化學鍍鎳是不用外來電流，借氧化還原作用在金屬制件的表面上沉積一層鎳的方法。用于提高抗蝕性和耐磨性，增加光澤和美觀。適合于管狀或外形復雜的小零件的光亮鍍鎳，不必再經(jīng)拋光。一般將被鍍制件浸入以硫酸鎳、次磷酸二氫鈉、乙酸鈉和硼酸所配成的混合溶液內(nèi)，在一定酸度和溫度下發(fā)生變化，溶液中的鎳離子被次磷酸二氫鈉還原為原子而沉積于制件表面上，形成細致光亮的鎳鍍層。鋼鐵制件可直接鍍鎳。錫、銅和銅合金制件要先用鋁片接觸于其表面上1-3分鐘，以加速化學鍍鎳。化學鍍鎳鍍層的耐腐蝕性強。正鑲白旗化學鍍鎳來電咨詢

化學鍍鎳置換鍍沉積法：一種金屬浸在第二種金屬的金屬鹽溶液中，第一種金屬的表面上發(fā)生局部溶解，同時在其表面自發(fā)沉積上第二種金屬。在離子交換情況下，基底金屬本身就是還原劑。使用非常普遍的基底金屬是銅、鐵和鎳，而用得較多的鍍層金屬則是金和銅。如將一只鐵釘浸在硫酸銅溶液中，鐵釘上就鍍上薄薄一層銅。但它的實際應用是有限的，因為基底金屬的表面一旦被溶液中的金屬覆蓋，過程馬上停止。所以其較大厚度是很小的，而且結(jié)合力沒有真正的化學鍍那么好。由于鍍層質(zhì)量差，厚度有限，所以應用非常有限。阿魯科爾沁旗化學鍍鎳熱線化學鍍鎳和電鍍鉻一樣，是一種障礙鍍層。

化學鍍鎳在金屬表面的應用：在涂裝處理過程中，如果不清理油脂、氧化皮和銹層，不進行磷化處理，直接進行涂漆和靜電噴涂，就會使鋼鐵表面的涂層產(chǎn)生脫落，失去了涂裝的意義。成分分析是指根據(jù)已經(jīng)選定的某產(chǎn)品或材料，綜合利用樣品進行前處理，初步判斷，定性分析，定量分析，對產(chǎn)品或材料的各個組成成分進行精確分析的過程。化學品產(chǎn)品或與制品通過多種分離技術，利用高科技分析儀器進行檢測，而后將檢測的結(jié)果通過經(jīng)過技術人員的逆向推導，完成對產(chǎn)品成分分析，達到產(chǎn)品改進，配方分析，模仿生產(chǎn)的目的。在這個過程中技術人員除了依靠先進設備支持外，同時還必須具有豐富的行業(yè)知識和理論知識。

化學鍍鎳與電鍍相比有如下優(yōu)點：不需要外加直流電源設備。鍍層致密，孔隙少。不存在電力線分布不均勻的影響，對幾何形狀復雜的鍍件，也能獲得厚度均勻的鍍層;可在金屬、非金屬、半導體等各種不同基材上鍍覆?；瘜W鍍鎳工藝在電子工業(yè)中有重要的地位。由于采用的還原劑種類不同，使化學鍍所得的鍍層性能有明顯的差異，因此，在選定鍍液配方時，要慎重考慮鍍液的經(jīng)濟性及所得鍍層的特性。目前，化學鍍鎳、銅、銀、金、鈷、鈀、鉑、錫以及化學鍍合金和化學復合鍍層，在工業(yè)生產(chǎn)中已被采用?；瘜W鍍鎳可以在非金屬表面上進行。

化學鍍鎳在電子和計算機工業(yè)中應用得非常廣，幾乎涉及到每一種化學鍍鎳技術和工藝。許多新的化學鍍鎳工藝和材料正是根據(jù)電子和計算機工業(yè)發(fā)展的需要而研制開發(fā)出來的。在技術性能方面，除要求耐蝕耐磨之外，還具有可焊接、防擴散性、電性能和磁性能等要求。電子設備的塑料外殼上鍍銅，然后化學鍍鎳，這樣的雙金屬結(jié)構覆層，被公認為是非常有效的屏蔽方式之一?；瘜W鍍鎳是計算機薄膜硬磁盤制造中的關鍵步驟之一。鍍層必須均勻、光滑，表面上的任何缺陷和突起不得超過0.025um。因為技術要求高所以必須使用高質(zhì)量高清潔度的專門用的化學鍍液、全自動的施鍍控制設備和高清潔度的車間環(huán)境。計算機薄膜硬磁盤化學鍍鎳是高技術化學鍍鎳的典型表率，占有相當重要的市場份額?；瘜W鍍鎳技術處理后的合金層與金屬基件結(jié)合強度增大。和林格爾化學鍍鎳值得推薦

化學鍍鎳可以在金屬表面施鍍。正鑲白旗化學鍍鎳來電咨詢

化學鍍鎳在金屬表面的應用工藝：阻截除油。阻截除油是一種有別于“吸咐除油”的全新升級油水分離器技術性重要理念，著眼于用有機化學方式產(chǎn)品研發(fā)出的一種復合型改性材料特材，這類室內(nèi)空間態(tài)阻截膜處在水飽和狀態(tài)的工作狀況下，具備下列獨特基本功能:對油和水具備極其比較敏感的辨別區(qū)別工作能力;具備回絕燃料黏附的反跳工作能力;向阻截膜施加單邊壓力時能上水粒有導向性地換置根據(jù)，進而主要表現(xiàn)出“水淋油但是”的獨特作用天然屏障效用。金屬表面處理劑的堿性清洗劑硅酸鈉有膠溶、分散等作用，清洗效果較好。正鑲白旗化學鍍鎳來電咨詢

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