【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度:10~30℃2、相對(duì)濕度:不da于70%3、冷卻水進(jìn)水溫度:不高于25℃4、冷卻水質(zhì):城市自來(lái)水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V,頻率波動(dòng)范圍49~51Hz;6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說(shuō)明書(shū)上寫(xiě)明。7、設(shè)備周?chē)h(huán)境整潔、空氣清潔,不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。此外,真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車(chē)間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無(wú)塵埃。為防止機(jī)械泵工作時(shí)排出的氣體對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的污染,可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道(金屬、橡膠管)的辦法,將氣體排出室外。射頻離子源采用高頻電場(chǎng)來(lái)加速和離子化氣體分子,產(chǎn)生高能離子束。吉林光學(xué)薄膜射頻離子源多少錢(qián)
【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng),在此區(qū)電子密度高,進(jìn)而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí)),濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室,排氣系統(tǒng),濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputtergun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30-40%,圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse),直流:800-1000V(Max)導(dǎo)體用,須可災(zāi)弧。射頻:13.56MHZ,非導(dǎo)體用。脈沖:泛用,新發(fā)展出江蘇離子束輔助沉積射頻離子源制造生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)類(lèi)型推薦。
【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之氮?dú)鉀_洗】氮?dú)庠诓牧媳砻嫖綍r(shí),由于吸附能小,因而吸留表面時(shí)間極短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮?dú)獾倪@種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng),可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時(shí)間。如真空鍍膜機(jī)在放入da氣之前,先用干燥氮?dú)獬淙胝婵帐覜_刷一下再充入da氣,則下一抽氣循環(huán)的抽氣時(shí)間可縮短近一半,其原因?yàn)榈钟璧奈侥苓h(yuǎn)比水氣分子小,在真空下充入氮?dú)夂?,氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的,先被氮分子占滿了,其吸附的水分子就很少了,因而使抽氣時(shí)間縮短了。如果系統(tǒng)被擴(kuò)散泵油噴濺污染了,還可以利用氮?dú)鉀_洗法來(lái)清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行烘烤加熱,一邊用氮?dú)鉀_洗系統(tǒng),可將油污染消除。
射頻中和器采用L型接法匹配:匹配速度快,效率高,點(diǎn)火更優(yōu)。源頭和中和器結(jié)構(gòu)經(jīng)常拆解部分的內(nèi)六角進(jìn)行電鍍及消氣處理,防止拆卸過(guò)程卡死,備件及耗品重復(fù)利用率高。射頻電源及控制部分單獨(dú)裝配在一個(gè)電柜內(nèi),RF線纜做防輻射和泄漏處理,避免對(duì)通訊、控制信號(hào)的干擾,同時(shí)也做良好的散熱處理。直流電源電壓紋波做了二次濾波處理,高壓輸出的紋波小于50mV,離子源束流的穩(wěn)定性和重復(fù)性較好,鍍膜的產(chǎn)品的折射率更穩(wěn)定。射頻部分匹配采用了硬件反饋和軟件提前記憶并預(yù)判的技術(shù);直流引入快速滅弧技術(shù),同時(shí)提高了射頻和直流部分的穩(wěn)定性,軟件設(shè)置了自檢和自診斷功能,即:使用前系統(tǒng)自檢,使用中即時(shí)刷新,對(duì)非調(diào)整性輸入的變化提前警報(bào)并告知客戶做好預(yù)案。紅外真空鍍膜機(jī)制造商。
【真空鍍膜機(jī)沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳?xì)浠衔镂廴?。通常對(duì)于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運(yùn)行后),由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定,這時(shí)對(duì)它們進(jìn)行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳?xì)浠衔锏奈廴?,通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應(yīng)氣體工藝,可以進(jìn)行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳?xì)浠衔锏奈廴?其清洗機(jī)理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對(duì)金屬表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì),表面反應(yīng)速率的da小通過(guò)調(diào)整反應(yīng)氣體的壓力和溫度來(lái)控制。對(duì)于每一種基材而言,精確的參數(shù)要通過(guò)實(shí)驗(yàn)來(lái)確定.對(duì)于不同的結(jié)晶取向,這些參數(shù)是不同的。真空鍍膜機(jī)的工作原理和構(gòu)成。河北光學(xué)鍍膜射頻離子源生產(chǎn)廠家
成都國(guó)泰真空鍍膜機(jī)怎么樣?吉林光學(xué)薄膜射頻離子源多少錢(qián)
【真空鍍膜的分類(lèi)】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否,可分為導(dǎo)電真空鍍膜(VM)和不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類(lèi)、NB類(lèi)、3C類(lèi)、汽配類(lèi)按鍵、裝飾框、按鍵RING類(lèi)飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導(dǎo)電,一般用在通訊類(lèi)、3C類(lèi)對(duì)抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類(lèi)飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上,抽的速度會(huì)顯然變慢,當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤(pán),將一級(jí)噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤(pán),便可以重新開(kāi)機(jī)。吉林光學(xué)薄膜射頻離子源多少錢(qián)
成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司專(zhuān)注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。一批專(zhuān)業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),是實(shí)現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標(biāo)的基礎(chǔ),是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動(dòng)力。公司業(yè)務(wù)范圍主要包括:光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備等。公司奉行顧客至上、質(zhì)量為本的經(jīng)營(yíng)宗旨,深受客戶好評(píng)。公司深耕光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備,正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。