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【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】： 活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮氣、乙炔等反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁( AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機械制品、電子器件、裝飾品。 【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】： 空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬...

【真空蒸鍍的歷史】：1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理，而后、1930年代由于油擴散式真空泵實用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時，其他的光學(xué)機器對材料的需求提高，真空蒸鍍也因此快速發(fā)展?！菊婵照翦兊脑怼浚涸谡婵諣顟B(tài)下，加熱蒸發(fā)容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉積在目標(biāo)物體表面，形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外，樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙...

【真空鍍膜設(shè)備適用范圍】1、建筑五金：衛(wèi)浴五金（如水龍頭）、門鎖、門拉手、衛(wèi)浴、門鎖、五金合葉、家具等。2、制表業(yè)：可用于表殼、表帶的鍍膜、水晶制品。3、其它小五金：皮革五金、不銹鋼餐具、眼鏡框、刀具、模具等。4、大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板、招牌、雕塑等。5、不銹鋼管和板（各種類型表面）6、家具、燈具、賓館用具7、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金制品鍍超硬裝飾膜。8、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納米膜和納米疊層膜。PVD真空鍍膜機的公司。中國臺灣簡述真空鍍膜設(shè)備的特點和應(yīng)用【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】：分光不良分為二種情況：一是...

【光譜分光不良的補救（補色）之停電】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之停電： 對于停電這種情況，比較好處理，只要確認前面鍍的沒錯，程序沒有用錯，就可以繼續(xù)原來的程序，要注意的是：如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時，交接處要減少一些膜厚（根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少，一般時0.2~1nm左右），如果該層剩下的膜厚不足15~20秒蒸鍍時，...

真空鍍膜設(shè)備常見的污染物有：加工、裝配、操作、的時候沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂這類油脂。還有酸、堿、鹽等的剩余物質(zhì)還有手汗、水中的礦物質(zhì)等。還有拋光殘渣、以及環(huán)境空氣中的塵埃和其他的有機物，這些都是需要進行清理的，我們在使用真空鍍膜設(shè)備之前進行簡單清理可以延長它的運行壽命，這些污染物還會影響真空部件的銜接處的強度和密封性能。目前，國內(nèi)制造真空鍍膜機的制造商越來越多，甚至不只是國內(nèi)，國外也有很多。真空鍍膜設(shè)備的工作原理和構(gòu)成。河北真空鍍膜設(shè)備【近些年來出現(xiàn)的新的鍍膜方法】： 除蒸發(fā)法和濺射法外，人們又綜合了這兩種方法的優(yōu)缺點，取長補短，發(fā)展出一些新的方法，如：等離子體束濺射等。這種嶄新的技...

【真空鍍膜真空濺射法】：真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材料表面進行轟擊，把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層。特點為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強；鍍膜層致密、均勻；設(shè)備簡單，操作方便，容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。真空鍍膜設(shè)備升級改造。安徽金屬真空鍍膜設(shè)備 【真空鍍膜設(shè)備...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種：旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速

【離子鍍膜法之射頻離子鍍】： 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應(yīng)氣體氧氣、氮氣、乙炔等離化。這種方法的特點是：基板溫升小，不純氣體少，成膜好，適合鍍化合物膜，但匹配較困難?？蓱?yīng)用于鍍光學(xué)器件、半導(dǎo)體器件、裝飾品、汽車零件等。射頻離子鍍膜設(shè)備對周遭環(huán)境沒有不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的工業(yè)發(fā)展方向。目前，該類型設(shè)備已經(jīng)guang泛用在硬質(zhì)合金立銑刀、可轉(zhuǎn)位銑刀、焊接工具、階梯鉆、鉆頭、鉸刀、油孔鉆、車刀、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上。 此外，離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍，感應(yīng)離子加熱鍍，集團離子束鍍和多弧離子鍍...

【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】:真空蒸發(fā)法的原理是：在真空條件下，用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料，使之蒸發(fā)或升華進入氣相，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜；由于環(huán)境是真空，因此，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù)，其特點是：設(shè)備相對簡單，沉積速率快，膜層純度高，制膜材料及被鍍件材料范圍很廣，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，應(yīng)用相當(dāng)guang泛。按蒸發(fā)源的不同，主要分為：電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。真空鍍膜設(shè)備詳細鍍膜方法。中國臺灣華星光電真空鍍膜設(shè)備【濺射鍍膜定義】：定義：所謂濺射，就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下，...

