PVD涂層鍍膜設備使用的注意事項

來源：發(fā)布時間：2024-12-17

PVD涂層鍍膜設備

設備安裝與環(huán)境要求

安裝位置：PVD鍍膜設備應安裝在平穩(wěn)、堅固的地面上，避免設備因放置不穩(wěn)而產(chǎn)生振動，影響鍍膜質(zhì)量。同時，設備周圍要預留足夠的空間，方便操作、維護和通風散熱。
環(huán)境條件：設備所處的環(huán)境要保持清潔、干燥。灰塵和雜質(zhì)可能會混入鍍膜過程中，影響膜層質(zhì)量，因此要盡量減少周圍環(huán)境中的灰塵來源。另外，環(huán)境的相對濕度一般應控制在 40% - 60%，過高的濕度可能導致設備部件生銹、電氣故障，還可能使鍍膜過程中產(chǎn)生的金屬蒸汽凝結。同時，要避免設備暴露在有腐蝕性氣體或液體的環(huán)境中。
電力供應：設備需要穩(wěn)定的電力供應，電壓波動范圍應在設備規(guī)定的允許范圍內(nèi)，通常要求電壓波動不超過 ±10%。為了確保設備的安全運行，需要配備單獨的穩(wěn)壓電源和接地系統(tǒng)，防止因電力問題導致設備損壞或發(fā)生安全事故。

開機前的準備工作

檢查設備外觀：仔細檢查設備的各個部分，包括真空室、管道、閥門、電極等，看是否有損壞、變形、松動或異物。特別要注意真空室門的密封情況，密封不良會導致真空泄漏，影響鍍膜效果。
檢查氣體系統(tǒng)：確認所需的鍍膜氣體（如氬氣、氮氣等）的供應情況。檢查氣體管路是否連接正確、牢固，氣體壓力是否符合要求。同時，要確保氣體純度達到設備規(guī)定的標準，不純的氣體可能會影響膜層的性能和質(zhì)量。
檢查冷卻系統(tǒng)：如果設備有冷卻系統(tǒng)，要檢查冷卻液的液位、流量和溫度。確保冷卻系統(tǒng)能夠正常工作，因為在鍍膜過程中，許多部件（如電源、靶材等）會產(chǎn)生熱量，需要通過冷卻系統(tǒng)來維持正常的工作溫度。
檢查真空系統(tǒng)：開機前要檢查真空泵的油位和油質(zhì)。油位過低會影響真空泵的抽氣性能，油質(zhì)變差則可能導致真空泵故障。同時，要檢查真空計等真空檢測設備是否正常工作。

開機與運行過程中的注意事項

按照正確順序開機：嚴格按照設備操作手冊規(guī)定的順序開機。一般先開啟總電源，然后啟動冷卻系統(tǒng)，接著開啟真空系統(tǒng)進行抽氣，待真空度達到一定要求后，再開啟鍍膜電源等其他設備。例如，在開啟真空系統(tǒng)時，要等待真空泵預熱完成后再啟動抽氣操作，否則可能會損壞真空泵。
監(jiān)控設備參數(shù)：在設備運行過程中，要密切關注各種參數(shù)，如真空度、氣體流量、溫度、電流、電壓等。這些參數(shù)的變化會直接影響鍍膜質(zhì)量和設備的安全。例如，真空度不夠會導致膜層疏松、附著力差；溫度過高可能會損壞設備部件。如果發(fā)現(xiàn)參數(shù)異常，應立即停止鍍膜操作，查找原因并進行處理。
避免過度使用設備：要根據(jù)設備的額定功率、工作周期等參數(shù)合理安排鍍膜任務，避免長時間連續(xù)高負荷運行。例如，對于一些小型的 PVD 涂層鍍膜設備，連續(xù)工作時間過長可能會導致靶材過度消耗、電源過熱等問題，從而縮短設備的使用壽命。
防止靶材污染：在鍍膜過程中，要確保靶材的清潔。如果靶材被污染，會影響膜層的質(zhì)量和性能。例如，在濺射鍍膜時，靶材表面的雜質(zhì)可能會隨著濺射粒子一起沉積到基底上，導致膜層出現(xiàn)缺陷。因此，在使用前要對靶材進行清潔處理，在鍍膜過程中也要盡量避免外來雜質(zhì)接觸靶材。

關機與維護工作

按照正確順序關機：鍍膜完成后，要按照操作手冊規(guī)定的順序關機。一般先關閉鍍膜電源，然后停止氣體供應，接著關閉真空系統(tǒng)，等真空室壓力恢復到正常后，再關閉冷卻系統(tǒng)和總電源。這樣可以避免設備在不正常的狀態(tài)下突然斷電，防止設備損壞。
清理設備內(nèi)部：關機后，在設備冷卻到安全溫度后，要對設備內(nèi)部進行清理。清掃真空室、管道、夾具等部位殘留的鍍膜材料、灰塵等雜質(zhì)?？梢允褂脤ｉT的清潔工具和清潔劑，如無塵布、酒精等，但要注意避免清潔劑對設備部件造成腐蝕。
設備維護與保養(yǎng)：定期對設備進行維護和保養(yǎng)，包括更換真空泵油、檢查密封件、清潔靶材、校準儀器等。維護周期根據(jù)設備的使用頻率和工作環(huán)境而定，一般建議每使用一定時間（如 1 - 3 個月）或完成一定的鍍膜任務后進行一次整體的維護。同時，要建立設備維護檔案，記錄設備的運行情況、維護時間和內(nèi)容等信息，以便及時發(fā)現(xiàn)設備的潛在問題。