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陜西自動光學平臺位移

來源: 發(fā)布時間:2020-12-20

光學平臺隔振腿除了支撐,主要作用是隔離來自地面的振動,隔振性能是其Z重要指標之一。其他性能還包括:各腿高度單獨調(diào)節(jié),自動水平,載重能力,高度可選,有無磁性等等。光學平板按其結(jié)構(gòu)可分為:實體光學平板和夾心光學平板兩種。實體光學平板主要是將實體材料進行機械加工而成的平板(使用材料主要有鋁材、鋼材、大理石等)。其特點是加工簡便,價格低廉,重量輕,體積相對輕便,便于在使用過程中靈活移動和擺放,適用在中小型光學實驗組合或作為小型精密儀器的使用平臺。同時可以靈活的配置專門設(shè)計的支架,為儀器的移動和適應不同場合的實驗室提供方便。光學平臺從功能上分為固定式和可調(diào)式;被動或主動式。陜西自動光學平臺位移

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對于平臺上的光學元件來說,平面度引起的高度差,通??梢院雎圆挥?,若確有必要考慮高度差,則完全可以通過勤確精密調(diào)整的位移臺來實現(xiàn)。綜上所述,光學平臺的平面度,同光學平臺的隔振性能不相關(guān),只能做為光學平臺的一個輔助指標,供參考。振動物體離開平衡位置的距離叫振動的振幅。振幅在數(shù)值上等于位移的大小。對于光學平臺系統(tǒng),臺面受外力作用時,離開平衡位置的距離,同光學平臺系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)、受力大小、受力的位置、瞬時加速度、速度、持續(xù)時間、臺面的剛性、隔振系統(tǒng)的阻尼比等諸多因素有著非常復雜的非線性函數(shù)關(guān)系,如果標稱振幅的具體指標,需要注明上述特定的實驗條件,否則振幅的指標,變得沒有意義。北京氣墊光學平臺訂制光學平臺很主要的一個目標是消除平臺上任意兩個以上部件之間的相對位移。

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光學平臺的隔振性能取決于臺面本身和支架的隔振性能,總體上說,光學平臺的隔振,通過三個方面來實現(xiàn):隔振支架:通常來說,氣浮式隔振支架性能優(yōu)于阻尼式隔振支架,部分性能優(yōu)異的隔振支架可以將外界振動(常見10~200Hz)減少一至兩個數(shù)量級臺面物理性能:要求臺面有一定的剛性而且較輕(硬重比),這樣的臺面可以有效減少共振時的振幅,這一點在后面闡述臺面內(nèi)部結(jié)構(gòu):臺面的內(nèi)部結(jié)構(gòu),除了負責減輕支架未能消除的外界振動外對于降低或消除因臺面上的沖擊和相對運動引起的振動,起到至關(guān)重要的作用

表面粗糙度(Surface Roughness):有部分廠家,在光學平臺的指標中,標稱表面粗糙度的概念,往往存在一些誤導。國家標準GB/T3505-2000中規(guī)定了評定表面粗糙度的各種參數(shù),其中常用的是輪廓算術(shù)平均偏差Ra。輪廓算術(shù)平均偏差Ra是指在取樣長度內(nèi),沿測量方向(z方向)的輪廓線上的點與基準線之間距離完全值的算術(shù)平均值。 若只標稱Ra的數(shù)值,但并未公布取樣長度,這樣的數(shù)值標稱變得毫無意義,而且有誤導消費者的可能。比如說,標稱表面粗糙度為:0.5~0.8μm,但若取樣長度分別為10mm、1mm和0.1mm,實際上表面粗糙度的差別可達百倍!光學平臺為安裝部件提供了接觸表面,不需要使用磨具對頂面進行打磨。

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光學平臺又稱光學桌面,供水平、穩(wěn)定的臺面,一般平臺都需要進行隔振等措施,保證其不受外界因素干擾,使科學實驗正常進行。目前來說,有主動與被動兩大類。而被動又有橡膠與氣浮兩大類。固體阻尼隔震光學平臺和自動充氣平衡隔震光學平臺。光學平臺追求水平,首先加工的時候整個臺面是極平的。之后臺面置放與四個聯(lián)通的氣囊上,以保證臺面水平。臺面上布滿成正方形排列的工程螺紋孔,用這些孔和相應的螺絲可以固定光學元件。上海勤確科技有限公司。光學平臺重要的作用是提供動態(tài)剛度。江西連勝光學平臺哪家好

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撓度是指結(jié)構(gòu)構(gòu)件的軸線或中面由于彎曲引起垂直于軸線或中面方向的線位移。對于細長物體或薄物體,撓度是在受力后彎曲變形程度的度量。細長物體(如梁或柱)的撓度是指在變形時其軸線上各點在該點處軸線法平面內(nèi)的位移量。薄板或薄殼的撓度是指中面上各點在該點處中面法線上的位移量。通俗地講,撓度就是構(gòu)件的豎向變形。撓度系數(shù)同剛性系數(shù)、抗拉強度、楊氏彈性模量等類似,是標稱材料特性的一個常數(shù),對于光學平臺而言,其它因素相同只有厚度不同的情況下,鋼板越厚,撓度越小。勤確的光學平臺臺面為三層夾心結(jié)構(gòu),上臺面厚度4~6mm,采用鐵磁不銹鋼材質(zhì)時,很大動撓度系數(shù)(Maximum Dynamic Deflection Coefficient)一般小于2~4×10-3。陜西自動光學平臺位移