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【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜外自霧】：現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕?？赡艹梢蛴校?.膜結(jié)構(gòu)問(wèn)題，外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過(guò)大，膜結(jié)構(gòu)粗糙3.溫差：鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)大4.潮氣：鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣5.真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時(shí)水汽過(guò)重6.蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻。7.膜與膜之間的應(yīng)力改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對(duì)癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。改善對(duì)策：1.改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜外自霧】：現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕?？赡艹梢蛴校?.膜結(jié)構(gòu)問(wèn)題，外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過(guò)大，膜結(jié)構(gòu)粗糙3.溫差：鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)大4.潮氣：鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣5.真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時(shí)水汽過(guò)重6.蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻。7.膜與膜之間的應(yīng)力改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對(duì)癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。改善對(duì)策：1.改善膜系，外層加二氧化硅，使...

【真空鍍膜之真空的概念】： “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4 Pa（1E&6Torr）時(shí)，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對(duì)真空。Jue對(duì)真空實(shí)際上是不存在的。真空鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些？陜西真空鍍膜設(shè)備系統(tǒng) 【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】： 真空泵：真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜臟】： 顧名思義，膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括：灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。 改善對(duì)策：檢討過(guò)程，杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過(guò)多的不良附著物。 2. 加強(qiáng)鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境，防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習(xí)慣，防止鏡片污染。 5. 加快真空室護(hù)板更換周期。 6. 充氣管道清潔，防止氣體充入時(shí)污染。 7. 初始排期防渦流（湍流），初始充氣防過(guò)充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運(yùn)過(guò)程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機(jī)作業(yè)面板和...

【真空鍍膜之真空的概念】：“真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4Pa（1E&6Torr）時(shí)，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對(duì)真空。Jue對(duì)真空實(shí)際上是不存在的。關(guān)于真空鍍膜機(jī)，你知道多少？新疆金華真空鍍膜設(shè)備哪種好【離子鍍膜法之射頻離子鍍】： 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱...

【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】：活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮?dú)?、乙炔等反?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機(jī)械制品、電子器件、裝飾品?！倦x子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】：空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質(zhì)...

【光譜分光不良的補(bǔ)救（補(bǔ)色）之其他情況】：分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測(cè)試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確，補(bǔ)救成功率比較高。中斷的原因形式之其他情況：對(duì)于用錯(cuò)程序，錯(cuò)誤操作（預(yù)熔未關(guān)閉擋板等）人為中斷需要補(bǔ)救的；以及反光膜、濾光膜鍍后需要補(bǔ)救的情況處理方案：模擬：將實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過(guò)計(jì)算機(jī)模擬（一般是Zui后一層的膜厚確認(rèn)），找到與實(shí)現(xiàn)測(cè)試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。優(yōu)化：根...

【真空鍍膜真空濺射法】：真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下，對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊，把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái)，被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng)；鍍膜層致密、均勻；設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。中國(guó)臺(tái)灣珠寶首飾真空鍍膜設(shè)備【濺射的...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜色差異】：膜色差異有兩種（不含色斑），一種時(shí)整罩上、中、下膜色不一致，即分光測(cè)試曲線有差異；二是單片膜色不一致。改善對(duì)策：1.調(diào)整修正版，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有兩個(gè)蒸發(fā)源，可能的條件下，獨(dú)li使用各自的修正板，避免干擾。2.條件許可，采用行星夾具。3.傘片整形。4.加強(qiáng)傘片管理。5.改善膜料狀況6.能夠自動(dòng)預(yù)熔的膜料，盡量自動(dòng)預(yù)熔注：修正板對(duì)物理膜厚的修正有效，但對(duì)折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。如果一個(gè)修正板對(duì)應(yīng)二把電子搶（蒸發(fā)源）、以及多種膜料，就會(huì)有較大困難。真空鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。北京做真空鍍...

【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】：活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮?dú)?、乙炔等反?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機(jī)械制品、電子器件、裝飾品。【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】：空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質(zhì)...

