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高溫高壓CVD設(shè)備尺寸

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-08-12

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?CVD設(shè)備的反應(yīng)室大小對(duì)于鉆石生長(zhǎng)同樣具有重要的影響。反應(yīng)室越大,可以提供更多的空間來(lái)促進(jìn)氣體的混合和反應(yīng),從而促進(jìn)鉆石的生長(zhǎng)速度和質(zhì)量。但是,過(guò)大的反應(yīng)室也會(huì)導(dǎo)致氣體稀釋過(guò)度,從而影響鉆石的生長(zhǎng)速度和質(zhì)量。穩(wěn)正科技數(shù)年的持續(xù)研發(fā)及運(yùn)行分析,研制出的設(shè)備配置,致力于幫助客戶(hù)實(shí)現(xiàn)佳產(chǎn)能同時(shí)保證鉆石的生長(zhǎng)質(zhì)量和穩(wěn)定性。穩(wěn)正科技配備專(zhuān)業(yè)的工藝實(shí)驗(yàn)室,24小時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn),進(jìn)行設(shè)備及工藝驗(yàn)證,嚴(yán)格控制設(shè)備的生產(chǎn)質(zhì)量和產(chǎn)量,確保每一臺(tái)出廠設(shè)備都經(jīng)過(guò)公司的質(zhì)量檢驗(yàn)檢查、出廠檢測(cè)及可靠性檢測(cè)。高溫高壓CVD設(shè)備尺寸

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標(biāo)簽: CVD設(shè)備 金剛石 鉆石