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3、拋光以及拋光過程基本工具：拋光機、黃色拋光球、羊毛拋光盤、封邊膠布、大毛巾、噴壺、純棉毛巾用品：A、可使用舊板三個步驟產(chǎn)品：強力拋光劑、還原拋光劑、增光劑時間要求：2~3小時，1人。B、使用升級板卡拉特三合一快速拋光劑，一步到位時間要求：1-2小時，1人(1)海綿拋光盤浸濕，安裝在研磨機上，空轉(zhuǎn)5秒鐘，將多余水分甩凈。(2)把研磨劑搖勻，倒在海面拋光盤上少許，用拋光盤在漆面上涂抹均勻。(3)調(diào)整研磨機轉(zhuǎn)速到1800—2200r/轉(zhuǎn)，啟動研磨拋光機，沿車身方向直線來回移動，拋光盤經(jīng)過的長條軌跡之間相互覆蓋三分之一，不漏大面積漆。拋光部位順序：按右車頂—右前機蓋—左前機蓋—右前翼子板—右前車門...

鍍膜玻璃，顧名思義，就是一種表面涂鍍薄膜的玻璃。它的應(yīng)用十分***，大到建筑物玻璃幕墻，小到液晶顯示屏等都可采用。那么，什么是鍍膜玻璃呢？鍍膜玻璃原理是什么呢？鍍膜玻璃一平方多少錢？接下來就讓小編來為大家介紹鍍膜玻璃的相關(guān)知識吧。什么是鍍膜玻璃鍍膜玻璃也稱反射玻璃，是一種表面涂鍍薄膜的玻璃，可鍍一層或多層薄膜，鍍膜可為金屬、合金或金屬化合物。鍍膜可以改變玻璃的光學(xué)性能，滿足某種特定要求。鍍膜玻璃根據(jù)產(chǎn)品的不同特性，一般可以分為導(dǎo)電膜玻璃、低輻射玻璃、熱反射玻璃等幾類。1、導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電的一種薄膜，它在現(xiàn)***活中被***地用于液晶顯示器即LCD、太陽能電池、微電子IT...

利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。一、結(jié)構(gòu)**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定（見光在分界面上的折射和反射）。二、特點光學(xué)薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割，膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的，可以是透明介質(zhì)，也可以是光學(xué)薄膜吸收介質(zhì)：可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的，實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多，這是因為...

卷繞鍍膜機是對薄膜進行收卷鍍膜的一種鍍膜裝置，在鍍膜之前是先將需要鍍膜的薄膜卷放在鍍膜機處的安裝座處，通過鋁導(dǎo)輥的導(dǎo)向，可將薄膜從薄膜卷上拉出，并將薄膜通過蒸發(fā)源上方經(jīng)過，便可對薄膜進行鍍膜處理，在鍍膜冷卻后，收卷即可。但是現(xiàn)有的卷繞鍍膜機，在多薄膜鍍膜的過程中，存在如下問題；1、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機，在對薄膜進行放卷時，易造成薄膜的褶皺，導(dǎo)致薄膜的不平整，不利于對薄膜的鍍膜處理；2、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機，在薄膜通過蒸發(fā)源進行鍍膜時，由于溫度過高，易造成薄膜的收縮，不利于薄膜后續(xù)的收卷處理。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的目的在于提供一種用于卷繞鍍膜機展平的結(jié)構(gòu)，以解決上述背景技術(shù)提出的目前市場上的現(xiàn)有的卷...

