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河北二氧化鈦粒度分析儀報(bào)價(jià)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-10-29

符合多項(xiàng)油品S元素分析國(guó)際和國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),例如ASTM D4294,ASTM D7212,GB/T 17040,GB/T 17606等。X射線管能耗低、只15W,使用壽命長(zhǎng)達(dá)數(shù)十年。低背景硅“漂移”檢測(cè)器保證高分辨率,檢測(cè)限高達(dá)0.1ppm。除了標(biāo)配的Windows操作系統(tǒng),還提供了備選的Linux操作系統(tǒng),保證儀器的安全性(中美貿(mào)易戰(zhàn)下的新形勢(shì)要求)。中國(guó)PTA行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局分析,從我國(guó)PTA產(chǎn)能分布來(lái)看,產(chǎn)能占比較大的廠家是恒力石化,2020年占比20%;產(chǎn)能占比排第二的是逸盛大化,產(chǎn)能占比為10%,其次是逸盛石化,產(chǎn)能占比9%;國(guó)內(nèi)前面十PTA廠家產(chǎn)能合計(jì)占比77%。全球PTA計(jì)劃投產(chǎn)產(chǎn)能趨勢(shì)。山東馳光機(jī)電科技有限公司始終以適應(yīng)和促進(jìn)工業(yè)發(fā)展為宗旨。河北二氧化鈦粒度分析儀報(bào)價(jià)

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CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展,電子器件尺寸縮小,要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分,其對(duì)于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過(guò)程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm,其顆粒表征要求精確地確定納米級(jí)顆粒的尺寸,因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對(duì)CMP工藝起著至關(guān)重要的作用!歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問(wèn)題!江蘇激光粒度粒形分析儀哪家好馳光機(jī)電提供周到的解決方案,滿足客戶不同的服務(wù)需要。

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而化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical mechanical polishing,CMP)是集成電路芯片的一個(gè)關(guān)鍵制程,國(guó)內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊,幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級(jí)發(fā)煙硅石(5Vol%,170-230nm)、高純硅膠(9Vol%,6-80nm)、氧化鈰(6Vol%,200-240nm)或氧化鋁顆粒,它們的粒度或粒度分布必須小心地進(jìn)行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認(rèn)真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%),容易聚集。隨著貯存時(shí)間延長(zhǎng),它的粒度可能增大從而導(dǎo)致?lián)p害的產(chǎn)生。

應(yīng)用實(shí)例:測(cè)量高純氧化鋁粉。一般來(lái)說(shuō),含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁,其特性有耐化學(xué)腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃,短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體、高級(jí)陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料;99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級(jí)涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產(chǎn)品的重要指標(biāo),CPS納米粒度分析儀能給您帶來(lái)確切穩(wěn)定的測(cè)量結(jié)果。使用CPS分析儀平行測(cè)定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。馳光機(jī)電設(shè)備的引進(jìn)更加豐富了公司的設(shè)備品種,為用戶提供了更多的選擇空間。

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對(duì)于粒徑分布范圍很寬的樣品,通過(guò)可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤,只需常規(guī)圓盤分析時(shí)間的1/20。經(jīng)過(guò)CPS納米粒度儀對(duì)裂解后炭黑進(jìn)行粒徑測(cè)試后的結(jié)果所示:與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致,裂解后的炭黑較小粒徑為3um,較大可至50多微米,并且出現(xiàn)很多峰值,證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實(shí)反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展,電子器件尺寸縮小,要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。作為芯片制造不可或缺的一環(huán),CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來(lái)是受歡迎的。馳光機(jī)電堅(jiān)持“顧客至上,合作共贏”。重慶CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

馳光機(jī)電的行業(yè)影響力逐年提升。河北二氧化鈦粒度分析儀報(bào)價(jià)

各種金屬粉體:如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。其它粉體:如催化劑、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、熒光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各種乳濁液等。在現(xiàn)代裝備制造業(yè)中的各種潤(rùn)滑油、液壓油、燃料油、超導(dǎo)體、絕緣材料、無(wú)線電技術(shù)等行業(yè)越來(lái)越離不開(kāi)激光粒度檢測(cè)技術(shù),在這些領(lǐng)域,激光粒度儀發(fā)揮著越來(lái)越大的作用。粒度測(cè)量?jī)x可用于建筑材料生產(chǎn)種,建筑業(yè)大量使用的水泥,產(chǎn)品的粒度分布是影響質(zhì)量的非常重要的因素之一。河北二氧化鈦粒度分析儀報(bào)價(jià)