高效HJT電池為對(duì)稱的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場(chǎng)作用。釜川以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品，打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。 HJT裝備與材料：包含制絨清洗設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、金屬化設(shè)備等。 電鍍銅設(shè)備：采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極，具備低成本、高效率等優(yōu)勢(shì)。HJT電池的可靠性得到了國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的認(rèn)可，被普遍認(rèn)為是高效、可靠、環(huán)保的能源轉(zhuǎn)換技術(shù)。無(wú)錫單晶硅HJT薄膜

HJT電池為對(duì)稱的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場(chǎng)作用。釜川以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品，打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。 HJT裝備與材料：包含制絨清洗設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、金屬化設(shè)備等。 電鍍銅設(shè)備：采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極，具備低成本、高效率等優(yōu)勢(shì)。鄭州釜川HJT濕法設(shè)備HJT電池的應(yīng)用范圍廣闊，包括戶用、商用、工業(yè)等領(lǐng)域。

HJT電池是一種新型的太陽(yáng)能電池，其結(jié)構(gòu)主要由三個(gè)部分組成：n型硅層、p型硅層和中間的薄膜層。n型硅層和p型硅層分別具有不同的電子摻雜濃度，形成了p-n結(jié)。當(dāng)太陽(yáng)光照射到電池表面時(shí)，光子會(huì)被吸收并激發(fā)出電子和空穴，電子和空穴會(huì)在p-n結(jié)處分離，形成電流。中間的薄膜層是由氫化非晶硅和微晶硅混合而成，其主要作用是增加電池的光吸收能力和電子傳輸效率。薄膜層的厚度通常在幾十納米到幾百納米之間。HJT電池的結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)的晶體硅太陽(yáng)能電池相似，但其采用了更高效的電子傳輸方式和更高的光吸收能力，因此具有更高的轉(zhuǎn)換效率和更低的成本。

高效HJT電池整線設(shè)備，HWCVD 1、熱絲化學(xué)氣相沉積(HotWireCVD，HWCVD)是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來(lái)制備非晶硅薄膜，對(duì)襯底無(wú)損傷，且成膜質(zhì)量非常好，但鍍膜均勻性較差，且熱絲作為耗材，成本較高；2、HWCVD一般分為三個(gè)階段，一是反應(yīng)氣體在熱絲處的分解反應(yīng)，二是基元向襯底運(yùn)輸過(guò)程中的氣相反應(yīng)，第三是生長(zhǎng)薄膜的表面反應(yīng)。PECVD鍍膜均勻性較高，工藝窗口寬，對(duì)襯底損傷較大。HWCVD是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來(lái)成膜，對(duì)襯底無(wú)損傷，且成膜質(zhì)量好，但鍍膜均勻性較差且成本較高。光伏HJT電池的高效性和穩(wěn)定性使其成為太陽(yáng)能發(fā)電的可靠選擇。

HJT電池生產(chǎn)設(shè)備，制絨清洗的主要目的有，1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對(duì)n型硅片進(jìn)行各項(xiàng)異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)（“金字塔結(jié)構(gòu)”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產(chǎn)生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分，避免不潔凈引進(jìn)的缺陷和雜質(zhì)而帶來(lái)的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時(shí)，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標(biāo)，一般可通過(guò)添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時(shí)間等來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。釜川高效HJT電池濕法金屬化設(shè)備采用無(wú)銀或低銀工藝。山東太陽(yáng)能HJT裝備

釜川提供高效HJT電池整線設(shè)備濕法制絨設(shè)備、PVD、PECVD、金屬化設(shè)備等。無(wú)錫單晶硅HJT薄膜

HJT的制造工藝主要包括以下幾個(gè)步驟：1.基片制備：選擇合適的基片材料，如硅、鎵砷化鎵等，進(jìn)行表面處理和清洗，以保證后續(xù)工藝的順利進(jìn)行。2.沉積薄膜：利用化學(xué)氣相沉積、物理的氣相沉積等技術(shù)，在基片表面沉積一層或多層薄膜，如n型或p型摻雜層、金屬電極等。3.制造異質(zhì)結(jié)：通過(guò)摻雜、擴(kuò)散、離子注入等方法，在基片表面形成n型和p型半導(dǎo)體材料的異質(zhì)結(jié)。4.退火處理：將制造好的異質(zhì)結(jié)進(jìn)行高溫退火處理，以提高其電學(xué)性能和穩(wěn)定性。5.制造封裝：將制造好的光伏異質(zhì)結(jié)進(jìn)行封裝，以保護(hù)其免受外界環(huán)境的影響，并方便其在實(shí)際應(yīng)用中的使用。以上是光伏異質(zhì)結(jié)的制造工藝的基本步驟，不同的制造工藝可能會(huì)有所不同，但總體上都是在這些基本步驟的基礎(chǔ)上進(jìn)行的。無(wú)錫單晶硅HJT薄膜