可靈活變化可搭載各種陰極（DC,UBM,DMS，旋轉(zhuǎn)磁石）前處理機能（改善密著性）2.面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機（W50/60S系列）面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機維護性基膜寬：1,300mm、1,600mm（～2,000mm）磁控濺射區(qū)數(shù)：1鍍膜滾筒4個區(qū)，分割區(qū)域排氣充實的脫氣機能應(yīng)用例1.透明導(dǎo)電膜（ITO，ZnO等）1）高抵抗ITO膜：面向觸摸屏100~300Ωsq.高方阻ITO的高穩(wěn)定性95℃，1000Hr試驗同時具備柔性和低方阻的高穩(wěn)定性（經(jīng)時變化?。┑姆蔷з|(zhì)ITO膜的鍍膜2）低方阻ITO膜：液晶，有機EL10Ωsq.以下低溫鍍膜所形成的優(yōu)越的方阻率（UBM/BM比較）BM：通常的...

通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?；糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法，即將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或濺射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上。...

氬氣在電鍍過程中有何用?氬氣不參與反應(yīng)，只是增加氣壓，改善鍍膜時靶的放電條件，氬氣不是用于鍍膜，主要用于創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。氮氣和氬氣都是惰性氣體,沖進去以后,一可以排除氧氣,防止氧化,二更具氮氣和氬氣在擴散泵內(nèi)的含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變鍍膜出來產(chǎn)品的色彩.真空鍍膜行業(yè)中，氬氣的流量大小具體如何控制?如果是說鍍膜時為了調(diào)節(jié)壓力使用的氣體個人認(rèn)為如下：氬氣如果只是調(diào)節(jié)壓力，一次壓可以不計，但是二次壓要小于0.5個大氣壓。氮氣也是，主要是因為如果大了，會導(dǎo)致真空倉內(nèi)的壓力變化太劇烈，導(dǎo)致誤差。如果是使用離子源，那么氬氣入氣量不宜過**了導(dǎo)致離子量過大，燒壞部件。壓力和上邊沒什...

高純鎳柱，高純鉭，高純鉭片，高純鉭絲，高純鉭粒，高純鎳鉻絲，高純鎳鉻粒，高純鑭,高純鐠,高純釓,高純鈰,高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩,高純錸,高純銠,高純鈀,高純銥等.混合料氧化鋯氧化鈦混合料，氧化鋯氧化鉭混合料，氧化鈦氧化鉭混合料，氧化鋯氧化釔混合料，氧化鈦氧化鈮混合料，氧化鋯氧化鋁混合料，氧化鎂氧化鋁混合料，氧化銦氧化錫混合料，氧化錫氧化銦混合料，氟化鈰氟化鈣混合料等混合料其他化合物鈦酸鋇，BaTiO3，鈦酸鐠，PrTiO3，鈦酸鍶，SrTiO3，鈦酸鑭，LaTiO3，硫化鋅，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，硒化鋅，ZnSe，硫化鎘，硫化鉬，硫化銅，二硅化鉬。輔料鉬片，鉬舟、鉭片...

卷繞鍍膜機是對薄膜進行收卷鍍膜的一種鍍膜裝置，在鍍膜之前是先將需要鍍膜的薄膜卷放在鍍膜機處的安裝座處，通過鋁導(dǎo)輥的導(dǎo)向，可將薄膜從薄膜卷上拉出，并將薄膜通過蒸發(fā)源上方經(jīng)過，便可對薄膜進行鍍膜處理，在鍍膜冷卻后，收卷即可。但是現(xiàn)有的卷繞鍍膜機，在多薄膜鍍膜的過程中，存在如下問題；1、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機，在對薄膜進行放卷時，易造成薄膜的褶皺，導(dǎo)致薄膜的不平整，不利于對薄膜的鍍膜處理；2、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機，在薄膜通過蒸發(fā)源進行鍍膜時，由于溫度過高，易造成薄膜的收縮，不利于薄膜后續(xù)的收卷處理。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的目的在于提供一種用于卷繞鍍膜機展平的結(jié)構(gòu)，以解決上述背景技術(shù)提出的目前市場上的現(xiàn)有的卷...

