半導(dǎo)體在集成電路、消費(fèi)電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電、照明應(yīng)用、大功率電源轉(zhuǎn)換等領(lǐng)域應(yīng)用。半導(dǎo)體材料光生伏特的效應(yīng)是太陽能電池運(yùn)行的基本原理。現(xiàn)階段半導(dǎo)體材料的光伏應(yīng)用已經(jīng)成為一大熱門 ，是目前世界上增長很快、發(fā)展很好的清潔能源市場。太陽能電池的主要制作材料是半導(dǎo)體材料，判斷太陽能電池的優(yōu)劣主要的標(biāo)準(zhǔn)是光電轉(zhuǎn)化率 ，光電轉(zhuǎn)化率越高 ，說明太陽能電池的工作效率越高。根據(jù)應(yīng)用的半導(dǎo)體材料的不同 ，太陽能電池分為晶體硅太陽能電池、薄膜電池以及III-V族化合物電池。半導(dǎo)體器件加工中的工藝步驟需要嚴(yán)格的質(zhì)量控制。云南半導(dǎo)體器件加工好處

半導(dǎo)體分類及性能：非晶態(tài)半導(dǎo)體。它又被叫做無定形半導(dǎo)體或玻璃半導(dǎo)體，屬于半導(dǎo)電性的一類材料。非晶半導(dǎo)體和其他非晶材料一樣，都是短程有序、長程無序結(jié)構(gòu)。它主要是通過改變原子相對位置，改變原有的周期性排列，形成非晶硅。晶態(tài)和非晶態(tài)主要區(qū)別于原子排列是否具有長程序。非晶態(tài)半導(dǎo)體的性能控制難，隨著技術(shù)的發(fā)明，非晶態(tài)半導(dǎo)體開始使用。這一制作工序簡單，主要用于工程類，在光吸收方面有很好的效果，主要運(yùn)用到太陽能電池和液晶顯示屏中。北京半導(dǎo)體器件加工實(shí)驗(yàn)室刻蝕是半導(dǎo)體制造工藝以及微納制造工藝中的重要步驟。

半導(dǎo)體（semiconductor）指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體在集成電路、消費(fèi)電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電、照明、大功率電源轉(zhuǎn)換等領(lǐng)域都有應(yīng)用，如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。無論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來看，半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。大部分的電子產(chǎn)品，如計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話或是數(shù)字錄音機(jī)當(dāng)中的中心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)聯(lián)。常見的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等，硅是各種半導(dǎo)體材料應(yīng)用中很具有影響力的一種。

半導(dǎo)體器件有許多封裝型式，從DIP、SOP、QFP、PGA、BGA到CSP再到SIP，技術(shù)指標(biāo)一代比一代先進(jìn)，這些都是前人根據(jù)當(dāng)時(shí)的組裝技術(shù)和市場需求而研制的。總體說來，它大概有三次重大的革新：初次是在上世紀(jì)80年代從引腳插入式封裝到表面貼片封裝，極大地提高了印刷電路板上的組裝密度；第二次是在上世紀(jì)90年代球型矩正封裝的出現(xiàn)，它不但滿足了市場高引腳的需求，而且極大地改善了半導(dǎo)體器件的性能；晶片級封裝、系統(tǒng)封裝、芯片級封裝是第三次革新的產(chǎn)物，其目的就是將封裝減到很小。每一種封裝都有其獨(dú)特的地方，即其優(yōu)點(diǎn)和不足之處，而所用的封裝材料，封裝設(shè)備，封裝技術(shù)根據(jù)其需要而有所不同。驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體封裝形式不斷發(fā)展的動(dòng)力是其價(jià)格和性能。半導(dǎo)體器件加工需要考慮器件的集成度和功能的多樣性。

半導(dǎo)體技術(shù)的演進(jìn)，除了改善性能如速度、能量的消耗與可靠性外，另一重點(diǎn)就是降低其制作成本。降低成本的方式，除了改良制作方法，包括制作流程與采用的設(shè)備外，如果能在硅芯片的單位面積內(nèi)產(chǎn)出更多的 IC，成本也會下降。所以半導(dǎo)體技術(shù)的一個(gè)非常重要的發(fā)展趨勢，就是把晶體管微小化。當(dāng)然組件的微小化會伴隨著性能的改變，但很幸運(yùn)的，這種演進(jìn)會使 IC 大部分的特性變好，只有少數(shù)變差，而這些就需要利用其它技術(shù)來彌補(bǔ)了。半導(dǎo)體制程有點(diǎn)像是蓋房子，分成很多層，由下而上逐層依藍(lán)圖布局迭積而成，每一層各有不同的材料與功能。光刻的優(yōu)點(diǎn)是它可以精確地控制形成圖形的形狀、大小，此外它可以同時(shí)在整個(gè)芯片表面產(chǎn)生外形輪廓。江蘇半導(dǎo)體器件加工步驟

刻蝕先通過光刻將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理，然后通過其它方式實(shí)現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。云南半導(dǎo)體器件加工好處

刻蝕在半導(dǎo)體器件加工中的作用主要有以下幾個(gè)方面：1. 圖案轉(zhuǎn)移：刻蝕可以將光刻膠或光刻層上的圖案轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體材料表面。光刻膠是一種光敏材料，通過光刻曝光和顯影等工藝，可以形成所需的圖案。刻蝕可以將光刻膠上的圖案轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體材料表面，形成電路結(jié)構(gòu)、納米結(jié)構(gòu)和微細(xì)結(jié)構(gòu)等。2. 電路形成：刻蝕可以將半導(dǎo)體材料表面的雜質(zhì)、氧化物等去除，形成電路結(jié)構(gòu)。在半導(dǎo)體器件加工中，刻蝕常用于形成晶體管的柵極、源極和漏極等結(jié)構(gòu)，以及形成電容器的電極等。云南半導(dǎo)體器件加工好處