雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。灰度光刻技術(shù)可以相當(dāng)于二元套刻的多次曝光，提高了光刻效率。吉林進(jìn)口灰度光刻

QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。重慶2GL灰度光刻灰度光刻技術(shù)可提高光刻膠的分辨率。

傳統(tǒng)3D打印難以實(shí)現(xiàn)對(duì)于復(fù)雜設(shè)計(jì)或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會(huì)明顯增加對(duì)于平滑、曲線或精細(xì)結(jié)構(gòu)的打印時(shí)間。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個(gè)難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）可實(shí)現(xiàn)體素調(diào)節(jié)，從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過(guò)掃描過(guò)程中的快速激光調(diào)制來(lái)實(shí)現(xiàn)的。并且，這項(xiàng)技術(shù)已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®，該技術(shù)具備實(shí)現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì)，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個(gè)打印過(guò)程在保持高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無(wú)需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無(wú)瑕疵光學(xué)級(jí)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術(shù)的用途和特點(diǎn)。

微透鏡陣列對(duì)表面質(zhì)量和形貌要求比較高，因此對(duì)制備工藝提出了很嚴(yán)格的要求?？蒲腥藛T提出了許多方法來(lái)實(shí)現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備，比如針對(duì)柔性材料的熱壓印成型方法實(shí)現(xiàn)了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實(shí)現(xiàn)了微透鏡陣列；利用光刻和熱回流方式實(shí)現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實(shí)現(xiàn)具有較高表面質(zhì)量的微透鏡陣列，但通常需要使用復(fù)雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質(zhì)通常為軟質(zhì)材料，材料本身的機(jī)械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對(duì)而言，透明硬脆材料例如石英、藍(lán)寶石等由于其極高的硬度和極強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性，在光學(xué)窗口、光學(xué)元件等方面的應(yīng)用更加廣。因此，如何制備具有高表面質(zhì)量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學(xué)元件成為研究人員研究的焦點(diǎn)?；叶裙饪碳夹g(shù)可實(shí)現(xiàn)掩膜版的自適應(yīng)優(yōu)化。山東高分辨率灰度光刻3D微納加工

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Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù)，對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過(guò)基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機(jī)投入市場(chǎng)，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué)，甚至利用他們的技術(shù)來(lái)開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法，“Beers定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“納米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過(guò)程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度非常高。吉林進(jìn)口灰度光刻