通常對蒸發(fā)源應(yīng)考慮蒸發(fā)源的材料和形狀,一般對蒸發(fā)源材料的要求是:1.熔點高因為蒸發(fā)材料的蒸發(fā)溫度(平衡蒸汽壓為)多數(shù)在1000~2000℃之間,因此,蒸發(fā)源材料的熔點應(yīng)高于此溫度.2.平衡蒸汽壓低主要是防止或減少高溫下蒸發(fā)源材料隨蒸發(fā)材料蒸發(fā)而成為雜質(zhì),進入蒸鍍膜層中.只有在蒸發(fā)源材料的平衡氣壓足夠低時,才能保證在蒸發(fā)時具有**小的自蒸發(fā)量,才不致影響系統(tǒng)真空度和污染膜層,為了使蒸發(fā)源材料所蒸發(fā)的數(shù)量非常少,在選擇蒸發(fā)溫度、蒸發(fā)源材料時,應(yīng)使材料的蒸發(fā)溫度低于蒸發(fā)源材料,在平衡氣壓為×10-6Pa時的制備高質(zhì)量的薄膜可采用與×10-3Pa所對應(yīng)的溫度.3.化學(xué)性能穩(wěn)定在高溫下不應(yīng)與蒸發(fā)材料發(fā)生...

薄膜是一種物質(zhì)形態(tài)，它所使用的膜材料非常***，可以是單質(zhì)元素或化合物，也可以是無機材料或有機材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣，可以是單晶態(tài)的，多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來功能材料薄膜和復(fù)合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常***，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物***相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物***相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)...

利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。一、結(jié)構(gòu)**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定（見光在分界面上的折射和反射）。二、特點光學(xué)薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割，膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的，可以是透明介質(zhì)，也可以是光學(xué)薄膜吸收介質(zhì)：可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的，實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多，這是因為...

車燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求車燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求由于輻射固化涂料的綠色環(huán)保與高效率，使得該技術(shù)在世界范圍內(nèi)獲得了重視和快速增長，其應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度，很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，在塑料基材上可獲得十分光亮的金屬外觀。隨著汽車工業(yè)的發(fā)展，許多金屬替代工藝得到了應(yīng)用，目前在汽車車燈反射罩應(yīng)用領(lǐng)域，已經(jīng)完全采用在PC、BMC等塑料表面通過真空鍍鋁膜來提高反射效果，用于這一領(lǐng)域的UV涂料要求具有良好的流平性，高耐溫性（用于PC基材要求120°C以上，BMC基材高達180°C以上）。在設(shè)計PC車燈反射罩用UV底漆時，要注意提高涂層的交聯(lián)密度來保證涂層有良好...

ALtimax中文名：白金鋁鈦_納米晶體；顏色：銀白色；硬度：4300HV；摩擦系數(shù)：?？寡趸瘻囟龋?200℃；優(yōu)點：高熱穩(wěn)定性；通用於高速鋼與硬質(zhì)合金刀具高速、干式、連續(xù)性切削；可加工高硬度模具鋼50HRC。MedicaWC/C涂層顏色：黑色；硬度硬度>17000HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：450℃；優(yōu)點：磨擦力低，干式金屬潤滑膜；適合醫(yī)療、藥品行業(yè)無油環(huán)境。CrN-WC/C涂層顏色：黑色；硬度>2000HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：650℃；優(yōu)點：解決射出成型脫膜、腐蝕問題；適合汽車、機械零件降低磨擦損耗；適合無油軸承，干式金屬潤滑膜。鍍膜技術(shù)真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技...

真空鍍膜機原理真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用很多的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術(shù)團隊及售后服務(wù)隊伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。下面，詳細(xì)介紹真空鍍膜機的各部分組成及其工作原理。一、真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用多的有直徑、、、，腔體由不銹鋼"target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。二、輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系...

薄膜是一種物質(zhì)形態(tài)，它所使用的膜材料非常***，可以是單質(zhì)元素或化合物，也可以是無機材料或有機材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣，可以是單晶態(tài)的，多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來功能材料薄膜和復(fù)合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常***，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物***相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物***相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)...

