真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。真空鍍膜機在集成電路制造中的應用：晶體管路中的保護層、電極管線等多是采用CVD技術。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司

離子真空鍍膜機目前現(xiàn)狀情況：1、外資企業(yè)沖擊風險：目前我國多弧離子鍍膜機企業(yè)在產(chǎn)品系列尚無法與國外產(chǎn)品競爭，在國際上有名度不高。國內(nèi)多弧離子鍍膜機的生產(chǎn)廠家，主要考慮的是國內(nèi)的中、低端市場，采用消耗設備的性能和可靠性的低價策略來贏得市場，生產(chǎn)經(jīng)營也缺乏對設備研制的能力和將技術研發(fā)付諸于實施的中長期規(guī)劃。2、基礎材料學發(fā)展局限性：材料是現(xiàn)代高新技術和產(chǎn)業(yè)的基礎與先導，是高新技術取得突破的前提條件。真空離子鍍膜設備工作時往往溫度較高，甚至可以達到350到500攝氏度，要求設備制造材料有耐高溫和強度高特性。另外，涂鍍層的性能會直接影響鍍膜需求，也需要材料學的不斷創(chuàng)新。我國基礎材料學相較于發(fā)達國家起步較晚，雖然近幾年在國家的大力發(fā)展支持下取得了許多突破性的進展，實現(xiàn)了許多技術突破，但是和發(fā)達國家相比還存在一定的差距?；A行業(yè)發(fā)展的局限性將在一定程度上限制真空離子鍍膜行業(yè)的發(fā)展。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司真空鍍膜機電阻式蒸發(fā)鍍分為預熱段、預溶段、線性蒸發(fā)段三個步驟。

真空鍍膜機在韌性較好的刀具（刀片）基體上進行表面涂層，涂覆具有高硬度、高耐磨性、耐高溫材料的薄層（如TiN、TiC等），使刀具（刀片）具有周全、良好的綜合性能。未涂層高速鋼的硬度只為62~68HRC（760~960HV），硬質(zhì)合金的硬度只為89~93.5HRA（1300~1850HV）；而涂層后的表面硬度可達2000~3000HV以上。①由于表面涂層材料具有比較高的硬度和耐磨性，且耐高溫。故與未涂層的刀具（刀片）相比，涂層刀具允許采用較高的切削速度，從而提高了切削加工效率；或能在相同的切削速度下，提高刀具壽命。②由于涂層材料與被加工材料之間的摩擦系數(shù)較小，故涂層刀具（刀片）的切削力小于未涂層刀具（刀片）。③用涂層刀具（刀片）加工，零件的已加工表面質(zhì)量較好。④由于涂層刀具（刀片）的綜合性能良好，故涂層硬質(zhì)合金刀片有較好的通用性，一種涂層硬質(zhì)合的刀片具有較寬的使用范圍。

多弧離子真空鍍膜機與蒸發(fā)真空鍍膜機、濺射真空鍍膜機相比，較大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應，主要有如下幾點：多弧離子真空鍍膜機鍍膜鍍層質(zhì)量高。由于離子轟擊可提高膜的致密度，改善膜的組織結構，使得膜層的均勻度好，多弧離子真空鍍膜設備鍍膜鍍層組織致密，小孔和氣泡少。多弧離子真空鍍膜機鍍膜沉積速率高，成膜速度快，可制備30μm的厚膜。多弧離子真空鍍膜設備鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較普遍。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料表面鍍膜。磁控濺射主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。

真空鍍膜機真空壓鑄是一項可供鈦鑄件生產(chǎn)廠選用，真空鍍膜機能提高鑄件質(zhì)量，降低成本的技術。由于鈦鑄件在航空工業(yè)中的應用持續(xù)增長，各生產(chǎn)廠家都在致力于尋求能降低生產(chǎn)成本以取代高成本鈦部件的生產(chǎn)方法，尤其是當今世界靜靜競爭激烈的情況下更是如此。因此，成本較低，機械性能與鑄件相似的鈦鑄件，不只可以取代現(xiàn)有的吧、鈦部件，還可以取代其它材料的部件，VDC技術即是為生產(chǎn)高質(zhì)量、低成本鈦鑄件開發(fā)的。其鑄件典型的應用包括飛機體以及其它航空航天和工業(yè)用零部件。磁控濺射常用于新型氧化物，陶瓷材料的鍍膜，電子束則用于對薄膜質(zhì)量較高的金屬材料。上海功率器件真空鍍膜

真空鍍膜機大功率脈沖磁控濺射技術的脈沖峰值功率是普通磁控濺射的100倍，在1000~3000W/cm2范圍。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司

真空鍍膜機模具滲碳是為了提高模具的整體強韌性，即模具的工作表面具有高的強度和耐磨性。真空鍍膜機硬化膜沉積技術目前較成熟的是cvd、pvd。模具自上個世紀80年代開始采用涂覆硬化膜技術。目前的技術條件下，真空鍍膜設備硬化膜沉積技術（主要是設備）的成本較高，仍然只在一些精密、長壽命模具上應用，如果采用建立熱處理中心的方式，則涂覆硬化膜的成本會較大降低，更多的模具如果采用這一技術，可以整體提高我國的模具制造水平。自上個世紀70年代開始，國際上就提出預硬化的想法，但由于加工機床剛度和切削刀具的制約，預硬化的硬度無法達到模具的使用硬度，所以預硬化技術的研發(fā)投入不大。隨著加工機床和切削刀具性能的提高，模具材料的預硬化技術開發(fā)速度加快，到上個世紀80年代，國際上工業(yè)發(fā)達國家在塑料模用材上使用預硬化模塊的比例已達到30%（目前在60%以上）。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司