法之多陰極型】： 多陰極型:利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；依靠熱電子、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，有時需要對基板加熱；可用于鍍精密機械制品、電子器件裝飾品。真空鍍膜設(shè)備廠家排名。山東多晶硅真空鍍膜設(shè)備【真空鍍膜真空...

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】： 電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過，對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價便宜、使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的Zui高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。真空鍍膜設(shè)備品牌排行。海南做真空鍍膜設(shè)備...

【真空鍍膜電子束蒸發(fā)法】： 電子束蒸發(fā)法是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面形成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點，特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。 【真空鍍膜激光蒸發(fā)法】： 采用激光束蒸發(fā)源的蒸鍍技術(shù)是一種理想的薄膜制備方法。這是由于激光器是可以安裝在真空室之外，這樣不但簡化了真空室內(nèi)部的空間布置，減少了加熱源的放氣，而且還可完全避免了蒸發(fā)氣對被鍍材料的污染，達到了膜層純潔的目的。此外，激光加熱可以達到極高的溫度，利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M行快速蒸發(fā)。這對于保證...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之破邊、炸裂】： 一般的鍍膜會對基片加熱，由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi)，由于鏡圈或碟片與鏡片（基片）的熱膨脹系數(shù)不一致，冷卻過程中會造成鏡片的破便或炸裂。 有些大鏡片，由于出罩時的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 改善對策： 1. 夾具（鏡圈、碟片）的設(shè)計，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來的影響。 2. 注意鏡圈、碟片的變形，已經(jīng)變形的夾具不能使用。 3. 選用合適的夾具才來哦（非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性），不銹鋼較為理想（熱變形系數(shù)小），就是加工難度大，價格貴。 4. ...

【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】： 低溫泵：低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下，抽氣面就能大量冷凝沸點溫度比該抽氣面溫度高的氣體，產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達到抽氣目的的泵叫做低溫泵，或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空，guang泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路的研究和生產(chǎn)，以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜機為什么會越來越慢？江西派瑞林真空鍍膜設(shè)備【...