【濺射鍍膜定義】：定義：所謂濺射，就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下，形成氣體等離子體（輝光放電），其中的陽(yáng)離子在電場(chǎng)力作用下高速向靶材沖擊，陽(yáng)離子和靶材進(jìn)行能量交換，使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出（其中逸出的還可能包含靶材離子）。這一整個(gè)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程，就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時(shí)，將其部分能量傳輸給表層晶格原子，引起靶材中原子的運(yùn)動(dòng)。有的原子獲得能量后從晶格處移位，并克服了表面勢(shì)壘直接發(fā)生濺射；有的不能脫離晶格的束縛，只能在原位做振動(dòng)并波及周圍原子，結(jié)果使靶的溫度升高；而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖，將其臨近的原子碰撞移位，反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖，這一過(guò)程稱為級(jí)聯(lián)...

不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹1、磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等2、磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等3、磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等4、光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等5、AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等6、觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。7、磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。8、PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)...

【真空鍍膜設(shè)備的分類】： 這個(gè)問(wèn)題如果在十年之前，其實(shí)是很容易回答的，就是兩個(gè)大類，物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備。現(xiàn)在這樣回答也是沒錯(cuò)的，但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說(shuō)清楚了，所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類： 傳統(tǒng)光學(xué)器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設(shè)備：?jiǎn)吻惑w或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設(shè)備，濺射式鍍膜設(shè)備。 新材料領(lǐng)域的柔性設(shè)備：卷對(duì)卷柔性鍍膜設(shè)備。 光通訊行業(yè)：離子束濺射鍍膜設(shè)備。 半導(dǎo)體及相似工藝：化學(xué)氣相沉積設(shè)備。 功能膜：多弧離子鍍?cè)O(shè)備，濺射設(shè)備，蒸發(fā)設(shè)備 玻璃工藝：濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設(shè)備”這個(gè)范圍里面了，例如車燈鍍膜設(shè)備，太陽(yáng)能的共蒸發(fā)設(shè)備，光纖鍍膜設(shè)備，太陽(yáng)能管設(shè)...

【真空鍍膜真空濺射法】： 真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下，對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊，把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái)，被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng)；鍍膜層致密、均勻；設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，容易控制。 主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。真空鍍膜設(shè)備怎么維修。四川真空鍍膜設(shè)備有毒【光譜分光不良...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜強(qiáng)度】：膜強(qiáng)度時(shí)鏡片鍍膜的一項(xiàng)重要指標(biāo)，也是鍍膜工序Zui常見的不良項(xiàng)。膜強(qiáng)度的不良（膜弱）主要表現(xiàn)為：1.擦拭專yong膠帶拉撕，產(chǎn)生成片脫落2.擦拭專yong膠帶拉撕，產(chǎn)生點(diǎn)狀脫落3.水煮15分鐘后用專yong膠帶拉撕產(chǎn)生點(diǎn)狀或片狀脫落4.用專yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產(chǎn)生5.膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細(xì)道子改善思路：基片與膜層的結(jié)合是首要考慮的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜應(yīng)力。真空鍍膜設(shè)備公司排名。北京二手真空鍍膜設(shè)備不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹1、磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等2、磁控濺...

【真空鍍膜真空濺射法】：真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下，對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊，把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái)，被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng)；鍍膜層致密、均勻；設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢？江蘇真空鍍膜設(shè)備 pdf看冷卻水...

【離子鍍膜法介紹】： 離子鍍膜技術(shù)是在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下、同時(shí)將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍?cè)诨?。根?jù)不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和激huo方式有：輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型、多弧型及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。常用的組合方式有：直流二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE...

【光譜分光不良的補(bǔ)救（補(bǔ)色）之機(jī)器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測(cè)試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確，補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之機(jī)器故障和人為中斷： 模擬：根據(jù)已經(jīng)實(shí)鍍的鏡片（測(cè)試比較片）實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值，再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優(yōu)化，模擬出實(shí)際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測(cè)試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測(cè)...

