◆半導體制造需要接近理論純水的水理論上純水在25°C下的電阻率為18.24MΩ·cm，電導率為0.05482μS/cm。該電導率的值為H20+OH-（公式為2H20=H3O+OH-）即，除了氫離子和氫氧根離子以外，沒有任何電解質，這是因為水本身的解離。對超純水的要求是，電阻率至少與理論純水的電阻率非常接近。實際上，高集成度半導體制造工藝所要求的水質電阻率高達18MΩ·cm以上。例如，在水中溶解1mg/L的Fe離子，其電阻率就會下降到約17MΩ·cm，所以溶解物質的濃度在μgg/L(ppb)的超純水中也會出現問題,隨著半導體產業(yè)的發(fā)展，水質要求是越來越嚴格。超純水設備可以提供低總銀的水供應。臺州半導體用超純水設備

超純水系統設備的脫鹽中心部件為進口反滲透膜組件，超純水系統設備通常由預處理部分，反滲透主機部分，后處理部分共同組成。1、預處理由石英砂過濾器、活性碳過濾器、全自動軟水器、精密過濾器組成(我司采用全自動控制閥頭)，也可選用超濾系統作為預處理，但通常工程造價要高。預處理主要目的是去除原水中含有的泥沙，鐵銹、膠體物質、懸浮物、色度、異味、生化有機物。當原水中硬度較高時，可選擇全自動軟水器，這樣有效的保護了反滲透膜，從而延長了反滲透膜的使用壽命。2、反滲透主機主要由高壓泵、膜殼、進口反滲透膜組件，在線儀表、控制電氣等組成。只要膜的數量及泵的型號選型得當，反滲透主機脫鹽率及產水量都能達到額定指標，出水電導率可保證在≤10us.CM以下，(原水電導率小于500us/cm,工作溫度：1～40℃)3、后處理部分是對反滲透制取的純水作進一步的深化處理以制取超純水，通常是離子交換混床設備或EDI設備，根據客戶要求，出水阻率可達到18.2MΩ.CM，如果是應用在直飲水工藝上，則加上殺菌裝置即可，通常為紫外線殺菌器或者臭氧發(fā)生器，從而使生產出來的水達到直飲標準。臺州半導體用超純水設備超純水設備可以提供低總鎘的水源。

用途不同一超純水設備的用途超純材料和超純試劑的生產和清洗。2、電子產品的生產和清洗。3、電池產品的生產。4、半導體產品的生產和清洗。5、電路板的生產和清洗。6、其他高科技精細產品的生產。（二）純水設備的用途：1、電廠化學水處理2、電子、半導體、精密機械行業(yè)超純水3、食品、飲料、飲用水的制備4、小型純水站，團體飲用純水5、精細化工、精尖學科用水6、其他行業(yè)所需的高純水制備7、制藥工業(yè)工藝用水8、海水、苦咸水的淡化

停止使用時，應及時用清水沖凈管道中的殘液，否則殘液變質后會影響下個班次的產品質量，必要時應卻下輸液塑料管用毛別拉刷，并及時擦試干凈機器，保持干燥整潔。清掃、檢查。調整電器相關部分，檢查電器接觸是否良好，接線是否牢固可靠。及時清洗，擦拭設備內外表面的死角部位，表面污垢，對純凈水設備過濾濾芯進行定期反洗。解析超純水設備的處理步驟超純水設備是綜合了各種技術優(yōu)勢而組成的設備，出水穩(wěn)定、水質好、同時無廢水，化學污染排放，有利于節(jié)水和環(huán)保，是水處理技術綠色我們就一起分析一下超純水設備的處理步驟是怎么的，讓您對超純水設備有更的認識。超純水設備超純水設備可以提供低總鉛的水供應。

采用兩級反滲透方式原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透→PH調節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點3、采用EDI方式原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點超純水設備是采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。超純水設備可以提供低總鎳的水源。臺州半導體用超純水設備

超純水設備可以提供低總鎘的水供應。臺州半導體用超純水設備

模塊更換方便模塊的一般壽命高于3-5年；備用模塊儲存方便。的鋁板能良好的保護模塊、管道和食品不受損壞。更換超純水設備模塊簡單、快捷。5產水純度更高在進水低于40us/cm時，產水一般超過10~15MΩ.cm(25℃)，不受產水量波動的影響。6回收率更高如果水的硬度以CaCo3計小于1ppm時，回收率可達到90-95%；C室廢水的濃度約為300-400us/cm，排出時接近中性。該部分水可進入前級RO系統再使用；如果水的硬度超過1ppm的CaCo3會在C室產生結垢，從而影響工作。在這種情況下，進入EDI超純水設備之前的工藝要進行調整以降低硬度。硬度較高的水源建議采用軟化器。臺州半導體用超純水設備