【光譜分光不良的補救（補色）之其他情況】：分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。中斷的原因形式之其他情況：對于用錯程序，錯誤操作（預(yù)熔未關(guān)閉擋板等）人為中斷需要補救的；以及反光膜、濾光膜鍍后需要補救的情況處理方案：模擬：將實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過計算機模擬（一般是Zui后一層的膜厚確認），找到與實現(xiàn)測試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。真空鍍膜...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之破邊、炸裂】：一般的鍍膜會對基片加熱，由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi)，由于鏡圈或碟片與鏡片（基片）的熱膨脹系數(shù)不一致，冷卻過程中會造成鏡片的破便或炸裂。有些大鏡片，由于出罩時的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。改善對策：1.夾具（鏡圈、碟片）的設(shè)計，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來的影響。2.注意鏡圈、碟片的變形，已經(jīng)變形的夾具不能使用。3.選用合適的夾具才來哦（非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性），不銹鋼較為理想（熱變形系數(shù)小），就是加工難度大，價格貴。4.對于大鏡片應(yīng)降低出罩時...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之破邊、炸裂】：一般的鍍膜會對基片加熱，由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi)，由于鏡圈或碟片與鏡片（基片）的熱膨脹系數(shù)不一致，冷卻過程中會造成鏡片的破便或炸裂。有些大鏡片，由于出罩時的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。改善對策：1.夾具（鏡圈、碟片）的設(shè)計，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來的影響。2.注意鏡圈、碟片的變形，已經(jīng)變形的夾具不能使用。3.選用合適的夾具才來哦（非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性），不銹鋼較為理想（熱變形系數(shù)小），就是加工難度大，價格貴。4.對于大鏡片應(yīng)降低出罩時...

【濺射鍍膜定義】：定義：所謂濺射，就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下，形成氣體等離子體（輝光放電），其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊，陽離子和靶材進行能量交換，使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出（其中逸出的還可能包含靶材離子）。這一整個的動力學(xué)過程，就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時，將其部分能量傳輸給表層晶格原子，引起靶材中原子的運動。有的原子獲得能量后從晶格處移位，并克服了表面勢壘直接發(fā)生濺射；有的不能脫離晶格的束縛，只能在原位做振動并波及周圍原子，結(jié)果使靶的溫度升高；而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖，將其臨近的原子碰撞移位，反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖，這一過程稱為級聯(lián)...

【真空鍍膜之真空的概念】：“真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4Pa（1E&6Torr）時，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對真空。Jue對真空實際上是不存在的。真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護？上海真空鍍膜設(shè)備測試【光譜分光不良的補救（補色）之其他情況】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制...

【真空鍍膜機概述】：真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機構(gòu)造的五大系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設(shè)定目標(biāo)值；因此，只有當(dāng)三個條件同時滿足時，自動化程序才會自動運行。真空鍍膜機需要做定期定期保養(yǎng)，目的在于：讓鍍膜機能長時間地正常運轉(zhuǎn)；降低故障時間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機器精度，穩(wěn)定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機器利用率等。...

多弧離子鍍原理是利用真空弧光放電計數(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù)，即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源（陰極），與陽極之間形成自持弧光放電，既從陰極弧光輝點放出陰極物質(zhì)的離子。由于電流局部的集中，產(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料局部的爆發(fā)性地等離子化，在工作偏壓的作用下與反應(yīng)氣體化合，而沉積在工件表面是形成被鍍的膜層。真空蒸發(fā)鍍膜法：就是將鍍的基材放于真空鍍膜機的電極上進行加熱，使其蒸發(fā)為氣體，由于鍍膜室處于真空狀態(tài)，所以氣體膜材的運輸不會受到阻礙，沉積到基片表面，就形成了均勻的薄膜。錦成國泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣？云南真空鍍膜設(shè)備熱處理【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】： 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結(jié)構(gòu)，表...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之破邊、炸裂】：一般的鍍膜會對基片加熱，由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi)，由于鏡圈或碟片與鏡片（基片）的熱膨脹系數(shù)不一致，冷卻過程中會造成鏡片的破便或炸裂。有些大鏡片，由于出罩時的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。改善對策：1.夾具（鏡圈、碟片）的設(shè)計，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來的影響。2.注意鏡圈、碟片的變形，已經(jīng)變形的夾具不能使用。3.選用合適的夾具才來哦（非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性），不銹鋼較為理想（熱變形系數(shù)?。?，就是加工難度大，價格貴。4.對于大鏡片應(yīng)降低出罩時...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜料點】： 膜料點不良也是鍍膜產(chǎn)品的一個常見問題，在日企、臺企把膜料點稱為“斑孔”。顧名思義，膜料點就是蒸鍍中，大顆粒膜料點隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面。在基片表面形成點狀的突起，有時是個別點，嚴(yán)重時時成片的細點，大顆粒點甚至打傷基片表面。 改善對策： 1. 選擇雜質(zhì)少的膜料 2. 對易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料 3. 膜料在鍍前用網(wǎng)篩篩一下 4. 精心預(yù)熔 5. 用一把電子搶鍍制幾種膜料時，防止坩堝轉(zhuǎn)動中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料污染。 6. 盡Zui大可能使用蒸發(fā)舟、坩堝干凈。 7. 選擇合適的蒸發(fā)速率及速率曲線的平滑。 8. 膜料去...

