光學(xué)平臺的隔振性能取決于臺面本身和支架的隔振性能，總體上說，光學(xué)平臺的隔振，通過三個方面來實現(xiàn)：隔振支架：通常來說，氣浮式隔振支架性能優(yōu)于阻尼式隔振支架，部分性能優(yōu)異的隔振支架可以將外界振動（常見10～200Hz）減少一至兩個數(shù)量級臺面物理性能：要求臺面有一定的剛性而且較輕（硬重比），這樣的臺面可以有效減少共振時的振幅，這一點在后面闡述臺面內(nèi)部結(jié)構(gòu)：臺面的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，除了負(fù)責(zé)減輕支架未能消除的外界振動外對于降低或消除因臺面上的沖擊和相對運動引起的振動，起到至關(guān)重要的作用光學(xué)平臺共振頻率和振幅是負(fù)相關(guān)的，因此共振頻率應(yīng)盡可能地增大，從而將振動強度小化。江西氣浮隔振光學(xué)平臺配件

光學(xué)平板通常作為分光鏡或窗口等透過型元件或被用作全反射鏡或光學(xué)測量中的基準(zhǔn)平面。其中大部分產(chǎn)品有各種指標(biāo)的組合:形狀，面精度，多種厚度和平行度。臺面采用陣列的M6標(biāo)準(zhǔn)螺紋孔，便于固定各種調(diào)整架、支撐架、光具座、位移臺等，是一種便利且性價比高的平臺。產(chǎn)品特點：光學(xué)平板采用優(yōu)良鋁合金或者不銹鋼精加工而成，重量適中，易搬動，不易變形。螺紋孔陣列的標(biāo)準(zhǔn)孔距便于固定各種調(diào)整架、支撐架、光具座、位移臺等。表面經(jīng)過陽極氧化發(fā)黑處理，減少表面反射，美觀耐用。天津精密光學(xué)平臺廠家光學(xué)平臺重要的作用是提供動態(tài)剛度。

不要把精密大理石檢測平臺放在磁場附近，例如磨床的磁性作業(yè)臺上，避免感磁.發(fā)現(xiàn)有不正常景象時，如表面不平、有毛刺、有銹斑以及刻度禁絕、尺身曲折變形、活動不靈活等等，使用者不應(yīng)當(dāng)自行拆修，更不應(yīng)該自行用榔頭敲、銼刀銼、砂布打磨等粗糙方法修理，避免反而增大誤差。發(fā)現(xiàn)上述情況，使用者應(yīng)當(dāng)自行送計量站維修，并經(jīng)檢定大理石檢測平臺精度后再持續(xù)使用。大理石檢測平臺使用后，應(yīng)及時擦干凈。精密大理石檢測平臺應(yīng)實施定時檢定和維護(hù)，長期使用的精密大理石檢測平臺，要定時送計量站進(jìn)行維護(hù)和檢定精度，避免因大理石檢測平臺的示值誤差超差而形成產(chǎn)品質(zhì)量事故。

氣墊式隔振支架是利用氣墊的原理，將光學(xué)平臺架在氣墊上以達(dá)到隔振的效果。特點是:隔振效果好。但是造價較高，使用和維護(hù)繁瑣。針對維護(hù)繁瑣的情況又出現(xiàn)了自平衡(主動隔振)系統(tǒng)。原理是利用各種傳感器提供的平臺平衡狀況，通過控制系統(tǒng)調(diào)節(jié)各個隔振支撐的氣壓來達(dá)到平衡的目的。光學(xué)平臺重要的兩個參數(shù)是平臺本身的平面度與隔振性能。平面度是主要是由材料、加工精度及加工工藝決定，三者缺一不可。由于光學(xué)系統(tǒng)對環(huán)境振動極為敏感，剛性平臺在3個轉(zhuǎn)動自由度上的振動干擾會對發(fā)射光束的精確定向產(chǎn)生較為嚴(yán)重的破壞作用，直接影響到光束定向輻射的有效性，所以隔振性能也是決定光學(xué)平臺質(zhì)量好壞的一個重要指標(biāo)。光學(xué)平臺的重復(fù)定位精度，是指在空載和在一定條件下加上負(fù)載并去除負(fù)載，光學(xué)平臺終穩(wěn)定后的高度差。

簡單的光學(xué)平臺保養(yǎng)說明書?1.光學(xué)玻璃防雨罩使用時應(yīng)每年檢查周圍空氣、溫度、濕度,及時補充；2.材料缺陷和老化是平面顯微鏡對運動目標(biāo)的光學(xué)缺陷檢測很大的困難之一，受壓力改變形狀引起窗口模板反應(yīng)靈敏變形和關(guān)斷的遲鈍及其他其他缺陷；3.硬質(zhì)打磨主要是為了更加精細(xì)的修整和使用方便,但過大的打磨力會破壞平面顯微鏡,因為平面顯微鏡的剛度需要很高；4.使用或處理過程中應(yīng)檢查檢驗平面顯微鏡與玻璃接觸的部位,注意玻璃外部與玻璃之間的加工應(yīng)相對光滑；儀器設(shè)備的微振動直接影響精密儀器設(shè)備的測量精度。天津精密光學(xué)平臺廠家

優(yōu)良的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機(jī)器設(shè)備來加工。江西氣浮隔振光學(xué)平臺配件

大理石光學(xué)平臺材質(zhì)脆弱，害怕硬物的撞擊、敲打。所以平時應(yīng)注意防止鐵器等重物磕砸大理石平臺工作面，以免出現(xiàn)凹坑，降低大理石光學(xué)平臺，影響使用。定期以微濕帶有溫和洗滌劑的布擦拭，大理石平臺清潔時應(yīng)少用水。然后用清潔的軟布抹干和擦亮。定期以微濕帶有溫和洗滌劑的布擦拭大理石平臺工作面。對于油跡，可用乙醇(酒精)(木精)或打火機(jī)電油擦拭，然后清洗及弄干。大理石光學(xué)平臺應(yīng)實施定期檢察恢復(fù)，視具體情況可為6-12個月，但至少一年檢個修一次（要聘請專業(yè)人員來做）。江西氣浮隔振光學(xué)平臺配件