平臺阻尼需要進行各種測試，對其厚度/面積的比值進行優(yōu)化。更大面積的平臺（邊長至少為10英尺或3米）具有厚度為12.2英寸（310毫米）的標準厚度，這樣可以提高穩(wěn)定性。對于更小面積的平臺，厚度可以是8.3英寸（210毫米）或12.2英寸（310毫米），也可定制更大尺寸。光學平臺普遍使用的振動響應傳遞函數(shù)為柔量。在恒定（靜態(tài)）力的情況下，柔量可以定義為線性或角度錯位與所施加外力的比值。在動態(tài)變化力（振動）的情況下，柔量則可以定義為受激振幅（角度或線性錯位）與振動力振幅的比值。平臺的任意撓度都可以通過安裝在平臺表面的部件相對位置變化表現(xiàn)出來。因此，根據(jù)定義，柔量值越小，光學平臺就越接近設計的首要目標：將撓度小化。柔量是與頻率相關的，其測量單位為沒單位力的錯位量（米/牛頓）。光學平臺基本組件包括：1、頂板；2、底板；3、側面精加工貼臉；4、側板；5、蜂窩芯；6、密封杯等。甘肅氣浮隔振光學平臺配件

光學平臺，又稱光學面包板、光學桌面、科學桌面、實驗平臺，供水平、穩(wěn)定的臺面，一般平臺都需要進行隔振等措施，保證其不受外界因素干擾，使科學實驗正常進行。光學平臺追求水平，首先加工的時候整個臺面是極平的。之后臺面置放與四個聯(lián)通的氣囊上，以保證臺面水平。臺面上布滿成正方形排列的工程螺紋孔，用這些孔和相應的螺絲可以固定光學元件。這樣，當你完成光學設備的搭建，系統(tǒng)基本不會受外來擾動而產(chǎn)生變化。即使按動臺面，它也會因為氣囊而自動回復水平。甘肅氣浮隔振光學平臺配件對于平臺上的光學元件來說，平面度引起的高度差，通?？梢院雎圆挥?。

光學平臺的硬重比對于其共振頻率有著重要的影響。較高的硬重比可以提高平臺的共振頻率，從而降低其在外界影響下的振動。而且在外力作用下，具有較高硬重比的平臺可以在小的重量下產(chǎn)生小的變形，增加系統(tǒng)內(nèi)部的剛性。內(nèi)部采用蜂窩狀支撐結構的光學平臺可以充分的提高硬重比，達到提高系統(tǒng)性能的目的。將系統(tǒng)組裝成動態(tài)的剛性結構可以保證系統(tǒng)內(nèi)部的相對穩(wěn)定性，且可以降低在外界的影響下產(chǎn)生共振的幾率，提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性。隨著時間的延續(xù)，不規(guī)則溫度變化會造成漸漸的結構彎曲。減小溫度效應的關鍵在于控制環(huán)境減少溫度變化。例如，避免在平臺下放置散熱設備，隔絕熱源設備和硬件，如光源、火焰等。

在針對實驗室選購光學實驗平臺時，我們需要考慮安全性，但各類實驗室需求不同，實驗室設計方案也不同。我們就以實驗臺面來說。相對于化學實驗室來說，物理實驗室實驗臺面對于耐腐蝕性幾乎沒有要求，光學實驗室要求實驗臺水平度高、抗震性良好，機械實驗室要求實驗臺面抗打擊、耐磨、承重系數(shù)高，還有一些物理實驗要求實驗臺防靜電。實芯理化板：沒有特殊要求的普通物理實驗臺可以使用實芯理化板來作為臺面，但是要注意保養(yǎng)，并且不可以使用尖利的物品劃擦，三聚氰胺板也可以作為普通物理實驗室實驗臺的臺面。光學平臺平面度，對于隔振性能，沒有任何影響，甚至若為了追求高平面度，往往會掉光學平臺的隔振性能。

光學平臺普遍運用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器、設備振動隔離的關鍵裝置中。隨著先進的設備和工藝的發(fā)展，使納米量級的測量成為可能。例如，變相光學干涉儀測量物體的表面粗糙度，目前可以達到1納米的分辨率。在半導體領域，已生產(chǎn)出線寬在亞微米量級的集成電路，提出測量準確率小于50納米的精度要求。這樣的應用對系統(tǒng)中不同元件相關配合精度和穩(wěn)定性提出了極高的要求。以客戶至上為理念，為客戶提供咨詢服務。甘肅氣浮隔振光學平臺配件

光學平臺又稱面包板光學桌面、科學桌面、實驗平臺，供水平、穩(wěn)定的臺面。甘肅氣浮隔振光學平臺配件

自動化加工系統(tǒng)平臺和面包板的特殊之處是采用自動軌道機械啞光表面加工，比老舊的平臺產(chǎn)品更加平滑、平整。這些平臺經(jīng)過改善的表面拋光處理后，表面平整度在1平方米（11平方英尺）內(nèi)可達±0.1毫米（±0.004英寸），為安裝部件提供了接觸表面，不需要使用磨具對頂面進行打磨。大半徑角：平臺和面包板設計還可以采用大半徑圓角，這樣能減少實驗室中的尖銳邊緣，提高安全性。光學平臺或面包板很重要的特性為其共振頻率。共振頻率和振幅是負相關的，因此共振頻率應盡可能地增大，從而將振動強度至小化。甘肅氣浮隔振光學平臺配件