【真空鍍膜電子束蒸發(fā)法】： 電子束蒸發(fā)法是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面形成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點(diǎn)，特別適合制作熔點(diǎn)薄膜材料和高純薄膜材料。 【真空鍍膜激光蒸發(fā)法】： 采用激光束蒸發(fā)源的蒸鍍技術(shù)是一種理想的薄膜制備方法。這是由于激光器是可以安裝在真空室之外，這樣不但簡(jiǎn)化了真空室內(nèi)部的空間布置，減少了加熱源的放氣，而且還可完全避免了蒸發(fā)氣對(duì)被鍍材料的污染，達(dá)到了膜層純潔的目的。此外，激光加熱可以達(dá)到極高的溫度，利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M(jìn)行快速蒸發(fā)。這對(duì)于保證...

【真空鍍膜之真空的概念】：“真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4Pa（1E&6Torr）時(shí)，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對(duì)真空。Jue對(duì)真空實(shí)際上是不存在的。真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢？山西領(lǐng)跑真空鍍膜設(shè)備領(lǐng)域 【真空鍍膜設(shè)備撿漏方法】:檢漏方法很多，根據(jù)被檢件所處的狀態(tài)可分...

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。② 打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。⑤ 落下鐘罩。⑥ 啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦ 開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號(hào)：Fzh-1A)。真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護(hù)？湖北真空鍍膜設(shè)備廠商有哪些【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】: 真空蒸發(fā)法的原理是：在真空條件下，用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料，使之...

不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹1、磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等2、磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等3、磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等4、光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等5、AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等6、觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。7、磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。8、PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)...

真空鍍膜真空濺射法】：真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下，對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊，把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái)，被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng)；鍍膜層致密、均勻；設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。紅外真空鍍膜設(shè)備制造商。廣西真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域【真空鍍膜產(chǎn)品...

【為什么要在真空中鍍膜】： 1.鍍的過(guò)程中不會(huì)受空氣分子碰撞,有較大的動(dòng)量到達(dá)待鍍件表面 2.防止氣體“污染”.如：鍍金屬膜時(shí)可以防止氧化 3.成膜過(guò)程不受氣體影響,致密牢固 4.真空（負(fù)壓）狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點(diǎn)教常壓下低,易于融化蒸發(fā)（對(duì)于蒸發(fā)類型的鍍膜） 真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。因...

、根據(jù)自己的產(chǎn)品定位來(lái)選擇鍍膜機(jī)廠家的等級(jí)。如果產(chǎn)品定位是市場(chǎng)，那就要對(duì)應(yīng)選擇中的設(shè)備，如果不是那就選擇中端或者低端即可。第二、中的鍍膜機(jī)設(shè)備穩(wěn)定性一定要好，且要保證配件的可靠性。因?yàn)檎婵斟兡C(jī)本身就是一個(gè)比較復(fù)雜的系統(tǒng)，包括真空、自動(dòng)化等多個(gè)系統(tǒng)，任何一個(gè)系統(tǒng)的部件不可靠都會(huì)直接影響著整個(gè)機(jī)器運(yùn)行的穩(wěn)定性和可靠性，從而給生產(chǎn)帶來(lái)不便。第三、可以觀察一下同行業(yè)或者一些的公司都在使用哪家的真空鍍膜機(jī)，這也是減小風(fēng)險(xiǎn)的一種有效方式。真空鍍膜設(shè)備使用時(shí)，需要注意哪些問(wèn)題?江西玻璃真空鍍膜設(shè)備【離子鍍的歷史】：真空離子鍍膜技術(shù)是近幾十年才發(fā)展起來(lái)的一種新的鍍膜技術(shù)。在離子鍍技術(shù)興起的40多年來(lái)取得了巨...