真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。② 打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。⑤ 落下鐘罩。⑥ 啟動抽真空機械泵。⑦ 開復(fù)合真空計電源（復(fù)合真空計型號：Fzh-1A)。真空鍍膜設(shè)備詳細鍍膜方法。上海索佳真空鍍膜設(shè)備有限公司不同類型鍍膜機的適用范圍介紹1、磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲領(lǐng)域，如磁信息存儲、磁光信...

【真空鍍膜機常見故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞（更換膠圈） 2. 坩堝被打穿（更換坩堝） 3. 高壓電極密封處被擊穿（更換膠圈） 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞（更換二位五通閥） 7. 機械泵停機可能是繼電器斷開（檢查繼電器是否工作正常） 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿（更換膠圈） 9. 擋板動密封處膠圈損壞（更換膠圈） 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂（更換玻璃） 二、長期工作的鍍膜機抽真空的時間很長且達不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空： ...

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】： 真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。 按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。 A、粗真空泵（Rough Vacuum Pump）：一般用于抽粗真空，有油泵和 干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種： 旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM 隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM 往復(fù)式活塞泵：干泵，極限真空10&2...

【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】： 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達到效果的。是在光學(xué)元件上或獨li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進才會發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過薄膜后在光譜上會起變化，因此這些變化會使得光學(xué)薄膜至少具有下列功能： &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙色、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調(diào)整 &光電資訊的儲存及輸入磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是什么？湖北真空鍍膜設(shè)備組成 【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】： 真空泵：真空泵是指利用機械、物理、...

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值，再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優(yōu)化，模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈（碟片）臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可，用行星夾具 2. 選用傘片平坦（R大）的機臺 3. 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈（碟片），防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部...

【真空鍍膜設(shè)備使用步驟】1電控柜的操作1)開水泵、氣源2)開總電源3)開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4)開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5)觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關(guān)予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。2DEF-6B電子槍電源柜的操作1)打開總電源2)同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關(guān)，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門...

【濺射鍍膜定義】： 定義：所謂濺射，就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下，形成氣體等離子體（輝光放電），其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊，陽離子和靶材進行能量交換，使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出（其中逸出的還可能包含靶材離子）。這一整個的動力學(xué)過程，就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時，將其部分能量傳輸給表層晶格原子，引起靶材中原子的運動。有的原子獲得能量后從晶格處移位，并克服了表面勢壘直接發(fā)生濺射；有的不能脫離晶格的束縛，只能在原位做振動并波及周圍原子，結(jié)果使靶的溫度升高；而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖，將其臨近的原子碰撞移位，反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖，這一過程稱為級...

【真空鍍膜設(shè)備撿漏方法】:檢漏方法很多，根據(jù)被檢件所處的狀態(tài)可分為充壓檢漏法、真空檢漏法及其它檢漏法。充壓檢漏法：在被檢件內(nèi)部充入一定壓力的示漏物質(zhì)，如果被檢件上有漏孔，示漏物質(zhì)便從漏孔漏出，用一定的方法或儀器在被檢件外部檢測出從漏孔漏出的示漏物質(zhì)，從而判定漏孔的存在、位置及漏率的大小，此即充壓檢漏法。真空檢漏法：被檢件和檢漏器的敏感元件處于真空狀態(tài)，在被檢件的外部施加示漏物質(zhì)，如果有漏孔，示漏物質(zhì)就會通過漏孔進入被檢件和敏感元件的空間，由敏感元件檢測出示漏物質(zhì)，從而可以判定漏孔的存在、位置利漏率的大小，這就是真空檢漏法。其它檢漏法：被檢件既不充壓也不抽真空，或其外部受壓等方法歸入...

【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】： 低溫泵：低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下，抽氣面就能大量冷凝沸點溫度比該抽氣面溫度高的氣體，產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達到抽氣目的的泵叫做低溫泵，或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空，guang泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路的研究和生產(chǎn)，以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜設(shè)備參數(shù)怎么調(diào)？遼寧真空鍍膜設(shè)備張以忱pdf...

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值，再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優(yōu)化，模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測...

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】：電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過，對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價便宜、使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的Zui高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。成都國泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣？浙江真空鍍膜設(shè)...