電熱鼓風烤箱：本設備適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。箱體結(jié)構：1、本烘箱由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。2、箱體采用先進設備制作、業(yè)內(nèi)**的制造工藝流程、線條流暢、美觀大方。3、工作室材質(zhì)為不銹鋼、外箱材質(zhì)為優(yōu)良冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼使用環(huán)保金屬漆噴制，整體設計美觀大方，適合前端實驗室的顏色搭配。4、工作室內(nèi)的擱架不可調(diào)節(jié)。5、工作室與外箱之間的保溫材質(zhì)是優(yōu)良超細玻璃纖維保溫棉，保溫厚度：＞70mm，隔溫效果好，國內(nèi)**，高性能的絕緣結(jié)構。從內(nèi)到外有內(nèi)腔、外殼、超細玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內(nèi)膽熱量損失少。內(nèi)膽外箱及門膽結(jié)構獨特，極大減少了內(nèi)腔熱量的外傳。6、門與門框之間采用高性能密封材料及獨特的橡膠密封結(jié)構，密封、耐高溫性、抗老化性好?？刂葡到y(tǒng)：1、采用數(shù)顯微電腦溫度控制器，控制精確可靠。2、具有定時功能、控溫保護功能，設有風機停轉(zhuǎn)開關。保護系統(tǒng)1、超溫保護系統(tǒng)2、過電流保護3、快速熔斷器4、接地保護工業(yè)烤箱制作原理是什么呢？合肥真萍科技為您專業(yè)解答。無塵工業(yè)烤箱的價格和照片

高溫鐘罩爐設備規(guī)格及結(jié)構爐膛結(jié)構：采用多晶莫來石材料砌筑而成外形尺寸：W1300H2200D1510(mm)一、熱工系統(tǒng)1.1額定溫度：1550℃1.2限制溫度：1600℃1.3加熱元件：U型硅鉬棒1.4加熱功率：16kW1.5空爐保溫功率≤8kW1.6溫區(qū)個數(shù)：1個1.7控溫點數(shù)：1點1.8熱偶:B分度1.9程序**精度：2℃（大于600℃,升溫速率≤3℃/min）二、氣氛系統(tǒng)2.1爐膛氣氛：2路空氣，流量計量程為7～70L/min；每路流量可調(diào)節(jié)2.2排氣系統(tǒng)：在爐膛頂部設置一個排氣*囪，用于廢氣排放三、傳動系統(tǒng)3.1傳動方式：升降式3.2傳動類型：電動推桿傳動3.3容積：20L四、冷卻系統(tǒng)。寧波高溫工業(yè)烤箱合肥真萍科技為您提供工業(yè)烤箱相關專業(yè)解答。

電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。柜體規(guī)格、配備：1.左右雙開門，3mm鋼化玻璃，1mm厚不銹鋼板，氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉，腳墊采高承載車輪及調(diào)整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板，柜體加裝高載重煞車輪。4.上掀式氣密蓋，方便FFU保養(yǎng)及維修。5.回風循環(huán)設計，單向氮氣循環(huán)不產(chǎn)生紊流。6.背面氣密開門式設計，方便潔凈清理與保養(yǎng)。

下面為大家簡單介紹一下六腔體無塵烤箱產(chǎn)品介紹：本產(chǎn)品是參照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技術條件及中國相關標準研究制造，廣泛應用于電子液晶顯示，LCD,CMOS,IC，醫(yī)藥實驗室等生產(chǎn)及科研部門。技術指標：1無塵等級：Class100：（符合FED-STD209E標準：0.3um≤300個0.5≤100個）2溫度范圍：+60℃~+250℃（極限溫度350℃）3溫度均勻性：2℃（空箱測試）4溫度精確度：1℃（空箱測試）5設備型號規(guī)格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;工業(yè)烤箱的制作方法難嗎？合肥真萍科技告訴您。

HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。工業(yè)烤箱哪家好，推薦合肥真萍科技。寧波高溫工業(yè)烤箱

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石墨盤烤盤爐一.產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。二、設計特點1、后門設計熱風電機2、降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進行熱交換，達到快速降溫的目的三、技術指標1、使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2、絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；4、加熱元件：石墨加熱棒；5、冷卻方式：氣冷+循環(huán)風冷降溫；6、控溫穩(wěn)定度：±2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；7、爐膛溫度均勻度：±5℃（恒溫1500℃）；8、氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%；9、極限真空:10-3torr級；10、抽氣速率：空載下，30min達到10-2torr11、升溫功率：170kW；12、升溫速率：15℃/min（空載）；13、降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘14、腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高）無塵工業(yè)烤箱的價格和照片

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