真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問(wèn)題解決光罩的受潮問(wèn)題---黃光部封裝的金線(xiàn)，解決液晶的受潮問(wèn)題，解決線(xiàn)路板受潮問(wèn)題。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦牡獨(dú)獗O(jiān)控系統(tǒng)。1.2.3寸LED大屏幕數(shù)字顯示濕度/溫度。2.溫濕度顯示值0.1％-99.9％RH，溫度顯示值0.1℃-60.0℃。3.溫濕度收集采準(zhǔn)確傳感器，長(zhǎng)距離傳輸無(wú)誤差。4.濕度控制：4.1利用濕度設(shè)定值來(lái)控制氮?dú)饬魅?，到達(dá)濕度設(shè)定值即停止進(jìn)氣，節(jié)省氮?dú)夂挠谩?.2濕度在1％-60％RH可調(diào)整。使用試驗(yàn)箱的好處有哪些？河北生產(chǎn)試驗(yàn)箱

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問(wèn)題解決光罩的受潮問(wèn)題---黃光部封裝的金線(xiàn)，解決液晶的受潮問(wèn)題，解決線(xiàn)路板受潮問(wèn)題。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦墓耋w規(guī)格、配備。1.左右雙開(kāi)門(mén)，3mm鋼化玻璃，1mm厚不銹鋼板，氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉，腳墊采高承載車(chē)輪及調(diào)整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板，柜體加裝高載重煞車(chē)輪。4.上掀式氣密蓋，方便FFU保養(yǎng)及維修。5.回風(fēng)循環(huán)設(shè)計(jì)，單向氮?dú)庋h(huán)不產(chǎn)生紊流。6.背面氣密開(kāi)門(mén)式設(shè)計(jì)，方便潔凈清理與保養(yǎng)。高低溫快速試驗(yàn)箱代理公司試驗(yàn)箱怎樣挑選比較好?

精密鼓風(fēng)烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對(duì)溫度均勻性要求比較嚴(yán)格的實(shí)驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風(fēng)烤箱的箱體結(jié)構(gòu)。 1.本設(shè)備由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風(fēng)系統(tǒng)、保護(hù)系統(tǒng)等組成。 2.箱體采用先進(jìn)設(shè)備制作、先進(jìn)的工藝制造流程、線(xiàn)條流暢，美觀大方。 3.工作室材質(zhì)為不銹鋼SUS304材質(zhì)，外箱材質(zhì)為冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼采用環(huán)保金屬漆噴制，整體設(shè)計(jì)美觀大方，適合實(shí)驗(yàn)室的顏色搭配。 4.工作室內(nèi)擱架可隨用戶(hù)的要求任意調(diào)節(jié)高度以及擱架的數(shù)量。 5.工作室與外箱之間的保溫材料為超細(xì)玻璃纖維保溫棉，保溫層厚度：＞70mm, 隔溫效果好，國(guó)內(nèi)，高性能的絕緣結(jié)構(gòu)。從里到外有內(nèi)腔、內(nèi)殼、超細(xì)玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內(nèi)膽熱量損失少。內(nèi)膽外箱及門(mén)膽結(jié)構(gòu)獨(dú)特，極大減少了內(nèi)腔熱量的外傳。

下面為大家介紹一下石墨盤(pán)真空烤盤(pán)爐的用途和設(shè)計(jì)。 一、產(chǎn)品介紹 真空烤盤(pán)爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤(pán)或石英盤(pán)）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。 二、設(shè)計(jì)特點(diǎn) 1.后門(mén)設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī) 2.降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開(kāi)啟，同時(shí)兩端降溫封頭開(kāi)啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向 3.通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的。使用試驗(yàn)箱能給人們帶來(lái)便利嗎？

下面為大家介紹一下石墨盤(pán)真空烤盤(pán)爐的技術(shù)指標(biāo)。1.使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2.絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；3.加熱元件：石墨加熱棒；4.冷卻方式：氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫；5.控溫穩(wěn)定度：±2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；6.爐膛溫度均勻度：±5℃（恒溫1500℃）；7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無(wú)油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%；8.極限真空:10-3torr級(jí)；9.抽氣速率：空載下，30min達(dá)到10-2torr10.升溫功率：170kW；11.升溫速率：15℃/min（空載）；12.降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高）試驗(yàn)箱的運(yùn)用領(lǐng)域有哪些？小型試驗(yàn)箱生產(chǎn)廠商

試驗(yàn)箱常見(jiàn)的用途有哪些？合肥真萍告訴您。河北生產(chǎn)試驗(yàn)箱

本篇介紹專(zhuān)業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱，首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。河北生產(chǎn)試驗(yàn)箱