Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。想要了解雙光子聚合技術(shù)運(yùn)用在哪些領(lǐng)域請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。廣東新型雙光子聚合三維光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施。

卡爾斯魯厄新型雙光子聚合Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶你了解雙光子聚合技術(shù)及其應(yīng)用前景。

雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質(zhì)的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強(qiáng)激光作用下發(fā)生，是一種強(qiáng)激光下光與物質(zhì)相互作用的現(xiàn)象，屬于三階非線性效應(yīng)的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強(qiáng)激光的焦點(diǎn)處，光路上其他地方的激光強(qiáng)度不足以產(chǎn)生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應(yīng)的單光子過程不能發(fā)生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點(diǎn)，在三維微加工、高密度光儲存及生物醫(yī)療領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景，近年來已成為全球高新技術(shù)領(lǐng)域的一大研究熱點(diǎn)

對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準(zhǔn)到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學(xué)互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準(zhǔn)點(diǎn)或拓?fù)浠滋卣鳎_保對3D打印進(jìn)行高度精確的對準(zhǔn)。Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配。雙光子聚合可以通過控制激光的光強(qiáng)和聚焦位置來實(shí)現(xiàn)加工的精度和形狀，表現(xiàn)出很強(qiáng)的可控性。

雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用前景：1. 快速3D打?。弘p光子聚合技術(shù)可以用于快速3D打印。通過這種技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)高精度、高分辨率的3D打印，從而制造出更加精細(xì)、復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。這使得3D打印技術(shù)可以應(yīng)用于更多領(lǐng)域，包括航空航天、醫(yī)療等高精度制造領(lǐng)域。2. 光子晶體形成：雙光子聚合技術(shù)可以用于光子晶體的制備。光子晶體是一種具有周期性折射率變化的介質(zhì)，可以控制光的傳播路徑。利用雙光子聚合技術(shù)，可以制造出具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高質(zhì)量的光子晶體，為光學(xué)器件和光子芯片的制備提供新的途徑。3. 高精度光子器件制造：雙光子聚合技術(shù)可以用于高精度光子器件的制造。例如，利用這種技術(shù)可以制造出高精度的光學(xué)鏡片、光纖等光子器件。這些器件在通訊、能源等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。4. 生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用：雙光子聚合技術(shù)還可以應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域。例如，在生物組織工程中，可以利用這種技術(shù)制造出具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高度精確的生物材料。這些材料可以用于藥物輸送、組織修復(fù)等方面，為生物醫(yī)學(xué)研究提供新的工具和思路。哪些領(lǐng)域會運(yùn)用雙光子聚合加工技術(shù)？卡爾斯魯厄新型雙光子聚合

事實(shí)上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的。廣東新型雙光子聚合三維光刻

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。

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