電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢：閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過程中，需要進(jìn)行多次反應(yīng)和處理，需要一定的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)。成都新型濕法制絨

光伏濕法工藝設(shè)備主要包括以下幾種：1.溶液制備設(shè)備：包括反應(yīng)釜、攪拌器、加熱器等，用于制備太陽能電池的溶液。2.沉積設(shè)備：包括電化學(xué)沉積設(shè)備和物理的氣相沉積設(shè)備，用于將溶液中的材料沉積在襯底上。3.烘烤設(shè)備：用于將沉積在襯底上的材料進(jìn)行烘烤，使其形成薄膜。4.光刻設(shè)備：用于將薄膜進(jìn)行光刻，形成電極和通道等結(jié)構(gòu)。5.清洗設(shè)備：用于清洗襯底和薄膜，保證太陽能電池的質(zhì)量。6.測量設(shè)備：包括光電流譜儀、電學(xué)測試儀等，用于測試太陽能電池的性能。以上是光伏濕法工藝設(shè)備的主要種類，不同的設(shè)備在太陽能電池的制備過程中扮演著不同的角色，共同完成太陽能電池的制備。江蘇HJT濕法三頭電池濕法設(shè)備擁有多種型號(hào)，滿足不同規(guī)格硅片、各種類型電池片制造的需求，靈活性高。

電池濕法設(shè)備Perc工藝，濕濕法刻蝕設(shè)備功能是去除背面PSG和拋光處理。設(shè)備優(yōu)勢l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，堿拋設(shè)備：鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。

電池濕法設(shè)備是一種用于生產(chǎn)電池的設(shè)備，其主要功能是將原材料轉(zhuǎn)化為電池的正負(fù)極材料，以及制造電解液和電池外殼等組成部分。具體來說，電池濕法設(shè)備的主要功能包括以下幾個(gè)方面：1.制備正負(fù)極材料：電池濕法設(shè)備可以將金屬氧化物、碳酸鹽等原材料轉(zhuǎn)化為電池的正負(fù)極材料，如鋰鐵磷酸、鈷酸鋰等。2.制造電解液：電池濕法設(shè)備可以制造電池的電解液，如鋰鹽溶液、電解液添加劑等。3.生產(chǎn)電池外殼：電池濕法設(shè)備可以生產(chǎn)電池的外殼，如鋁殼、鋼殼等。4.控制生產(chǎn)過程：電池濕法設(shè)備可以對(duì)生產(chǎn)過程進(jìn)行控制，如溫度、壓力、流量等參數(shù)的控制，以確保電池的質(zhì)量和性能。5.檢測和測試：電池濕法設(shè)備可以進(jìn)行電池的檢測和測試，如電池容量、電壓、內(nèi)阻等參數(shù)的測試，以確保電池的質(zhì)量和性能?？傊?，電池濕法設(shè)備是電池生產(chǎn)過程中不可或缺的設(shè)備，其主要功能是將原材料轉(zhuǎn)化為電池的各個(gè)組成部分，并對(duì)生產(chǎn)過程進(jìn)行控制和檢測，以確保電池的質(zhì)量和性能。光伏電池濕法制絨設(shè)備能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。

濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。濕法制絨設(shè)備能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?。浙江高效濕法設(shè)備

電池濕法RCA槽式清洗設(shè)備（Topcon工藝）采用閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。成都新型濕法制絨

電池濕法設(shè)備Perc工藝，濕法制絨設(shè)備功能是去除切割損傷層和表面臟污2.使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽光的吸收，降低反射率3.增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也響應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢?采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。電池濕法設(shè)備能改善電池表面微觀結(jié)構(gòu)，提升硅片表面潔凈度，降低表面污染，從而提升電池轉(zhuǎn)化效率。成都新型濕法制絨