【濺射鍍膜定義】:定義:所謂濺射,就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下,形成氣體等離子體(輝光放電),其中的陽(yáng)離子在電場(chǎng)力作用下高速向靶材沖擊,陽(yáng)離子和靶材進(jìn)行能量交換,使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出(其中逸出的還可能包含靶材離子)。這一整個(gè)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程,就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時(shí),將其部分能量傳輸給表層晶格原子,引起靶材中原子的運(yùn)動(dòng)。有的原子獲得能量后從晶格處移位,并克服了表面勢(shì)壘直接發(fā)生濺射;有的不能脫離晶格的束縛,只能在原位做振動(dòng)并波及周圍原子,結(jié)果使靶的溫度升高;而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖,將其臨近的原子碰撞移位,反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖,這一過(guò)程稱為級(jí)聯(lián)碰撞。級(jí)聯(lián)碰撞的結(jié)果是部分原子達(dá)到表面,克服勢(shì)壘逸出,這就形成了級(jí)聯(lián)濺射,這就是濺射機(jī)理。當(dāng)級(jí)聯(lián)碰撞范圍內(nèi)反沖原子密度不高時(shí),動(dòng)態(tài)反沖原子彼此間的碰撞可以忽略,這就是線性級(jí)聯(lián)碰撞。真空鍍膜機(jī)技術(shù)教程。云南真空鍍膜設(shè)備日本廠商
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜臟】: 顧名思義,膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括:灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。 改善對(duì)策:檢討過(guò)程,杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過(guò)多的不良附著物。 2. 加強(qiáng)鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境,防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習(xí)慣,防止鏡片污染。 5. 加快真空室護(hù)板更換周期。 6. 充氣管道清潔,防止氣體充入時(shí)污染。 7. 初始排期防渦流(湍流),初始充氣防過(guò)充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運(yùn)過(guò)程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機(jī)作業(yè)面板和主機(jī)隔開(kāi),減少主機(jī)產(chǎn)生的有害物質(zhì)污染鏡片。安徽真空鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障成都國(guó)泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣?
【真空鍍膜設(shè)備之真空的測(cè)量】: 真空計(jì): A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對(duì)流規(guī): 用來(lái)測(cè)粗真空的真空計(jì),從大氣到1E&5Torr,精度一般在10%,皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應(yīng)較慢,受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī): 用來(lái)測(cè)高真空或超高真空的真空計(jì),熱燈絲的離子規(guī)測(cè)量范圍一般從1E&4到1E&9Torr,特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr,精度在10%~20%,燈絲在工作時(shí)遇到大氣會(huì)燒毀;冷陰極的離子規(guī)一般可以測(cè)到1E&11Torr,精度在20%~50%,特別是超高真空下測(cè)量精度很差,需要高壓電源,探頭內(nèi)有磁鐵,使用時(shí)不能用于某些無(wú)磁的場(chǎng)合。 C、電容式壓力計(jì): 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr,動(dòng)態(tài)范圍大約104范圍,比如,1Torr量程的Zui低是5E&4Torr,通常精度在讀數(shù)的0.25%,可以高到0.15%。 D、寬量程真空計(jì): 皮拉尼規(guī)和熱燈絲離子規(guī)的組合,兩個(gè)規(guī)可以自動(dòng)切換,在低真空時(shí)切換到皮拉尼規(guī),高真空時(shí)可切換到離子規(guī)。
真空鍍膜真空濺射法】:真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展,濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展,在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為:稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下,對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊,把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái),被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能,沿一定的方法射向基體表面,在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為:鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng);鍍膜層致密、均勻;設(shè)備簡(jiǎn)單,操作方便,容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。成都真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?
【真空鍍膜之真空的概念】: “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài),也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài),就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)(STP:即0℃,101325Pa,也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,760Torr)下,氣體的分子密度為2.68E24/m3,而在真空度為1.33E&4 Pa(1E&6Torr)時(shí),氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒(méi)有氣體的空間狀態(tài)為Jue對(duì)真空。Jue對(duì)真空實(shí)際上是不存在的。真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢?遼寧新北硅膠真空鍍膜設(shè)備
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【濺射鍍膜定義】: 定義:所謂濺射,就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下,形成氣體等離子體(輝光放電),其中的陽(yáng)離子在電場(chǎng)力作用下高速向靶材沖擊,陽(yáng)離子和靶材進(jìn)行能量交換,使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出(其中逸出的還可能包含靶材離子)。這一整個(gè)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程,就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時(shí),將其部分能量傳輸給表層晶格原子,引起靶材中原子的運(yùn)動(dòng)。有的原子獲得能量后從晶格處移位,并克服了表面勢(shì)壘直接發(fā)生濺射;有的不能脫離晶格的束縛,只能在原位做振動(dòng)并波及周圍原子,結(jié)果使靶的溫度升高;而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖,將其臨近的原子碰撞移位,反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖,這一過(guò)程稱為級(jí)聯(lián)碰撞。級(jí)聯(lián)碰撞的結(jié)果是部分原子達(dá)到表面,克服勢(shì)壘逸出,這就形成了級(jí)聯(lián)濺射,這就是濺射機(jī)理。當(dāng)級(jí)聯(lián)碰撞范圍內(nèi)反沖原子密度不高時(shí),動(dòng)態(tài)反沖原子彼此間的碰撞可以忽略,這就是線性級(jí)聯(lián)碰撞。云南真空鍍膜設(shè)備日本廠商