真空鍍膜機(jī)，顧名思義就是將工件放入真空室中，利用高氣壓使工件與氣體隔絕形成真空狀態(tài)后進(jìn)行鍍膜的一種工藝。由于這種工藝需要采用特殊的設(shè)備才能實(shí)現(xiàn)，所以一般用于精密加工行業(yè)和電子行業(yè)等對(duì)產(chǎn)品精度要求較高的場(chǎng)合。真空鍍膜冷水機(jī)是專門為真空鍍膜而設(shè)計(jì)的制冷設(shè)備。它具有結(jié)構(gòu)緊湊、體積小、效率高、噪音低等特點(diǎn)；同時(shí)還可以提供多種冷凍水溫度供用戶選擇使用（如常溫型、高溫型）。下面我們就來(lái)了解一下它的工作原理：1、在機(jī)組內(nèi)裝有蒸發(fā)器及冷凝器各一臺(tái)；2、當(dāng)機(jī)組啟動(dòng)時(shí)壓縮空氣經(jīng)壓縮機(jī)吸入到蒸發(fā)器內(nèi)與水換熱產(chǎn)生冷媒蒸汽并汽化吸出熱量的同時(shí)被冷凝成液體；3、冷卻后的冷媒蒸汽進(jìn)入冷凝器的下端回氣管內(nèi)再次吸收熱量變成液態(tài)...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜料點(diǎn)】： 膜料點(diǎn)不良也是鍍膜產(chǎn)品的一個(gè)常見問(wèn)題，在日企、臺(tái)企把膜料點(diǎn)稱為“斑孔”。顧名思義，膜料點(diǎn)就是蒸鍍中，大顆粒膜料點(diǎn)隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面。在基片表面形成點(diǎn)狀的突起，有時(shí)是個(gè)別點(diǎn)，嚴(yán)重時(shí)時(shí)成片的細(xì)點(diǎn)，大顆粒點(diǎn)甚至打傷基片表面。 改善對(duì)策： 1. 選擇雜質(zhì)少的膜料 2. 對(duì)易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料 3. 膜料在鍍前用網(wǎng)篩篩一下 4. 精心預(yù)熔 5. 用一把電子搶鍍制幾種膜料時(shí)，防止坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料污染。 6. 盡Zui大可能使用蒸發(fā)舟、坩堝干凈。 7. 選擇合適的蒸發(fā)速率及速率曲線的平滑。 8. 膜料去...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜外自霧】：現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕。可能成因有：1.膜結(jié)構(gòu)問(wèn)題，外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過(guò)大，膜結(jié)構(gòu)粗糙3.溫差：鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)大4.潮氣：鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣5.真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時(shí)水汽過(guò)重6.蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻。7.膜與膜之間的應(yīng)力改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對(duì)癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。改善對(duì)策：1.改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，...

真空鍍膜設(shè)備常見的污染物有：加工、裝配、操作、的時(shí)候沾染上的潤(rùn)滑劑、切削液、真空油脂這類油脂。還有酸、堿、鹽等的剩余物質(zhì)還有手汗、水中的礦物質(zhì)等。還有拋光殘?jiān)?、以及環(huán)境空氣中的塵埃和其他的有機(jī)物，這些都是需要進(jìn)行清理的，我們?cè)谑褂谜婵斟兡ぴO(shè)備之前進(jìn)行簡(jiǎn)單清理可以延長(zhǎng)它的運(yùn)行壽命，這些污染物還會(huì)影響真空部件的銜接處的強(qiáng)度和密封性能。目前，國(guó)內(nèi)制造真空鍍膜機(jī)的制造商越來(lái)越多，甚至不只是國(guó)內(nèi)，國(guó)外也有很多。真空鍍膜設(shè)備認(rèn)準(zhǔn)成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司。湖北六面鍍真空鍍膜設(shè)備【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜強(qiáng)度】：膜強(qiáng)度時(shí)鏡片鍍膜的一項(xiàng)重要指標(biāo)，也是鍍膜工序Zui常見的不良項(xiàng)。膜強(qiáng)度的不良（膜弱）...

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】：電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過(guò)，對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡(jiǎn)單、造價(jià)便宜、使用可靠，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對(duì)膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是：加熱所能達(dá)到的Zui高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來(lái)，為了提高加熱器的壽命，國(guó)內(nèi)外已采用壽命較長(zhǎng)的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。錦成國(guó)泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣？中國(guó)臺(tái)灣真空鍍...