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來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-30

WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結(jié)構(gòu)和熱強(qiáng)化機(jī)理示意圖   金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽光譜選擇性吸收涂層的**工作層,其熱穩(wěn)定性和綜合光學(xué)性能直接決定著整個(gè)涂層的光熱轉(zhuǎn)換效率。高溫下,金屬陶瓷膜內(nèi)金屬納米粒子的團(tuán)聚、長大、氧化及涂層內(nèi)層間原子的擴(kuò)散遷徙,往往會導(dǎo)致成分和微結(jié)構(gòu)的變化,從而誘發(fā)涂層光學(xué)性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問題,構(gòu)建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽光譜選擇性吸收涂層,是光熱技術(shù)應(yīng)用所面臨的重要材料基礎(chǔ)問題。  相對的,目前大部分常見太陽能電池只能將25%的可用能量轉(zhuǎn)換為電力。寧夏購買太陽光譜模擬

本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,吸熱體由基材以及設(shè)置在基材的外表面上的膜層構(gòu)成,膜層包括6層,從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強(qiáng)化膜、銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜、氮化鉻材質(zhì)的緩沖膜、氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻的混合物材質(zhì)的過渡膜、氧化鉻材質(zhì)的吸收膜、二氧化硅材質(zhì)的抗反射膜,其中強(qiáng)化膜、緩沖膜、過渡膜、吸收膜以及抗反射膜均為通過反應(yīng)性濺就鍍制備得到,銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜為通過直流濺鍍制備得到;廣東上打光太陽光譜模擬銷量在第五真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。

如圖4所示,在本實(shí)施例以可行的方式中,***計(jì)算模塊320例如可以包括:***計(jì)算單元321,用于根據(jù)尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度。第二計(jì)算單元322,用于根據(jù)拍攝日期,計(jì)算拍攝日期對應(yīng)的太陽赤緯角和大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度。第三計(jì)算單元323,用于根據(jù)拍攝時(shí)刻和地理經(jīng)度,計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽時(shí)角。第四計(jì)算單元324,用于根據(jù)太陽赤緯角、太陽時(shí)角和地理緯度,計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽高度角。

可選地,根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度,包括:根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度;根據(jù)拍攝日期,計(jì)算拍攝日期對應(yīng)的太陽赤緯角及大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度;根據(jù)拍攝時(shí)刻和地理經(jīng)度,計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽時(shí)角;根據(jù)太陽赤緯角、太陽時(shí)角和地理緯度,計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽高度角;根據(jù)太陽高度角和拍攝位置高程,計(jì)算相對大氣光學(xué)質(zhì)量;根據(jù)相對大氣光學(xué)質(zhì)量,計(jì)算直射輻射大氣透明度系數(shù),并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù),計(jì)算散射輻射大氣透明度系數(shù);根據(jù)大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計(jì)算太陽直接輻射強(qiáng)度;根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計(jì)算太陽散射輻射強(qiáng)度。撞擊出來的鉻離子與通入的氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻,反應(yīng)生成的氮化鉻沉積。

HN-9332儀器的寬波長覆蓋范圍允許在整個(gè)光譜的可見區(qū)域進(jìn)行快速的“測量”光譜。然而,許多夫瑯和費(fèi)譜線和大多數(shù)大氣譜線都比HN-9332儀器的分辨率窄。需要更高分辨率的光譜儀來詳細(xì)檢查太陽光譜的感興趣區(qū)域;例如HF-8989。02高分辨率太陽光譜下圖顯示了太陽光譜中一個(gè)特別有趣的區(qū)域。這個(gè)位于689nm附近的區(qū)域主要是由地球大氣中的氧氣引起的大地吸收。在這里,可以清楚地觀察到氧帶的R-和P-分支中的單個(gè)吸收線,較強(qiáng)的吸收線在線中心顯示~100%的吸收。左邊是一個(gè)高分辨率的太陽光譜,它是用629nm波段的HF-8989-3光譜儀拍攝的?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例。廣東購買太陽光譜模擬代理

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例。寧夏購買太陽光譜模擬

在本申請的一個(gè)實(shí)施例中,步驟6)中,靶材為硅靶,氬氣流量為50~500sccm,氧氣流量為50~200sccm,制得的抗反射膜的厚度為60~200nm。在本申請的一個(gè)實(shí)施例中,步驟1)中,吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。本申請中,sccm為體積流量單位,意義為標(biāo)況毫升/分鐘。本申請?zhí)峁┑哪幽軌蜻x擇性吸收太陽光譜,其中的原理是:太陽輻射到地球上的絕大部分能量,來源于0.20~3.0μm波長范圍的紫外線、可見光和紅外線,這個(gè)波長范圍內(nèi)的能量占地球外太陽輻射總能量的98.07%;而熱輻射的波長范圍主要集中在2.5~30μm。光譜選擇性吸收涂層是應(yīng)用在吸熱體上的,它就是利用太陽輻射的波長范圍(主要集中在0.20~3.0μm)與熱輻射的波長范圍不相同這一特性,可以增強(qiáng)吸熱體對太陽輻射吸收的同時(shí),減少吸熱體向環(huán)境的熱輻射損失。選擇性涂層材料的比較大特點(diǎn)在于,它們對不同光譜區(qū)的輻射具有不同的熱輻射性質(zhì)。寧夏購買太陽光譜模擬

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