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作為歐盟光子計(jì)算項(xiàng)目PHOENICS（2020Horizont歐盟地平線科研項(xiàng)目）的成員，Nanoscribe攜手德國(guó)明斯特大學(xué)，與全球光子計(jì)算領(lǐng)域的**一起，展開了為期四年的科研項(xiàng)目，以實(shí)現(xiàn)超高寬帶的高能效千兆計(jì)算處理能力，用于新一代人工智能（AI）應(yīng)用的計(jì)算平臺(tái)。Nanoscribe將為光子封裝技術(shù)開發(fā)新的硬件和軟件解決方案。各種不同光子平臺(tái)都有著不同類型的光子耦合接口，而這正是光子封裝系統(tǒng)工業(yè)化的主要困難和挑戰(zhàn)。雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX作為硬件載體框架，并計(jì)劃建立一個(gè)先進(jìn)的平臺(tái)，成為下一代光子封裝技術(shù)的行業(yè)榜樣。如果了解雙光子灰度光刻技術(shù)，歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公...

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過(guò)激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外，還可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以非常普遍的打印材料選...

近年來(lái)，利用雙光子聚合對(duì)聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟，其高精度、高度可設(shè)計(jì)性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前。與此同時(shí)，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點(diǎn)。在現(xiàn)階段，對(duì)于3D飛秒激光打印技術(shù)而言，具體來(lái)說(shuō)就是利用其加工的高度可設(shè)計(jì)性來(lái)實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件，從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)...

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過(guò)激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外，還可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以非常普遍的打印材料選...

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)成為了現(xiàn)在世界公認(rèn)的微納米加工技術(shù)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項(xiàng)國(guó)際專項(xiàng)的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺(tái)工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻（2GL?)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用，例如哈佛大學(xué)，牛津大學(xué)等出名的院校，...

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口...

QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀...

來(lái)自德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì)。科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟灰度光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后，在密閉的微流道中通過(guò)芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺...

Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。了解更多關(guān)于灰度光刻技術(shù)各種應(yīng)用，歡迎咨詢...

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制...

近年來(lái)，實(shí)現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機(jī)電（MEMS）、微納光學(xué)及微流控研究領(lǐng)域內(nèi)備受關(guān)注，良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學(xué)特性，信號(hào)通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段，如超快激光刻蝕工藝、電化學(xué)腐蝕或反應(yīng)離子刻蝕等，灰度直寫圖形曝光結(jié)合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結(jié)構(gòu)。該方法中，利用微鏡矩陣（DMD）開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設(shè)計(jì)等特點(diǎn)，不需要特定的灰度色調(diào)掩膜版，結(jié)合軟件的圖形化設(shè)計(jì)可以直觀地獲得灰度結(jié)構(gòu)。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子...

納米紋理在納米技術(shù)中起著越來(lái)越重要的作用。近期的研究表明，可以通過(guò)空間調(diào)節(jié)其納米級(jí)像素的高度來(lái)進(jìn)一步增強(qiáng)其功能。但是，實(shí)現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性，因?yàn)樗枰獙?duì)納米像素進(jìn)行“灰度”打印，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi)。只有少數(shù)幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴(yán)格的要求，但通常其成本較高，并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開發(fā)過(guò)程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù)。上海進(jìn)口灰度光刻3D微納加工Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新...

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來(lái)在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造...

來(lái)自德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì)?？茖W(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟灰度光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后，在密閉的微流道中通過(guò)芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺...

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受...

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)...

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微...

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?；陔p光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL?)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。了解雙光子灰度光刻敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)...

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨(dú)jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具...

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanos...

近年來(lái)，實(shí)現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機(jī)電（MEMS）、微納光學(xué)及微流控研究領(lǐng)域內(nèi)備受關(guān)注，良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學(xué)特性，信號(hào)通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段，如超快激光刻蝕工藝、電化學(xué)腐蝕或反應(yīng)離子刻蝕等，灰度直寫圖形曝光結(jié)合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結(jié)構(gòu)。該方法中，利用微鏡矩陣（DMD）開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設(shè)計(jì)等特點(diǎn)，不需要特定的灰度色調(diào)掩膜版，結(jié)合軟件的圖形化設(shè)計(jì)可以直觀地獲得灰度結(jié)構(gòu)。如需詳細(xì)了解雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的內(nèi)容請(qǐng)咨詢Na...

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨(dú)jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度...

現(xiàn)代光電設(shè)備在系統(tǒng)的復(fù)雜化與小型化得到了巨大改進(jìn)。一種應(yīng)用需求為使用定制的透鏡陣列來(lái)準(zhǔn)直和投射來(lái)自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復(fù)合激光線。消費(fèi)類相機(jī)和投影模塊中的微型光學(xué)元件通常需要多個(gè)元件才能滿足性能規(guī)格。復(fù)雜的組裝對(duì)于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn)。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會(huì)導(dǎo)致高度彎曲的表面產(chǎn)生球面像差，從而抑制準(zhǔn)直性能。硅灰度光刻技術(shù)可以在單個(gè)高折射率表面上實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的透鏡形狀，同時(shí)還可以在多個(gè)孔之間提供精確的對(duì)準(zhǔn)和間距。多孔徑透鏡陣列設(shè)計(jì)用于沿快軸準(zhǔn)直激光，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角。陣列中的每個(gè)元素還包含偏心和衍射項(xiàng)，以偏置主光線角...

作為歐盟光子計(jì)算項(xiàng)目PHOENICS（2020Horizont歐盟地平線科研項(xiàng)目）的成員，Nanoscribe攜手德國(guó)明斯特大學(xué)，與全球光子計(jì)算領(lǐng)域的**一起，展開了為期四年的科研項(xiàng)目，以實(shí)現(xiàn)超高寬帶的高能效千兆計(jì)算處理能力，用于新一代人工智能（AI）應(yīng)用的計(jì)算平臺(tái)。Nanoscribe將為光子封裝技術(shù)開發(fā)新的硬件和軟件解決方案。各種不同光子平臺(tái)都有著不同類型的光子耦合接口，而這正是光子封裝系統(tǒng)工業(yè)化的主要困難和挑戰(zhàn)。雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX作為硬件載體框架，并計(jì)劃建立一個(gè)先進(jìn)的平臺(tái)，成為下一代光子封裝技術(shù)的行業(yè)榜樣?；陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ?)的Quantum X打印系...

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。更多灰度光刻知識(shí)，歡迎咨詢Nanosc...

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)成為了現(xiàn)在世界公認(rèn)的微納米加工技術(shù)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項(xiàng)國(guó)際專項(xiàng)的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺(tái)工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻（2GL?)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用，例如哈佛大學(xué)，牛津大學(xué)等出名的院校，...

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度...