Ta靶、鍺靶、Ge靶、銀靶、Ag靶、鈷靶、Co靶、金靶、Au靶、釓靶、Gd靶、鑭靶、La靶、釔靶、Y靶、鈰靶、Ce靶、鉿靶、Hf靶、鉬靶、Mo靶、鐵鎳靶、FeNi靶、V靶、W靶、不銹鋼靶、鎳鐵靶、鐵鈷靶、鎳鉻靶、銅銦鎵靶、鋁硅靶NiCr靶等金屬靶材。陶瓷靶材2.陶瓷靶材ITO靶、AZO靶，氧化鎂靶、氧化鐵靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、硫化鎘靶，硫化鉬靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、氟化鎂靶，硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼...

按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。3、氧化鋯材料特點白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會造成入射光的漫射，降低鏡片的透光率。此外材質(zhì)的吸旋光性，也會造成某些入射光源的其中部分頻率消散的特別嚴(yán)重。例如會吸收紅色光的材質(zhì)看起來就呈現(xiàn)綠色。不過這些加工不良的因素都可以盡可能地去除。很可惜的是大自然里本來就存在的缺陷。當(dāng)入射光穿過不同的介質(zhì)時，就一定會發(fā)生反射與折射的問題。若是我們垂直入射材質(zhì)的話，我們可以定義出反射率與穿透率。很多人會好奇地問：一片完美且無鍍膜玻璃的透光度應(yīng)該有多少?既...

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分***的應(yīng)用。真空鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰...

成膜好，適合鍍化合物膜。但匹配較困難?？蓱?yīng)用于鍍光學(xué)，半導(dǎo)體器件，裝飾品，汽車零件等。6）增強ARE型。利用電子束進行加熱；充入Ar，其它惰性氣體，反應(yīng)氣體氧氣，氮氣等；離化方式：探極除吸引電子束的一次電子，二次電子外，增強極發(fā)出的低能電子也可促進氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加；可用于鍍機械制品，電子器件，裝飾品。7）低壓等離子體離子鍍（LPPD）。利用電子束進行加熱；依靠等離子體使充入的惰性氣體，反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點是：基板溫升小，要對基板加熱，結(jié)構(gòu)簡單，能獲得氧化鋁，氮化鈦，碳化鈦等離子化合物鍍層；可用于鍍機械制品，電子器件，裝飾品。8）電場蒸發(fā)。利用電子束進行...

原標(biāo)題：真空鍍膜機常見的幾種真空鍍膜材料相信大家對真空鍍膜機常用的真空鍍膜材料并不陌生，但剛?cè)胄械男氯苏J(rèn)起來應(yīng)該就比較吃力了，為了幫助剛?cè)胄械呐笥汛蚝没A(chǔ)，匯馳小編特意歸納一下真空鍍膜機常見的幾種真空鍍膜材料。真空鍍膜機1、氧化物一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、二氧化鈦TiO2、二氧化鋯ZrO2、二氧化鉿HfO2、一氧化鈦TiO、五氧化三鈦Ti3O5、五氧化二鈮Nb2O5、五氧化二鉭Ta2O5、氧化釔Y2O3、氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。2、氟化物氟化釹NbF3、氟化鋇BaF2、氟化鈰CeF3、氟化鎂MgF2、氟化鑭LaF3、氟化釔YF3、氟化鐿YbF3、氟化鉺ErF3等高純氟化物。3...

濾光片原理：濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的，紅色濾光片只能讓紅光通過，如此類推，玻璃片的透射率原本與空氣差不多，所有色光都可以通過，所以是透明的，但是染了染料后，分子結(jié)構(gòu)變化，折射率也發(fā)生變化，對某些色光的通過就有變化了，比如一束白光通過藍色濾光片，射出的是一束藍光，而綠光、紅光極少，大多數(shù)被濾光片吸收了。濾光片特點：其主要特點是尺寸可做得相當(dāng)大，薄膜濾光片，一般透過的波長較長，多用做紅外濾光片，后者是在一定片基，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜，或全介質(zhì)膜，構(gòu)成一種低級次的﹑多級串聯(lián)實心法布里-珀**涉儀，膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方式的選擇，由...

