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安徽離子束輔助沉積射頻離子源

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-18

【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理。系統(tǒng)原理通過電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材,使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統(tǒng)配置*自動化控制器:e-ControlPLC,是控制系統(tǒng)的硬件平臺。人機(jī)界面硬件:TPC1503工業(yè)級15寸觸摸式平板電腦,穩(wěn)定可靠。人機(jī)界面軟件:NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺,提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域。安徽離子束輔助沉積射頻離子源

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,對基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層:靶材蒸發(fā)的結(jié)果,VM膜層可導(dǎo)電,NCVM鍍層不導(dǎo)電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時(shí)對真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。天津離子束濺射射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)的生產(chǎn)廠家。

【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化:主要是鋁的陽極氧化,是利用電化學(xué)原理,在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3(氧化鋁)膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性適用材料:鋁、鋁合金等鋁制品工藝成本:生產(chǎn)過程中,水、電的消耗是相當(dāng)da的,特別是在氧化工序。機(jī)器本身的熱耗,需要不停地用循環(huán)水進(jìn)行降溫,噸電耗往往在1000度左右。環(huán)境影響:陽極氧化在能效方面不算出色,同時(shí)在鋁電解生產(chǎn)中,陽極效應(yīng)還會產(chǎn)生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例,它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí),要保證被檢系統(tǒng)處于一個壓力不變的動態(tài)平衡狀態(tài),將示漏氣體噴吹于可疑處(也可能用有機(jī)溶劑涂抹,但易吸附、堵塞漏孔,并造成污染)。一旦有漏孔存在,示漏氣體會通過漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng),因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da,會引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化,熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會發(fā)生波動變化,根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地,電離真空計(jì)法利用的即是示漏氣體進(jìn)入后導(dǎo)致的離子流變化來進(jìn)行換算。真空系統(tǒng)檢漏中應(yīng)用真空計(jì)檢漏法要考慮示漏氣體種類與真空計(jì)的特性的配合,選擇示漏氣體對應(yīng)的特性差異要明顯有別于原有氣體成分,如熱傳導(dǎo)真空計(jì)的熱傳導(dǎo)能力、電離真空計(jì)的電離電位。其次為便于準(zhǔn)確地觀察前后數(shù)據(jù)變化,要保證被檢前被檢系統(tǒng)壓力處于穩(wěn)定的平衡狀態(tài),測量的真空計(jì)規(guī)管也要處于穩(wěn)定的狀態(tài),防止虛假數(shù)據(jù)誤導(dǎo)。同時(shí)真空計(jì)規(guī)管存在惰性,需要觀察足夠的時(shí)間。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否,可分為導(dǎo)電真空鍍膜(VM)和不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導(dǎo)電,一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個月以上,抽的速度會顯然變慢,當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機(jī)。在重新開機(jī)前,要注意檢漏工作。首先啟動維持泵,關(guān)好da門,數(shù)分鐘后,觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)是什么?吉林離子束濺射射頻離子源制造生產(chǎn)

光學(xué)真空鍍膜機(jī)制造商。安徽離子束輔助沉積射頻離子源

【真空鍍膜真空的基本概念】:真空的劃分:粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr極高真空<10E&12Torr流導(dǎo)(導(dǎo)通量):表示真空管道通過氣體的能力,單位為升/秒(L/S)。一般情況下,管道越短,直徑越da,表面越光滑,越直的管道流導(dǎo)也越da。流量:單位時(shí)間內(nèi)流過任意截面的氣體量,單位為Torr·L/s或Pa·L/s。抽氣速率:在一定的壓強(qiáng)和溫度下,單位時(shí)間內(nèi)由泵進(jìn)氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率,簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。極限真空:真空容器經(jīng)充分抽氣后,穩(wěn)定在某一真空度,此真空度稱為極限真空。安徽離子束輔助沉積射頻離子源

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