真空鍍膜機原理真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用很多的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術(shù)團隊及售后服務(wù)隊伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。下面，詳細(xì)介紹真空鍍膜機的各部分組成及其工作原理。一、真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用多的有直徑、、、,腔體由不銹鋼“target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。二、輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系...

利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。一、結(jié)構(gòu)**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定（見光在分界面上的折射和反射）。二、特點光學(xué)薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割，膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的，可以是透明介質(zhì)，也可以是光學(xué)薄膜吸收介質(zhì)：可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的，實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多，這是因為...

裝飾功能的應(yīng)用裝飾薄膜的典型應(yīng)用是金銀絲，利用聚酯薄膜鍍鋁后加工而成的金銀絲已成為紡織品不可缺少的裝飾材料，在日常生活用品、手工藝品、舞臺藝術(shù)用品等各方面的應(yīng)用很受歡迎。另外，裝飾性塑料鍍膜還應(yīng)用于儀器、機械、汽車、玩具、燈具及家用電器等領(lǐng)域，有很高的經(jīng)濟價值及實用性。阻隔功能的應(yīng)用為了提高商品的流通周期與貨架壽命，商品包裝的作用日益重要，尤其對于食品、藥品、化妝品、洗滌品等保質(zhì)要求較高的商品，采用高阻隔性能包裝材料包裝往往是有效的手段。常用的高阻隔包裝膜通常采用真空蒸鍍或真空濺射的方法在塑料薄膜上鍍一層鋁。上海專業(yè)卷繞鍍膜機供應(yīng)商！山東節(jié)能卷繞鍍膜機2)由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[4...

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分***的應(yīng)用。真空鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰...

在生活中我們經(jīng)常會用到各類玻璃制品，例如玻璃窗、玻璃杯、玻璃移門等。玻璃制品兼顧美觀與實用，既能夠憑借晶瑩剔透的外表惹人喜愛，又能夠充分利用其堅硬耐用的物理性能。一些藝術(shù)玻璃甚至?xí)共ＡЬ哂懈嗟膱D樣，增強裝飾效果。本篇文章中我們將介紹什么是真空鍍膜，并說明有哪幾款節(jié)能鍍膜玻璃。一、什么是真空鍍膜在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜.雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜.真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代,四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用,工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于2...

PVD是英文PhysicalVaporDeposition（物***相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD技術(shù)的發(fā)展PVD技術(shù)出現(xiàn)于二十世紀(jì)七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點。**初在高速鋼刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開發(fā)高性能、高可靠性涂層設(shè)備的同時，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎...

CVD直接生長技術(shù)高效碳納米管鎳氫電池的研究采用熱化學(xué)氣相沉積技術(shù)(CVD)，在泡沫鎳表面直接生長多壁碳納米管(MWNT)，以此MWNT-泡沫鎳基底為電池集流體，并使用該基底、通過大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對象，利用有限容積法的仿真方法，對影響基體溫度場的多個工藝參數(shù)進行仿真大批量微細(xì)刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗分析本文以HFCVD沉積大批量微細(xì)刀具金剛石涂層系統(tǒng)為研究對象，利用有限容積法的仿真方法，對影響基體溫度場的多個工藝參數(shù)進行仿真正交電磁場離子源及其在PVD法制備硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用本文介紹幾種不...

操作規(guī)程1．在真空鍍膜機運轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機時。必須先開水管，工作中應(yīng)隨時注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。3．在用電子鍍膜時，應(yīng)在鐘罩上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應(yīng)加蓋。8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。優(yōu)點TiN中文名：氮化鈦；顏色：金色；硬度：2300HV；摩擦系數(shù)：；高...